首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
检索        

离体牙Ⅱ类洞银汞充填体对测定牙电活力的影响
引用本文:蒋春梅.离体牙Ⅱ类洞银汞充填体对测定牙电活力的影响[J].口腔材料器械杂志,1999,8(4):193-193.
作者姓名:蒋春梅
作者单位:南京医科大学附属口腔医院 210029
摘    要:为了解相邻牙Ⅱ类洞银汞充填后对测定电活力的影响,将10颗拔除磨牙备Ⅱ类洞,银汞充填后,按两颗一组,银汞面靠紧,测同一颗牙颊侧釉质至其(?)面银汞及相邻牙(?)银汞的电阻值,发现两者没有差异,说明在电活力测定中,由于Ⅱ类洞银汞充填体传导电流,可能影响邻牙的电活力测定数值。 牙髓电活力测定是判断牙髓生活状态的常用手段之一,影响因素很多,本文主要了解相邻牙的Ⅱ类洞银汞充填体是否影响测定牙齿的电活力。

关 键 词:离体牙  Ⅱ类洞银汞充填体  牙髓电活力测定
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号