| 苯并三氮唑和4—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用 |
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| 引用本文： | 徐群杰 周国定. 苯并三氮唑和4—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用[J]. 医学教育探索, 2000, 0(2): 172-176 |
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| 作者姓名： | 徐群杰 周国定 |
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| 作者单位： | [1]华东理工大学防腐蚀中心 [2]上海电力学院电化学研究室 |
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| 基金项目： | 国家重点实验室基金，上海市高等学校青年科学基金，9705，QF9632，， |
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| 摘 要： | 采用光电化学方法和交流阻抗方法将不同浓度的ＢＴＡ（苯并三氮唑）和４ＣＢＴＡ（４－羧基苯并三氮唑）在硼砂缓冲溶液（ｐＨ９．２）中对铜电极的缓蚀性能作了比较。发现在阳性向电位扫描中，一定农度的ＢＴＡ作用下，铜电极光响应由ｐ型转化为ｎ型，并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能。ｎ型光响应越大，缓蚀剂的缓蚀性能越好；而在４ＣＢＴＡ作用下，铜电极光响应保持ｐ型，然其阴极向扫描中最大光电汉变化明显，并可据此判断缓蚀剂诉
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| 关 键 词： | 4CBTA 铜 缓蚀作用 光电化学 苯并三氮唑 |
Photoelectrochemical Comparative Studies of the Inhibiting Action of BTA and 4CBTA on Copper |
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| XU Qun-jie,LU Zhu,ZHOU Guo-ding,YAO Nian,ZHANG Hong-wei. Photoelectrochemical Comparative Studies of the Inhibiting Action of BTA and 4CBTA on Copper[J]. Researches in Medical Education, 2000, 0(2): 172-176 |
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| Authors: | XU Qun-jie LU Zhu ZHOU Guo-ding YAO Nian ZHANG Hong-wei |
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| Keywords: | BTA 4CBTA copper electrode photoelectrochemistry AC impedance |
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