正畸去粘结后托槽底板残余物分析 |
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引用本文: | 赵越,曲晓东,邵玶.正畸去粘结后托槽底板残余物分析[J].现代口腔医学杂志,2015(2):104-107. |
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作者姓名: | 赵越 曲晓东 邵玶 |
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作者单位: | 哈尔滨医科大学口腔医学院正畸科;广西科技大学附属柳州市人民医院口腔科 |
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摘 要: | 目的通过分析托槽底板残余物,评估去粘结后是否能够恢复釉质最初形态。方法选取人离体前磨牙40颗,分别使用两种粘结剂粘结托槽,测定抗剪切强度(SBS)和抗拉伸强度(TBS)。同时选取使用这两种粘结剂的共20名患者,矫治后去除托槽。扫描电子显微镜(SEM)观察托槽底板残余物中是否存在釉质,应用能量色散X射线光谱(EDX)进行元素分析。结果 Valux TM Plus光固化树脂组SBS和TBS均大于京津釉质粘结剂组,差异具有统计学意义(P<0.05)。SEM没有发现托槽底板有明显的釉质存在,但EDX分析所有样本均显示钙的存在。结论无损伤的去粘结过程的目标暂未达到,正畸医生应慎之。
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关 键 词: | 固定矫治器 粘结材料 去粘结 底板残余物 |
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