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中波紫外线诱导皮肤角质形成细胞凋亡机制的研究进展
引用本文:陈向齐,刘向农.中波紫外线诱导皮肤角质形成细胞凋亡机制的研究进展[J].中国麻风皮肤病杂志,2006,22(6):486-489.
作者姓名:陈向齐  刘向农
作者单位:南京军区福州总医院皮肤科,福州,350025
摘    要:紫外线照射表皮后引起DNA损伤的表皮细胞通过日晒伤细胞(凋亡的角质形成细胞)的形成来清除。p53、Fas、Trp53等基因的表达促进角质形成细胞凋亡,而survivin的表达则抑制角质形成细胞凋亡。紫外线照射后皮肤可产生环丁烷嘧啶二聚体和6-4光产物,这两种光产物可以作为UVB诱导凋亡的起始信号。凋亡在清除DNA损伤的皮肤起着重要作用。在皮肤中通过凋亡清除DNA损伤的细胞,防止日光诱导癌变,而不是依赖于DNA损伤的校正修复。silibinin对中波紫外线引起人HaCaT永生化角质形成细胞凋亡具有双向调控作用。对UVB引起角质形成细胞凋亡的调控药物,值得进一步研究。

关 键 词:中波紫外线  日晒伤  角质形成细胞  凋亡
收稿时间:2005-07-11
修稿时间:2005-10-13
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