| 摘 要： | 目的结合分子对接仿真技术,研究反相离子对色谱法(reversed phase ion chromatography,RPIC)对头孢地尼立体异构体杂质I、J、K、L、T、U的分离机制。方法采用RPIC对各杂质进行分离,考察在流动相中加入四甲基氢氧化铵(tetramethylammonium hydroxide,TMAH),体积分数分别为0.01%、0.05%、0.1%、0.25%、0.3%、0.5%的色谱条件下以及流动相pH在4.5～6.5内变化时,各杂质间的分离度以及保留时间的变化。采用分子对接仿真技术,研究各杂质与TMAH分子的结合能力的差异,阐明了RPIC洗脱过程中,在TMAH作用下,各杂质的分离度及保留行为产生差异的原因。结果 TMAH与杂质I、J、K、L的结合能力存在差异。与TMAH结合后,杂质I形成3个分子内氢键,杂质J形成2个分子内氢键,且与TMAH之间存在1个分子间氢键,杂质K形成1个分子内氢键,杂质L无分子内氢键,杂质I、J、K、L与TMAH分子之间均存在静电作用力和疏水作用力。TMAH与杂质T、U的结合能力无显著性差异。杂质T、U均可以形成3个分子内氢键,与TMAH之间均存在静电作用力和疏水作用力。随着流动相中的TMAH浓度的增大,杂质I、J、K、L的保留时间延长,分离度逐渐增大,杂质T、U的色谱行为无显著变化。结论采用分子对接仿真技术,在分析各杂质与TMAH自身理化性质的基础上,研究各杂质在流动相环境中与TMAH之间的相互作用能够更加精确地阐述RPIC法中头孢地尼立体异构体杂质的分离机制。
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