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| 用哈克流变仪模拟D3F反应挤出阴离子开环聚合反应 | |
| 引用本文： | 蒋蔚,高亚娟,郑安呐,周颖坚,许祥,胡福增.用哈克流变仪模拟D3F反应挤出阴离子开环聚合反应[J].医学教育探索,2008(4). |
| 作者姓名： | 蒋蔚 高亚娟 郑安呐 周颖坚 许祥 胡福增 |
| 摘 要： | 采用哈克流变仪模拟1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3′,3′,3′-三氟丙基)环三硅氧烷(D3F)阴离子开环聚合的反应挤出试验.通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定其绝对分子量,并通过红外光谱(FT-IR)和核磁共振氢谱(1H-NMR)表征其结构.研究表明:在促进剂乙酸乙酯作用下,120 ℃下反应4 min可得到数均分子量为2.45×105的氟硅聚合物,反应温度、时间对制备氟硅聚合物有一定的影响. |
| 关 键 词： | 氟硅聚合物 哈克流变仪 反应挤出 阴离子开环聚合 |
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