龋病好发部位的电学特性 |
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引用本文: | 黄力子,刘峰,曹志中.龋病好发部位的电学特性[J].牙体牙髓牙周病学杂志,1991(1). |
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作者姓名: | 黄力子 刘峰 曹志中 |
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作者单位: | 第四军医大学口腔医学院
(黄力子,刘峰),第四军医大学口腔医学院(曹志中) |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目 |
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摘 要: | 本文报道用高电阻测量汁测量新鲜离体牙牙冠表面各点和髓室之间电阻的结果,发现牙尖的电阻值最高,牙颈部釉质覆盖面次之,窝沟及牙颈部牙骨质覆盖面电阻值最小,经统计处理相差极显著,电阻值大的部位,为抗龋部位;电阻值小的部位,为龋病好发部位。本研究结果印证了黄力子1990年提出的龋病发病机理的生物电化学理论,腐蚀电流最容易通过牙冠电阻值小的部位而导致龋病的发生和发展。
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关 键 词: | 龋病发病机理 生物电化学 牙齿的电学特性 |
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