低温等离子治疗喉损伤性肉芽肿9例

目的 研究提高喉损伤性肉芽肿手术治疗效果的新方法。方法 9例喉损伤性肉芽肿患者中男2例，女7例；22～65岁，平均45岁； 9例患者就诊前1～3个月均有气管内插管史；经抗炎、禁声、雾化吸入治疗1～2月后无好转。2例尚有呼吸困难。在支撑喉镜下导入显微镜调整焦距，充分显露喉腔病变，开启流量泵和低温等离子射频消融系统，连接喉用7.0刀头，用脚踏板控制刀头，将等离子刀头置于肉芽肿表面，从上至下消融肉芽肿，直至肉芽肿基底，尽可能避免损伤周围黏膜。术后应用地塞米松及庆大霉素雾化吸入1周。结果 9例患者均一次手术成功，手术后肉芽肿复发1例，复发部位为对侧，经再次手术，未再复发。8例随访3个月～2年，未见复发，1例失访。病理检查证实，切取的肉芽组织表现为鳞状上皮黏膜慢性炎性反应，并有少量炎性细胞浸润。结论 低温等离子射频消融术治疗喉损伤性肉芽肿，为喉损伤性肉芽肿提供了一种安全、有效、微创的理想治疗术式，可避免术后复发。