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| 光化学介导活性氧自由基诱导DNA损伤机制研究进展 | |
| 作者姓名： | 王晓星 贾漫柯 易慕华 黄应平 |
| 作者单位： | 三峡大学三峡库区生态环境教育部工程研究中心;三峡大学三峡地区地质灾害与生态环境湖北省协同创新中心;三峡大学第二临床医学院; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(201407093;21377067;21207079;21177072);湖北省新世纪人才入选人员优先资助项目(201203) |
| 摘 要： | 外源性或内源性因素介导活性氧(ROS)自由基可引起脱氧核糖核酸(deoxyribonucleic acid,DNA)永久性损伤,表现为DNA结构改变、糖苷脱落及碱基氧化损伤。通过光化学手段介导ROS可以用来模拟生物体内细胞多源代谢诱导DNA氧化损伤特性。该文主要概述了半导体光化学领域近年来的研究概况,介绍了卤氧化铋、纳米TiO2及Fenton等具有代表性的光化学材料介导ROS及光化学氧化性能,重点阐述了光化学介导ROS诱导DNA氧化损伤机制的研究进展,并对ROS诱导DNA氧化损伤研究前景进行展望。 |
| 关 键 词： | DNA 光化学 活性氧 损伤 机制 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |