|
|||||
|
|
| 牙釉质电子顺磁共振剂量重建研究的若干进展 | |
| 作者姓名： | 吴伟章 |
| 作者单位： | 中国医学科学院中国协和医科大学放射医学研究所，天津300192 |
| 摘 要： | 介绍了牙釉质电子顺磁共振回顾性剂量学的目前研究概况，着重阐述了低剂量区去除背景信号的新方法，同时也对其在体测量及紫外线影响等方面进行了讨论。 |
| 关 键 词： | 电子顺磁共振 牙釉质 剂量重建 紫外光 背景信号 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |