低能量激光治疗对临床患者种植体周围炎的疗效研究

目的 实验采用基础治疗结合低能量激光照射疗法对种植体周围炎患者进行治疗,旨在阐明激光在临床治疗过程中的作用。 方法 选择天津市第一中心医院口腔科2017年9月至2018年3月诊断为早期种植体周围炎的患者38例(50枚种植体),随机分为激光治疗组和常规治疗对照组,每组各25枚种植体。对照组种植体接受基础治疗。激光治疗组种植体在接受对照组治疗的基础上联合使用低能量激光(808 nm GaAlAs半导体连续激光,输出功率80 mW、能量密度为4 J/cm2、光斑面积0.28 cm2,每个种植体龈袋内照射时间15 s)进行照射治疗。分别在治疗前及治疗后第2、8周检查两组种植体牙龈指数(GI)、菌斑指数(PLI)、龈沟出血指数(SBI)和探诊深度(PD)。 结果 两组治疗后2周与8周时的各项指标较其基线均有改善,其差异均有统计学意义(P<0.05)。与对照组相比,治疗后2周治疗组GI显著降低(P=0.018);治疗后8周治疗组GI、PD、SBI显著降低(P值分别为P<0.001,P=0.018,P<0.001)。 结论 在能量密度4 J/cm2下,波长808 nm的低能量激光照射可加速基础治疗后种植体周围炎的组织愈合。