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MR磁敏感成像技术的原理及其在脑部疾病的应用
引用本文:朱文珍,王承缘,夏黎明,漆剑频,.MR磁敏感成像技术的原理及其在脑部疾病的应用[J].放射学实践,2009,24(9):967-970.
作者姓名:朱文珍  王承缘  夏黎明  漆剑频  
作者单位:华中科技大学同济医学院附属同济医院放射科,武汉,430030
基金项目:国家自然科学基金资助项目,国家自然科学基金资助项目,863项目子课题2006AA02Z4A1 
摘    要:磁敏感成像技术是近几年发展起来的MR新技术,是一项可以反映组织磁敏感属性的新的对比度增强技术,提供了T1WI、T2WI、质子密度以及扩散程度之外的另一种对比度,包含脂肪、铁、钙、去氧血红蛋白等物质的组织磁敏感属性与邻近的背景组织明显不同,在幅度图像的后处理巾使用相位蒙掩(phase mask)技术提高幅度图像的相佗对比,

关 键 词:成像技术  磁敏感  脑部疾病  MR  去氧血红蛋白  增强技术  T1WI  T2WI
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