| 电化学人工龋的电化学腐蚀机制研究 |
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| 引用本文： | 邵方,李明春,杨军. 电化学人工龋的电化学腐蚀机制研究[J]. 第三军医大学学报, 2002, 24(7): 851-852 |
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| 作者姓名： | 邵方 李明春 杨军 |
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| 作者单位： | 1. 第三军医大学基础医学部化学教研室,重庆,400038
2. 第三军医大学附属西南医院口腔科,重庆,400038 |
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| 摘 要： | 目的 研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制。方法 采用循环伏安法研究牙片电极在K2SO4溶液中的氧化还原反应；以失重法并结合SPSS统计软件统计分析，评价牙片在KCl和K2SO4介质中恒电位腐蚀情况，并现场监测电解液氢离子浓度的变化情况。结果 在0.0-2.5V电位范围内，牙片电极与石墨电极具有波形类似的循环伏安曲线；在KCl和K2SO4介质中牙片的腐蚀速度无显著差异；2.0V恒电位腐蚀牙片8h后，阳极池本体溶液pH值由7.0平均下降到3.87，阴极池则由7.0平均升高到10.65。结论 在外电场作用下，牙片的阳极腐蚀与介质无关；水的阳极氧化引起阳极区氢离子浓度升高，致使牙齿发生酸溶是电化学人工龋形成的主要决定因素。
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| 关 键 词： | 龋齿 电化学 腐蚀机制 |
| 文章编号： | 1000-5404(2002)07-0851-02 |
| 修稿时间： | 2001-05-11 |
Investigation on electrochemical corrosion mechanism of electrochemistry-induced dental caries |
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| SHAO Fang,LI Ming chun,YANG Jun. Investigation on electrochemical corrosion mechanism of electrochemistry-induced dental caries[J]. Acta Academiae Medicinae Militaris Tertiae, 2002, 24(7): 851-852 |
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| Authors: | SHAO Fang LI Ming chun YANG Jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | dental caries electrochemistry corrosion mechanism |
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