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| 模拟日光射线对接触性过敏反应诱发阶段的影响在多形性日光疹患者和对照无区别 | |
| 作者姓名： | Palmer R.A. Hawk J.L.M. Young A.R. Walker S.L. 刘安 |
| 作者单位： | Dr. Photobiology Unit St. John's Institute of Dermatology St. Thomas'Hospital London SE1 7EH United Kingdom |
| 摘 要： | 多形性日光疹(PLE)以紫外线(UV R)诱导的免疫抑制失败为特征,并最终导致针对光诱导抗原的Ⅳ型过敏反应。作者在10例PLE患者和11例对照中检测了模拟日光射线(SSR)对接触性过敏反应(2,4二硝基苯,DNCB)诱发阶段的影响。受试者给予DN CB敏感剂量,3周后上臂内侧暴露于SSR的0.75到2个最小红斑剂量(M ED)。立即照射、24h后照射和不照射部位均由DNCB激发。皮肤厚度增加用高频超声测量。总体而言,2个M ED导致17%～20%诱发反应抑制(与以前报道的93%的敏感抑制相对照),但是SSR的作用在受试者中极为不同,一些受试者呈现强反应,这可能与光… |
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