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大气压冷等离子体处理提高氧化锆粘接性能
作者姓名:詹凌璐  张玉玮  郑苗  刘志强  李和平  谭建国
作者单位:北京大学口腔医学院·口腔医院,修复科 国家口腔疾病临床医学研究中心 口腔数字化医疗技术和材料国家工程实验室 口腔数字医学北京市重点实验室 北京100081;北京航天中心医院口腔科 北京100049;北京大学第三医院口腔科 北京 100191;清华大学工程物理系 北京 100084
摘    要:

关 键 词:氧化锆  大气压冷等离子  表面特性  剪切粘接强度
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