用磁控溅射技术制备钛合金表面羟基磷灰石生物涂层 |
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引用本文: | 林东洋,赵玉涛,张钊,施秋萍. 用磁控溅射技术制备钛合金表面羟基磷灰石生物涂层[J]. 中国临床康复, 2006, 10(33): 155-157,i0006 |
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作者姓名: | 林东洋 赵玉涛 张钊 施秋萍 |
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作者单位: | 江苏大学材料科学与工程学院,江苏省镇江市212013 |
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基金项目: | 江苏省自然科学基金资助(BK2003051);江苏大学青年基金资助(1241220002) |
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摘 要: | 背景:射频磁控溅射是在陶瓷(金属)基体上制备金属(陶瓷)涂层的成熟技术,具有基体温升低、沉积速度快、涂层成分均匀、性能稳定、结合强度高等优点。目的:探讨磁控溅射法制备的羟基磷灰石生物涂层组织结构以及涂层与基体的界面结合性能。设计:单一样本观察。单位:江苏大学材料科学与工程学院。材料:试样基体为30mm&;#215;30mm&;#215;3mm Ti-6A1.4V板材;JGP500超高真空多靶磁控溅射仪。方法:实验于2003-12/2004—09在江苏大学材料试验中心完成。利用射频磁控溅射技术在Ti-6Al-4V基体表面制备羟基磷灰石生物涂层,利用扫描电镜观察生物涂层表面形貌和断面形貌,利用X射线衍射仪分析涂层的相结构,利用能量分散谱仪分析涂层的Ca/P比,采用环氧树脂E-7对接法测定涂层与基体的界面结合强度。主要观察指标:①羟基磷灰石生物涂层微观形貌。②羟基磷灰石生物涂层组成及后处理影响。③羟基磷灰石生物涂层与基体的界面结合状态及结合强度。结果:①羟基磷灰石生物涂层表面扫描电镜观察,涂层表面较为粗糙,呈凹凸不平状,呈现出较多的孔隙和网状结构,其孔隙面积约占30%-40%。②溅射羟基磷灰石生物涂层的Ca/P比为1.7。后处理生物涂层主要成分为晶化程度高的羟基磷灰石,不存在其他钙磷杂质相。③羟基磷灰石涂层与基体的界面结合强度为51.2MPa。结论:射频磁控溅射技术制备的羟基磷灰石生物涂层,表面形貌良好,涂层与基体的界面结合强度较高。
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关 键 词: | 材料试验 羟基磷灰石类 生物相容性材料 |
文章编号: | 1671-5926(2006)33-0155-03 |
收稿时间: | 2005-11-15 |
修稿时间: | 2005-12-21 |
Preparation of hydroxyapatite coating deposited on the titanium alloy surface with magnetron sputtering technique |
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Abstract: | |
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