| 羟基磷灰石义眼台植入后暴露原因分析及处理 |
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| 引用本文： | 聂玉红,邢怡桥,郭颖,朱晶.羟基磷灰石义眼台植入后暴露原因分析及处理[J].眼科新进展,2006,26(9):691-693. |
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| 作者姓名： | 聂玉红 邢怡桥 郭颖 朱晶 |
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| 作者单位： | 430060,湖北省武汉市,武汉大学人民医院眼科 |
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| 摘 要： | 目的探讨羟基磷灰石义眼台植入后义眼台暴露的原因及处理方法。方法对本院2002~2004年收治的32眼羟基磷灰石义眼台暴露患者的治疗方法及效果进行回顾性分析。结果义眼台暴露的发生时间为术后3d~6月,暴露范围为3~14mm,义眼台暴露能自行愈合者5眼;手术修补27眼,其中2眼伴有慢性感染最终手术取出义眼台。术后随访。结论义眼台暴露的原因与炎症、手术方法、手术时机、术后感染和义眼台的型号等因素有关。其处理可根据暴露范围不同采用不同方法,义眼台暴露范围在5mm以内的可采用保守治疗,暴露范围超过10mm的应尽早手术修补,处理过程中应尽量消除可能再次引起义眼台暴露的危险因素。
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| 关 键 词： | 羟基磷灰石义眼台 暴露 原因 处理 |
| 文章编号： | 1003-5141(2006)09-0691-03 |
| 收稿时间： | 2005-12-29 |
| 修稿时间： | 2006-03-06 |
Analysis on the causes and management of exposure of orbital hydroxyapatite implants |
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| NIE Yu-Hong,XING Yi-Qiao,GUO Ying,ZHU Jing.Analysis on the causes and management of exposure of orbital hydroxyapatite implants[J].Recent Advances in Ophthalmology,2006,26(9):691-693. |
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| Authors: | NIE Yu-Hong XING Yi-Qiao GUO Ying ZHU Jing |
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| Institution: | From the Department of Ophthalmology, Renmin Hospital of Wuhan University, Wuhan 430060, Hubei Province, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | orbital hydroxyapatite implant exposure causes management |
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