腭正中旁区支持组织厚度和腭穹窿形态相关性的三维评估

目的 本研究拟通过应用锥形束计算机体层摄影术(cone beam computed tomography, CBCT),测量不同腭穹窿形态的正畸患者在腭正中旁区域腭部支持组织厚度，分析腭正中旁区种植支抗钉植入的安全区域，为临床正畸治疗提供参考。方法 随机招募青少年正畸患者72例(男36例，女36例),根据腭穹窿高宽比分为高穹窿组和低穹窿组，使用CBCT图像分析法测量受试者上颌腭正中旁区各位点的支持组织厚度。结果 第三腭皱襞处的黏膜厚度均高于其他位点，腭部黏膜由内向外呈逐渐增厚的趋势，高穹窿组腭部黏膜普遍厚于低穹窿组；腭部骨和总支持组织厚度从前后方向上均呈现中间高、两侧低的特点，在第三腭皱襞后2 mm处腭部骨组织厚度最大，在第三腭皱襞前4 mm及其前方部位，从内向外骨组织厚度逐渐增高，其后的部位反之，低穹窿组骨支持组织厚度普遍高于高穹窿组；腭部总支持组织在第三腭皱襞处及其后方2 mm内腭部总组织厚度最大，从内向外总支持组织厚度逐渐增加，低穹窿组骨支持组织厚度稍高于高穹窿组。结论 在低穹窿组患者腭部植入微种植支抗具有更高的稳定性；在距腭中缝旁5～9 mm、第三腭皱襞及其后方2 mm的范围内...