摘 要: | 目的采用电喷雾离子阱质谱(ESI-IT-MS)技术,对羟基喜树碱的裂解途径和裂解碎片进行研究。方法采用ESI-IT-MS一级质谱获得了[M-H]-m/z 363,二级质谱获得了m/z 319碎片离子,三级质谱主要获得了m/z 304、291、275、262、246和234等碎片离子。结果羟基喜树碱主要裂解途径是在吡喃环上的酯键,其中二级碎片离子m/z 319是分子离子峰失去一分子CO_2形成,且离子强度较大,三级碎片离子主要是失去烷基片段的而形成的裂解。结论在负离子裂解条件下,可以选择m/z 363→319为定量离子测定羟基喜树碱,为进一步定性研究羟基喜树碱奠定了理论基础。
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