不同抛光处理全氧化锆修复体的表面粗糙度和细菌黏附 |
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作者姓名: | 曾尽娣 宋晶晶 张宇航 杨征毅 聂二民 张春元 姜瑞 |
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作者单位: | 1. 广州医科大学附属第一医院口腔科;2. 中山大学附属第一医院口腔科 |
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基金项目: | 广东省自然科学基金-面上项目(2020A1515011105),项目负责人:宋晶晶~~; |
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摘 要: | 背景:临床上冠修复体表面抛光处理可有效减少色素沉着及菌斑黏附,且能够降低对颌牙的磨耗。目的:研究不同抛光处理对全氧化锆修复体表面粗糙程度和细菌黏附的影响。方法:制作30个的全氧化锆试件,尺寸为10 mm×10 mm×2 mm,随机分为5组(n=6):对照组(单纯上釉处理)、抛光组(绿色碳化硅砂石、Shofu瓷抛光Kit、Ceramaster Polisher抛光)、抛光膏组(绿色碳化硅砂石、Softcut PA、Shofu瓷抛光Kit、UltraII金刚砂抛光膏)、精细抛光组(绿色碳化硅砂石、SoftcutPA、Shofu瓷抛光Kit、CeramasterPolisher抛光)、多步精细抛光组(绿色碳化硅砂石+白色氧化铝砂石、Softcut PA+Softcut PB、Shofu瓷抛光Kit、Ceramaster Polisher抛光)。测试各组试件处理后的表面粗糙度值和表面形态及表面变形链球菌黏附情况。结果与结论:(1)5组试件的表面粗糙度值由高到低为:抛光组、抛光膏组、多步精细抛光组、精细抛光组、对照组,抛光组粗糙度值高于其他4组(P <0.05),抛光膏组粗糙度值高于对照组...
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关 键 词: | 全氧化锆 抛光 上釉 表面粗糙度 细菌黏附 |
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