| 18氟-氟脱氧葡萄糖-正电子发射断层显像在评估局灶性皮质发育不良所致难治性癫痫致痫区中的应用 |
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| 引用本文： | 赵泽仙,Wong Chong-hey,丁瑶,王爽.18氟-氟脱氧葡萄糖-正电子发射断层显像在评估局灶性皮质发育不良所致难治性癫痫致痫区中的应用[J].中华神经科杂志,2013,46(8). |
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| 作者姓名： | 赵泽仙 Wong Chong-hey 丁瑶 王爽 |
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| 作者单位： | 1. 浙江大学医学院附属第二医院神经内科癫痫中心,杭州,310009
2. Westmead Hospital, Department of Neurology, School of Medicine, Sydney University, Sydney, Australia |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 我国目前有癫痫患者逾千万,其中30％的患者经过规范的药物治疗后不能满意地控制发作,发展为难治性癫痫.针对其病因学的研究发现,造成难治性癫痫的脑组织病变主要包括皮质发育不良和肿瘤两大类1].局灶性皮质发育不良(focal cortical dysplasia,FCD)是局限的大脑皮质发育畸形,越来越多的新皮质病灶被高分辨MRI发现,其术后病理均提示FCD的存在2].然而不少FCD患者高分辨MRI仅表现为局灶性皮质增厚、灰质-白质交界不清,或轻微的白质高信号,这些微小改变很容易漏诊,而且约30％ FCD(特别是Ⅰ型FCD)患者的MRI表现是阴性的3].
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