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| 硅、磁石上颌修复体 | |
| 引用本文： | 王俊祥.硅、磁石上颌修复体[J].国际口腔医学杂志,1989(4). |
| 作者姓名： | 王俊祥 |
| 摘 要： | 作者应用硅和磁石对3例上颌缺损的患者进行了修复,取得了良好效果。首先按常规方法制作阻塞器,并在其下方埋入直径11mm,厚1.5mm圆盘状钐钴磁石。为便于取出阻塞器,其下方呈一定的钩状,然后放入口内缺损部,著者采用硅类软性材料(Silatic82)制作阻塞器,不但固位力强,而且避免了刺激性溃疡和出血。由于采用了栓塞和义齿分离的修复体,使体积减小,能够应用于开口障碍的患者。经临床3例患者使用效果良好,取戴方便, |
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