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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
Skin advanced glycation end products as biomarkers of photosensitivity in schizophrenia
Authors:
Eriko Tani
Tohru Ohnuma
Hitoki Hirose
Ken Nakayama
Wanyi Mao
Mariko Nakadaira
Narihiro Orimo
Hiroki Yamashita
Yuto Takebayashi
Yasue Miki
Narimasa Katsuta
Shohei Nishimon
Toshio Hasegawa
Etsuko Komiyama
Yasushi Suga
Shigaku Ikeda
Heii Arai
Abstract:
Keywords:
advanced glycation end products
carbonyl stress
photosensitivity
schizophrenia
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