| 抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响 |
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| 引用本文： | 张宁宁,王庆. 抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响[J]. 实用口腔医学杂志, 2002, 18(1): 54-55 |
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| 作者姓名： | 张宁宁 王庆 |
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| 作者单位： | 上海同济大学口腔医学院,200072 |
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| 基金项目： | 铁道部医学科研项目资助 (编号B0 0 0 4 8) |
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| 摘 要： | 目的：比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法，对陶瓷表面平滑度产生的影响。方法：分别以SEM和粗糙度测试仪，对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析。试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法。结果：SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似。经粗糙度测试仪测得的Ra值，抛光组为0.412μm，自上釉组为0．417μg。两者比较未见显著性差异（P＞0．05），且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性。结论：采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面。
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| 关 键 词： | 机械抛光 釉烧 表面粗糙 牙陶瓷 自上釉 抛光 表面平滑度 |
| 文章编号： | 1001-3733(2002)-01-0054-02 |
| 修稿时间： | 2001-04-19 |
Effect of polish and self-glaze on surface roughness of dental porcelain |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Mechanical polishing Glaze firing Surface roughness Dental porcelain |
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