应用正电子发射计算机断层成像观察贴敷式局部亚低温对人脑葡萄糖代谢的影响 |
| |
作者姓名: | 张艳 王德生 汤颖 |
| |
作者单位: | 哈尔滨医科大学第一临床医学院神经内科,黑龙江省哈尔滨市150001 |
| |
摘 要: | 目的:以正常人为测试对象,应用正电子发射计算机断层成像(PET)评定贴敷式局部亚低温对人脑葡萄糖代谢的影响。方法:实验于2003—12在黑龙江省农垦总院进行。2例健康志愿者应用亚低温仪治疗40min,之后静脉注射^18F脱氧葡萄糖,应用PET测定低温前后的大脑各部位(包括各个脑叶、基底核、小脑和丘脑)的标准吸收(SUV)值。结果:常温时大脑两侧半球的SUV值比较差异无显著性意义(P&;gt;0.05)。低温治疗后,2例受试者右侧半球(放置低温仪侧)SUV值降低,与左侧相比差异有显著性意义(P&;lt;0.05)。其中颞叶SUV值下降最多,分别为17.9%和19.1%;海马降低最少,分别为7.4%和7.5%。结论:贴敷式局部亚低温治疗仪可降低人脑组织葡萄糖代谢,间接证明其可使治疗侧脑温降低。
|
关 键 词: | 低温,人工 体层摄影术,发射型计算机 葡萄糖/代谢 脑 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |