正畸种植支抗稳定性的研究进展

近十余年来,种植体支抗逐渐成为口腔正畸的热门技术,在各种加强支抗的装置中,微种植支抗是当今最受关注的焦点之一.作为正畸支抗来源的微型种植体（micro-implantanchorage,MIA）,由于体积小,植入位置灵活,操作简单,外科损伤小等优势,受到越来越多的正畸医生的青睐.植入后在完成矫治目标前能否保持稳定,不移位或不脱落,是种植支抗应用的关键.很多学者就种植体稳定性的进行了大量的研究,,我们就近年来就关于种植支抗稳定性的相关因素的研究进展作一综述．     

种植体基台表面改进研究

在种植义齿结构中,种植体基台位于上部义齿与下部种植体之间,对种植义齿的稳定性、固定性以及美观性等方面起着重要作用。近年来,人们在重视植入材料的生物相容性及骨整合界面的同时,逐渐认识到种植修复成功的另一关键因素,即种植体基台表面的改进。本文就此内容予以综述。     

种植体支抗整体远中移动下颌牙列治疗骨性Ⅲ类错牙合的疗效评价

目的：研究使用种植体支抗整体远中移动下颌牙列治疗骨性Ⅲ类错牙合畸形的疗效。方法：选择轻到中度骨性Ⅲ类错牙合患者20例,男性8例,女性12例,年龄16~38岁,平均（21.5±5.6）岁。采用直丝弓矫治技术,使用下颌外斜线区种植体支抗整体远中移动下颌牙列。患者在治疗前后拍摄X线头颅定位侧位片,对共计26个软硬组织测量项目进行测量分析。结果：矫治结束后患者磨牙关系均达到中性关系,侧貌改善。治疗后ANB角增大（0.80±1.02）°,P＜0.05,Wits值增大（1.67±1.74） mm,P＜0.05;L1 NB距离减小（2.64±1.50） mm,P<0.05;下颌第一磨牙近中颊尖远中移动（3.26±1.95） mm,P<0.05;下颌第一磨牙近中根尖远中移动（0.79±1.27） mm, P<0.05;下颌第二磨牙近中颊尖远中移动（3.06±1.80） mm,P<0.05。下颌牙齿与下颌平面的夹角：L1/MP角度减小(6.37±8.53)°,L5/MP角度减小(10.59±8.50)°,L6/MP角度减小(11.48±7.22)°,L7/MP角度减小(15.72±7.16)°,差异均有统计学意义（P<0.05）;下唇和审美平面距离减小(1.70±1.59) mm, P<0.05。结论：种植体支抗整体远中移动下颌牙列能够有效治疗恒牙期骨性Ⅲ类错牙合,侧貌改善良好;下颌牙齿发生有控制的倾斜移动。     

微型种植体支抗在青少年口腔正畸治疗中的应用

目的探究在青少年口腔正畸患者中使用微型种植体支抗所能取得的临床治疗效果。方法选取2014-10—2016-10期间于濮阳市第三人民医院就诊的70例青少年口腔正畸患者,按照治疗方法的不同为患者分组:接受常规治疗的35例患者归入对照组,使用微型种植体支抗的35例患者归入研究组。组间对比治疗效果及相关指标。结果研究组的磨牙位置为(3.50±0.06)mm,上中切牙倾角为(29.01±2.56)°,上中切牙凸距差为(4.72±0.78)mm,不良反应率为2.86%;对照组则分别为磨牙位置(6.52±0.31)mm、上中切牙倾角(9.77±1.98)°、上中切牙凸距差(2.12±0.13)mm、不良反应率为28.57%。研究组优于对照组,差异有统计学意义(P<0.05)。结论相较于常规疗法,为存在口腔正畸的青少年患者使用微型种植体支抗进行治疗可以取得更加优秀的治疗效果,患者口腔空间解剖关系将会更加合理。     

微种植体与J钩内收上前牙后的切牙位置变化比较

目的 比较微种植体支抗和头帽J钩内收上前牙后上颌切牙及支抗磨牙位置变化的差异.方法 选择24例安氏Ⅱ1上颌前突患者,随机分为微种植体组和J钩组各12例,微种植体组在上颌第二前磨牙和第一磨牙牙根间植入微种植体支抗,内收上前牙,J钩组使用头帽J钩内收上前牙,比较两种支抗方式矫治前后X线头影测量的变化.结果 矫治后,两组上中切牙切缘至RL距离以及上中切牙角均减小,微种植体组减少更明显,上切牙内收且直立,差异具有统计学意义(P<0.05);两组上中切牙切缘至腭平面距离均减小,上切牙被压低,J钩组压低更显著,两组间比较差异具有统计学意义(P<0.05);J钩组上磨牙至RL距离、腭平面距离明显增大,上磨牙近中移动、伸长,微种植体组增大不明显,两组间比较差异具有统计学意义(P<0.05).结论 微种植体支抗内收上颌切牙效果显著,支抗磨牙前移较少,是稳定有效的骨性支抗,但植入在牙槽骨后段的微种植体压低上前牙的作用却不及头帽J钩,严重的深覆深覆盖应考虑两种支抗方式的联合应用.     

轻力结合微种植体支抗快速矫治上颌前突错效果观察

目的：探讨轻力结合微种植体支抗快速矫治安氏Ⅱ类错的效果。方法将梧州市红十字会医院口腔科2013年7月至2014年9月收治的30例上颌前突错患者作为研究对象,按照入组先后顺序采用单双号数字法分为观察组与对照组,每组各15例。对照组采用Roth直丝弓托槽结合微种植体支抗矫治,观察组采用轻力结合微种植体支抗矫治,比较两组患者的矫治治疗时间,矫治前及矫治后的SNA角、SNB角、ANB角、U1-SN角、U1-NA角、L1-NB角、L1-MP角及U1-NA、L1-NB、L1-MP、L6-MP距离。结果观察组患者治疗时间为(20.6±1.6)个月,明显少于对照组的(25.6±1.4)个月,差异有统计学意义(P<0.05);观察组和对照组患者治疗后的U1-NA角[(25.16±3.84)° vs (28.94±4.72)°]、L1-MP角[(99.41±3.56)°vs (103.46±3.22)°]、L1-NB角[(23.71±6.19)° vs (28.62±6.09)°]、L1-MP [(34.69±2.21) mm vs (36.84±2.49) mm]比较,观察组均明显低于对照组,差异均有统计学意义(P<0.05);观察组患者的L6-MP为(32.19±2.86) mm,明显高于对照组的(29.46±2.31) mm,差异有统计学意义(P<0.05)。结论轻力结合微种植体支抗快速矫治与Roth直丝弓托合微种植体支抗治疗比较,其可有效缩短治疗时间,内收上前牙及控制上前牙的唇倾程度,增加下颌的顺时针旋转程度、后牙升高程度。     

种植体支抗关闭拔牙间隙磨牙位移趋势的有限元研究

目的 运用三维有限元方法分析种植体支抗滑动法关闭拔牙间隙时上颌第一磨牙的Von Mises等效应力及位移变化趋势.方法 建立三维有限元模型,模拟临床种植体支抗滑动法关闭拔牙间隙,分析牵引力为1.5N时,种植体距离弓丝不同高度(6、8、10、12 mm)与牵引钩距离弓丝不同高度(1、4、7、10 mm)时,上颌第一磨牙Von Mises等效应力及位移变化趋势.结果 当种植体高度大于或等于牵引钩高度时,上颌第一磨牙根分叉处应力值最大;小于牵引钩高度时,应力分布出现在颊侧颈部,且腭根的腭侧应力值变小.上颌第一磨牙位移趋势为:X轴,磨牙向远中旋转,且旋转角度随牵引钩高度的增加而变大;Y轴,磨牙向远中倾斜、旋转,且倾斜角度随牵引钩高度的增加而增大;Z轴,磨牙近中向验方倾斜移动,且倾斜位移随牵引钩高度增加而增加.结论 上颌第一磨牙的应力分布变化与种植体植入高度及牵引钩高度有关;其位移变化趋势为磨牙向远中倾斜和旋转,其倾斜的方向与种植体高度和牵引钩高度有关.     

窄直径种植体应用于上颌中切牙牙列缺损种植修复的研究

目的 探讨窄直径种植体应用于上颌中切牙牙列缺损种植修复的临床意义.方法 收集上颌中切牙牙列缺损患者60例,所有患者进行窄直径种植体应用于上颌中切牙牙列缺损种植修复,观察患者手术前、手术后、修复前和修复后随访3个月CPB值差异.CPB为CP(邻接点)与BC(牙槽嵴顶)的距离,主要用于衡量该距离对单个上颌中切牙种植修复后龈乳头美观的影响.结果 60例患者经过3个月愈合期后,有59例患者种植牙稳定,1例患者具有稍微的松动,种植牙成功率98.33%.50例患者在6个月的随访期种植牙均无松动、脱落以及炎症等变化.手术后与修复前CPB平均值变化范围-0.16~0.67 mm,平均为(0.24±0.13)mm,差异具有统计学意义(t=2.123,P=0.043).结论 上颌中切牙牙列缺损使用窄直径种植体可以显著的满足患者美学要求,并且由于最大限度应用原有的牙槽骨,所以并发症较少.     

微型种植体支抗和非种植体支抗在青少年口腔正畸治疗中的效果对比

目的 比较微型种植体支抗和非种植体支抗在青少年口腔正畸治疗中的效果.方法 选取该院于2012年9月—2015年8月收治的青少年错牙合畸形患者260例,将其随机分成观察组与对照组,每组130例,观察组患者采用微型种植体支抗治疗,对照组患者采用非种植体支抗治疗.治疗后,对两组的治疗效果与不良反应进行对比分析.结果 治疗后,观察组上中切牙凸距差为(4.1±1.3)mm,对照组上中切牙凸距差为(2.2±0.9)mm,观察组的磨牙位移(3.7±0.3)mm,观察组的磨牙位移(6.1±0.6)mm,两组结果比较其差异有统计学意义(P<0.05);观察组与对照组错牙合畸形正畸治疗术后的不良反应相比较,其差异有统计学意义(P<0.05).结论 对于青少年口腔正畸治疗采用微型种植体支抗的效果显著好于非种植体支抗,且不会增加不良反应,值得临床应用与推广.     

牙周炎患者种植义齿修复后口腔自我维护的临床观察

目的：探讨菌斑显示剂在牙周炎患者种植义齿修复后口腔维护中的作用。方法整群选择2013年5月—2015年2月在医院进行义齿修复的62例患者共78颗种植体作为研究对象,随机分为观察组和对照组,每组31例39颗种植体。在修复后的口腔自我维护中,对照组给予一般维护,观察组在此基础上给予菌斑显示剂,比较两组患者的牙周参数和种植体周围黏膜炎发生率。结果种植体完成修复2周后,两组患者PLI、SBI、PD和菌斑指数与对照组相较差异无统计学意义(P>0.05);修复3个月后所有患者观察组PLI、SBI、PD和菌斑指数均优于对照组(P<0.05);种植修复后1年内,观察组种植体周围粘膜炎平均发生率为45.6%,对照组为59.4%,差异有统计学意义(P<0.05)。结论系统的口腔自我维护能够显著降低牙周炎患者种植体周围黏膜炎的发生率,使用菌斑显示剂让患者对菌斑有良好的自我控制效果显著。