抛光与上釉对牙科纳米陶瓷表面粗糙度的影响

目的比较抛光与上釉对纳米陶瓷表面粗糙度的影响。方法用纳米陶瓷粉(IMAGINEREFLEX)制备盘状试件40个,随机分为A、B两组。A组抛光组用240#~1500#碳化硅砂纸依次逐级打磨,最后用金刚砂抛光膏完成抛光。B组上釉组重新表面上釉。以粗糙度测试仪测试两组试件表面分别经抛光和表面上釉后表面粗糙度值并进行统计学分析,扫描电镜观察和评估样本表面形貌。结果纳米陶瓷IMAGENEREFLEX抛光组和上釉组表面粗糙度值无显著性差异(P>0.05);扫描电镜结果显示抛光组和上釉组表面无明显差异,均较为光滑,抛光组表面散在少量细小孔隙。结论对于纳米陶瓷的表面处理,抛光可以获得和重新上釉相同的表面光滑度。     

不同抛光时长对氧化锆表面粗糙度和表面晶相的影响

目的:比较不同抛光时长对氧化锆表面粗糙度和晶相结构的影响.方法:氧化锆锆盘切割烧结制作锆片试件30个,烧结试件后表面使用500目砂纸进行同质性处理后在水冷状态下使用金刚砂车针进行表面调磨20 s,模拟临床调牙合过程,分为调磨未抛光组(GR组),调磨后上釉组(GL组),调磨后使用TOB套装抛光,每步骤抛光时长20 s(T...     

五种抛光方法对玻璃陶瓷表面粗糙度的影响研究#br#

目的    比较临床上5种常用抛光方法对IPS e.max Press玻璃陶瓷调磨后表面粗糙度的影响。方法    选取临床常用修复材料IPS e.max Press玻璃陶瓷制作试件30个,随机分成6组（每组5个试件）,分别为对照组（常规上釉）、砂石组（绿色碳化硅砂石+氧化铝白砂石依次混合打磨抛光）、松风组（松风Ceramaster精细烤瓷砂石抛光）、EVE组（EVE氧化锆砂石抛光）、道邦组（道邦弹性瓷砂石抛光）、3M组（3M Sof-LexTM抛光套装）。常规调磨后按照各自不同的整体抛光打磨方法分别对试件表面依次进行抛光,扫描电镜下观察各组抛光后试件的表面形态,检测各组抛光后试件的表面粗糙度Ra值。结果　扫描电镜下观察可见3M组和道邦组抛光后试件表面较为平整光滑,划痕较少,与对照组类似;而砂石组和松风组试件表面划痕明显并伴有明显的凹坑;EVE组划痕较少且划痕条纹较平整,方向一致,有少许凹痕较对照组明显。各组抛光后试件的表面粗糙度Ra值由小到大顺序排列为：3M组［（0.207 ± 0.016）μm］、对照组［（0.208 ± 0.015）μm］、道邦组［（0.216 ± 0.025）μm］、EVE组［（0.315 ± 0.017）μm］、松风组［（0.375 ± 0.030）μm］、砂石组［（0.379 ± 0.017）μm］;砂石组、松风组、EVE组Ra值均明显大于对照组（均P < 0.05）,而3M组、道邦组与对照组之间的差异无统计学意义（P > 0.05）。结论　5种抛光方法均能有效改善玻璃陶瓷表面粗糙度,不同抛光方法对IPS e.max Press玻璃陶瓷的抛光效果有一定的差异,以3M Sof-LexTM抛光套装抛光效果较佳。     

抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响

目的：比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法，对陶瓷表面平滑度产生的影响。方法：分别以SEM和粗糙度测试仪，对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析。试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法。结果：SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似。经粗糙度测试仪测得的Ra值，抛光组为0.412μm，自上釉组为0．417μg。两者比较未见显著性差异（P＞0．05），且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性。结论：采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面。     

表面抛光和上釉对Y-TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

目的研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响。方法制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理。测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量。结果抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05)。被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。结论上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度。抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面。     

不同打磨及上釉方法对烤瓷表面性状的影响

目的:比较不同上釉方法,以及不同打磨方法处理后进行上釉的陶瓷表面的粗糙度和光泽度.方法:按照不同的上釉方法以及上釉前的打磨方法将试件分为6 组.对处理后的试件进行表面粗糙度和镜面光泽度测试并进行统计学分析.结果:采用绿砂石打磨后再上釉的A1、B1组瓷表面粗糙度高于其它各组(P＜0.05),经绿砂石打磨后的瓷表面采用常规上釉的B1组粗糙度低于自身上釉的A1组(P＜0.05), 经绿砂石打磨后采用Softcut抛光头处理配合上釉的瓷表面(A2、B2组)与直接上釉的瓷表面(A、B组)粗糙度没有明显差异(P＞0.05).所有实验组的瓷表面光泽度之间无显著性差异(P＞0.05).结论:不同上釉方法,以及不同打磨方法处理后再进行上釉对陶瓷表面的粗糙度有显著影响,而对相应的光泽度没有显著影响.     

纳米陶瓷与传统牙科陶瓷抛光性能的对比研究

目的：比较纳米陶瓷IMAGINE REFLEX与传统牙科陶瓷的抛光性能。方法：抛光过程中以粗糙度测试仪分别测试纳米陶瓷（IMAGINE REFLEX）和传统牙科陶瓷（VITA VMK 95）试件表面经240目，400目，600目，800目．1000目，1200目，1500目碳化硅水砂纸每级抛光后的粗糙度值并进行统计学分析。扫描电镜（SEM）观察试件表面形貌。结果：经相同目数砂纸抛光后，纳米陶瓷的粗糙度值显著低于传统陶瓷（P〈0．05）；纳米陶瓷在经400目、800目砂纸抛光后分别与传统陶瓷在经800目、1500目砂纸抛光后粗糙度值比较无显著性差异（P〉0．05）；SEM测试结果显示纳米陶瓷表面抛光后更为光滑规则，孔隙少而小。随着抛光粒度的逐级精细，两组瓷样本的表面粗糙度值稳步下降，在240目到800目阶段下降趋势明显，800目到1500目阶段下降趋势变缓；结论：纳米陶瓷IMAGINE REFLEX较传统牙科陶瓷Vita VMK95具有更好的抛光性能；在临床瓷修复体抛光时，抛光粒度越精细，越能获得理想的滑泽表面。     

不同的表面处理对Sirona CEKEC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响

目的 比较不同表面处理对Sirona CEREC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响.方法 按照不同的表面处理方式将试件分为7组：对照组（A）、自身上釉组（B）、釉膏上釉组（C）、2组不同松风抛光方案组（D、E）,2组不同EVE抛光方案组（F、G）,测量试件表面处理后的粗糙度值,体视显微镜定性分析试件表面形貌.结果 各组粗糙度值依次为：A组（0.139±0.010）μ m、B组（0.129±0.006）μm、C组（0.090±0.029） μm、D组（0.145±0.009）μ m、E组（0.101±0.007）μ m、F组（0.172±0.016）μ m、G组（0.278±0.027）μ m;A组与C组、D组与E组、D组与G组、E组与F组、E组与G组及F组与G组之间均有显著性差异（P＜0.05）,A组与B组、C组与E组及D组与F组之间均无统计学差异（P＞0.05）：体视显微镜分析结果与粗糙度值分析结果一致.结论 釉膏上釉较其它表明处理方式效果好,不同的抛光工具对Sirona CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,其中松风抛光工具抛光效果堪比釉膏上釉的效果.     

表面离子交换处理对热压铸造陶瓷的硬度和断裂韧性影响的实验研究

目的研究陶瓷表面离子交换处理对热压铸瓷硬度和断裂韧性的影响。方法热压铸造圆形铸造陶瓷试件40个,分为4组,每组10个,放入人工唾液中浸泡1个月。抛光组试件仅打磨、抛光;上釉组试件打磨、抛光后放入烤瓷炉内上釉;离子交换组试件打磨、抛光后上釉,再置于硝酸钾离子交换剂中加热,室温冷却;对照组不作处理。测量计算试件的硬度值和断裂韧性值,并进行统计学分析。结果离子交换组与对照组的硬度值和断裂韧性值差异有统计学意义(P<0.01),抛光组和上釉组与对照组比较差异无统计学意义(P>0.05)。结论离子交换处理方法可以提高热压铸造陶瓷的硬度和断裂韧性。     

抛光及上釉对氧化锆全冠与釉质间磨耗性能的影响

目的 研究抛光、上釉和抛光后上釉对氧化锆全冠与釉质间表面粗糙度和磨耗性能的影响.方法 将氧化锆全冠试件分为抛光组、上釉组和抛光后上釉组,每组各8个试件.釉质组为对照组.将新鲜拔除的上颌第三磨牙近中颊尖作为对颌牙.用表面粗糙度分析这三种处理方法对氧化锆全冠表面粗糙度的影响.通过磨耗试验观察这三种方法处理后的氧化锆全冠表面对釉质的磨耗.结果 表面粗糙度从小到大为抛光氧化锆全冠、抛光后上釉氧化锆全冠、上釉氧化锆全冠和釉质.对于瓷面而言,抛光氧化锆全冠磨耗最少;对于对颌釉质而言,抛光组釉质磨耗最少.结论 抛光组氧化锆全冠对釉质磨耗最小,氧化锆全冠表面粗糙度可帮助诊断其对对颌釉质的磨耗量.     

多种抛光磨头对烤瓷表面粗糙度的影响

目的：比较釉瓷上釉和不同打磨抛光磨头处理后,烤瓷表面粗糙度的不同,为临床选择抛光方法提供实验依据。方法：制作圆盘状瓷片70片,随机分为7组（n ＝10）。以釉瓷上釉作对照为第1组,第2组至第7组均用松风氧化铝白砂石打磨,第2组打磨后不做处理;第3组打磨后使用松风 Ceramiste 烤瓷抛光套装磨头抛光;第4组在第3组的基础上加用松风Ceramaster 精细烤瓷抛光磨头抛光;第5组打磨后使用德国固美（Komer）烤瓷抛光套装磨头抛光;第6组打磨后使用固美氧化锆抛光磨头抛光;第7组打磨后使用德国 EVE 氧化锆抛光磨头抛光。对瓷片进行轮廓算术平均偏差（Ra）、轮廓的微观不平度十点高度（Rz）、最大轮廓峰高（Rp）的测量,使用 SPSS 16．0统计软件对测量值进行单因素方差分析,并采用扫描电镜对表面形态进行观察。结果：第2、3组的 Ra、Rp 值均大于第1组（P ＜0．05）;第4、5、6、7组的 Ra、Rp 值与第1组差异无显著性（P ＞0．05）;第2、3、4、5组的 Rz 值均大于第1组（P ＜0．05）;第6、7组的 Rz 值与第1组无显著性差异（P ＞0．05）。电镜下观察第6、7组与第1组瓷面平整度相似;第4、5组瓷面较平整,凹坑较少;第2、3组瓷面棱脊、凹坑较多。结论：使用打磨颗粒为微米级超细天然金刚砂的抛光磨头能达到类似上釉的效果。     

齿科陶瓷磨抛后表面残余应力的测算与分析

目的：采用显微压痕裂纹法对使用各种打磨、抛光工具处理的陶瓷表面应力状态进行测算.方法：制作相对无应力试件,在不同加载压力下形成压痕裂纹.按照不同的磨抛方法分组,第1组为抛光组,第2～5组为磨光组,第6组为上釉对照组,在电子显微镜下观察压痕并测量裂纹长度.结果：抛光组和上釉组表面残余应力分别为：2.10 Mpa、1.55 Mpa,磨光组表面残余应力分别为：-17.01 Mpa、-7.54 Mpa、-3.24 Mpa、-3.78 Mpa.结论：磨光可使齿科陶瓷表面处于拉应力状态,抛光和上釉可使其转变为压应力状态,有利于提高其机械性能.     

Polishing for glass ceramics: Which protocol?

PurposeThe execution of adjustments on ceramic restorations is sometimes necessary for either correction of occlusion and/or inadequate contours or esthetical improvements. Clinically, the surfaces undergo weariness through fine grinding diamond burs which remove the superficial glazing layer. Several materials for ceramic polishing have been used in an attempt to reach a satisfactory surface smoothness. The aim of this study was to perform a literature review on different polishing protocols of several dental ceramics.Study selectionThis is a literature review performed through scientific articles published between 2004 and 2012, indexed in MEDLINE, PubMed and Scielo databases. The study selected and analyzed a total of 20 relevant articles that evaluated different types of ceramics, polishing treatment and surface roughness.ResultsAfter an extensive literature review, this study observed: 1 – after the rupture of the glazing layer due to the adjustments of the restorations, the best choice for the polishing of the surface will depend on the type of ceramics used; 2 – glazing procedure provide excellent results regarding to the superficial smoothness; however, if reglazing is impossible, either abrasive rubber cups/points or sandpaper discs followed by the use of diamond polishing pastes results in a satisfactory superficial smoothness; 3 – clinical studies that take into account the behavior of the protocols polishing are scarce and should be encouraged; 4 – the large number of variables influence the final outcome of polishing should be considered.ConclusionsThe necessity in standardization of methodologies to enable a comparison among researches.     

不同处理方式对热压铸造增强陶瓷的双轴弯曲强度影响的研究

目的研究不同处理方式对白榴石增强陶瓷的双轴弯曲强度的影响。方法试件的蜡型制作采用将融化的铸造蜡灌注于机械加工模具内,制成厚度和直径一致的蜡型。厚度为2.0 mm、直径为18 mm圆片,共40个。实验分组按照不同处理方式即:打磨和抛光、上釉和离子交换组。以不做打磨、上釉和离子交换的为对照组。根据ASTM标准F394-78.1991(美国材料实验协会)测试试件的双轴弯曲强度。经one-way ANOVA统计分析各实验组。同时辅以扫描电镜、X线衍射仪和能谱分析观察其结构的变化。结果不同处理方法与对照组比较双轴弯曲强度,差异有显著性(P<0.01)。不同处理方法组内的比较双轴弯曲强度,差异有显著(P<0.01)。结论热压铸陶瓷的不同处理均可以增加陶瓷的双轴弯曲强度,而以离子交换处理的影响最大。     

烤瓷表面抛光和上釉对其表面粗糙度及细菌黏附的影响

目的比较不同抛光方法对烤瓷表面粗糙度的影响,以及不同粗糙度烤瓷表面对口腔变异链球菌黏附的影响。方法采用原子力显微镜测量不同抛光方法对瓷表面粗糙度的影响,并通过细菌实验观察不同粗糙度的瓷表面对细菌黏附的影响。结果用抛光膏抛光或者上釉后,瓷面平整且有光泽。无论是表面粗糙度还是表面黏附的细菌数,橡皮轮组都大于抛光膏组和上釉组（P<0.05）。结论建议调改过的瓷表面进行抛光膏抛光或上釉以恢复瓷表面的光滑度和减少口腔致龋菌的黏附。     

Polished versus autoglazed dental porcelain

This study compared the finishes on dental porcelain polished with four different polishing paste systems with oven reglazing and with a porcelain adjustment kit without a polishing paste. The polished/reglazed samples were rated according to quality of finish by independent observers and by scanning electron microscopy. On the basis of visual examination, two of the polishing paste systems tested were found to produce a surface equal to or better than oven glazing. On the basis of SEM examination, oven glazing was found to produce a better surface than the other polishing methods. Not all porcelain polishing systems produce a surface comparable to oven-glazed porcelain, and porcelain polishing systems should be chosen carefully.     

Effect finishing and polishing procedures on the surface roughness of IPS Empress 2 ceramic

Abstract

Objective. To evaluate the surface roughness of IPS Empress 2 ceramic when treated with different finishing/polishing protocols. Materials and methods. Sixteen specimens of IPS Empress 2 ceramic were made from wax patterns obtained using a stainless steel split mold. The specimens were glazed (Stage 0–S0, control) and divided into two groups. The specimens in Group 1 (G1) were finished/polished with a KG Sorensen diamond point (S1), followed by KG Sorensen siliconized points (S2) and final polishing with diamond polish paste (S3). In Group 2 (G2), the specimens were finished/polished using a Shofu diamond point (S1), as well as Shofu siliconized points (S2) and final polishing was performed using Porcelize paste (S3). After glazing (S0) and following each polishing procedure (S1, S2 or S3), the surface roughness was measured using TALYSURF Series 2. The average surface roughness results were analyzed using ANOVA followed by Tukey post-hoc tests (α = 0.01) Results. All of the polishing procedures yielded higher surface roughness values when compared to the control group (S0). S3 yielded lower surface roughness values when compared to S1 and S2. Conclusions. The proposed treatments negatively affected the surface roughness of the glazed IPS Empress 2 ceramic.     

Polishing methods of an alumina-reinforced feldspar ceramic

The purpose of this study was to test the hypothesis that mechanical polishing methods of ceramic surfaces allow similar superficial roughness to that of glazed surfaces. Twenty-five Vitadur Alpha ceramic discs (5 mm x 2 mm) were prepared according to the manufacturer's specifications. All specimens were glazed and randomly assigned to 5 groups (n=5), according to finishing and polishing protocols: G1: glazed (control); G2: diamond bur finishing; G3: G2 + silicon rubber tip polishing; G4: G3 + felt disc/diamond polishing paste; G5: G3 + felt disc impregnated with fine-particle diamond paste. Next, surface roughness means (Ra - microm) were calculated. Qualitative analysis was made by scanning electron microscopy. Surface roughness data were submitted to ANOVA and Tukey's test at 5% significance level. G1 and G4 were statistically similar (p>0.05). G2 presented the highest roughness means (p<0.05) followed by groups G3, G5, G4 and G1 in a decreasing order. The hypothesis was partially confirmed as only the mechanical polishing (G4) produced similar superficial roughness to that of surface glazing, although finishing and polishing are technically critical procedures.     

不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷抛光效果的比较研究

目的 比较临床常用的几种玻璃陶瓷抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果,为临床抛光工具的选择提供依据。方法 制作60个陶瓷试件,随机分为6组（n=10）,进行不同的表面处理。G组：釉膏上釉;SF组：使用松风Porcelain Adjustment Kit+CeraMaster 组合抛光;3M组：使用3M Sof-Lex^TMDiscs套装抛光;Tob组：使用道邦玻璃陶瓷套装抛光;EVE组：使用EVE DIAPRO套装抛光;Ivo组：使用义获嘉伟瓦登特OptraFine^®套装抛光。测量各组试件表面粗糙度值Ra、Rz并作统计分析,通过扫描电子显微镜（SEM）观测试件并对其表面形态作定性分析。结果 G、3M、SF、Ivo、EVE、Tob组的抛光后Ra值分别为（0.069±0.008）、（0.073±0.009）、（0.223±0.025）、（0.229±0.022）、（0.491±0.093）、（0.763±0.067）µm,经统计学分析,Ra值从小到大依次为G和3M组P>0.05）,其余各组间差异均有统计学意义（P<0.05）。Rz值统计结果与Ra值一致。SEM观察结果与粗糙度值的统计结果一致。结论 不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,本实验条件下,Sof-Lex^TM Discs套装抛光表面最光滑,效果近似釉膏上釉。