五种抛光方法对玻璃陶瓷表面粗糙度的影响研究#br#

目的    比较临床上5种常用抛光方法对IPS e.max Press玻璃陶瓷调磨后表面粗糙度的影响。方法    选取临床常用修复材料IPS e.max Press玻璃陶瓷制作试件30个，随机分成6组（每组5个试件），分别为对照组（常规上釉）、砂石组（绿色碳化硅砂石+氧化铝白砂石依次混合打磨抛光）、松风组（松风Ceramaster精细烤瓷砂石抛光）、EVE组（EVE氧化锆砂石抛光）、道邦组（道邦弹性瓷砂石抛光）、3M组（3M Sof-LexTM抛光套装）。常规调磨后按照各自不同的整体抛光打磨方法分别对试件表面依次进行抛光，扫描电镜下观察各组抛光后试件的表面形态，检测各组抛光后试件的表面粗糙度Ra值。结果　扫描电镜下观察可见3M组和道邦组抛光后试件表面较为平整光滑，划痕较少，与对照组类似；而砂石组和松风组试件表面划痕明显并伴有明显的凹坑；EVE组划痕较少且划痕条纹较平整，方向一致，有少许凹痕较对照组明显。各组抛光后试件的表面粗糙度Ra值由小到大顺序排列为：3M组［（0.207 ± 0.016）μm］、对照组［（0.208 ± 0.015）μm］、道邦组［（0.216 ± 0.025）μm］、EVE组［（0.315 ± 0.017）μm］、松风组［（0.375 ± 0.030）μm］、砂石组［（0.379 ± 0.017）μm］；砂石组、松风组、EVE组Ra值均明显大于对照组（均P < 0.05），而3M组、道邦组与对照组之间的差异无统计学意义（P > 0.05）。结论　5种抛光方法均能有效改善玻璃陶瓷表面粗糙度，不同抛光方法对IPS e.max Press玻璃陶瓷的抛光效果有一定的差异，以3M Sof-LexTM抛光套装抛光效果较佳。