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| 冠心病患者冠脉内支架植入术后校正QT间期离散度的变化 | |
| 引用本文： | 张戈,李易,刘屹,光雪峰,徐章.冠心病患者冠脉内支架植入术后校正QT间期离散度的变化[J].实用心电学杂志,1999(5). |
| 作者姓名： | 张戈 李易 刘屹 光雪峰 徐章 |
| 作者单位： | 云南省昆明医学院第二附属医院心内科 650101(张戈，李易，光雪峰)，云南省思茅地区医院内一科 665000(刘屹)，云南省昆明医学院第二附属医院心内科 650101(徐章) |
| 摘 要： | 目的:探讨冠状动脉内支架(ICS)植入术(简称植入术)对冠心病(CHD)者校正QT间期离散度(QTcd)的影响。方法:15例行植入术者均于术前1d和术后1周行常规心电图检查,比较其手术前后QTcd的变化。结果:术后的QTcd均值较术前明显减小(P=0.003)。结论:成功的植入术可能降低CHD者心律失常的发生率。 |
| 关 键 词： | 冠心病 冠状动脉内支架 校正QTcd离散度(QTcd) |
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