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| 制剂设备GMP达标中的隔离与清洗灭菌问题 | |
| 引用本文： | 杨艺虹,张珩,杨建设,张奇.制剂设备GMP达标中的隔离与清洗灭菌问题[J].医药工程设计,2003,24(6):24-26. |
| 作者姓名： | 杨艺虹 张珩 杨建设 张奇 |
| 作者单位： | 1. 武汉化工学院,430073 2. 武汉医药设计院,430077 |
| 摘 要： | 本文阐述了制剂设备GMP达标中的隔离技术与就地清洗和就地灭菌问题，提出发展先进的隔离技术和建立先进的就地清洗和就地灭菌系统，是在一个更高层次上与国际GMP接轨、稳操胜券的重要保证。 |
| 关 键 词： | 制剂设备 GMP达标 隔离 清洗 灭菌 无菌产品 微生物污染 药品生产质量管理 制药工业 |
| 修稿时间： | 2003年9月4日 |
Problem of Preparation Equipment Separation and Cleaning Used to Kill Bacteria in Reaching GMP Standard |
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| Keywords: | |
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