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| 铜（II）存在下痕量巯基醋酸钠的吸附伏安法研究 | |
| 引用本文： | 朱亚尔,孙缨.铜（II）存在下痕量巯基醋酸钠的吸附伏安法研究[J].浙江医科大学学报,1997,26(3):103-107. |
| 作者姓名： | 朱亚尔 孙缨 |
| 作者单位： | [1]浙江医科大学药学系分析化学教研室 [2]杭州江南食品工业有限公司 |
| 摘 要： | 作者以悬汞电极研究了铜（Ⅱ）存在下，痕量巯基醋酸钠（ＳＭＡ）的差分脉冲吸附伏安行为，认为其电极过程为化学反应－吸附富集－电极反应，即ＣＡＥ过程，并通过电子转移数、反应氢离子数、络合比的测定，提出了可能的电极反应方程式。在选定的Ｂｒｉｔｔｏｎ－Ｒｏｂｉｎｓｏｎ（ｐＨ３．４）溶液中，在过量的Ｃｕ（Ⅱ）存在下，巯基醋酸钠吸附还原峰峰形敏锐，其线性范围为１．０×１０＾－９￣１．０×１０＾－７ｍｏｌ／Ｌ，富 |
| 关 键 词： | 头发 指甲 吸附伏安法 铜 巯基醋酸钠 |
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