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Hurd YL Yakovleva T Nussenzweig A Li GC Terenius L Bakalkin G 《Molecular and cellular neurosciences》1999,14(3):213-224
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Epstein–barr virus latent membrane protein 1 polymorphism in nasopharyngeal carcinoma and other oral cavity tumors in Russia 下载免费PDF全文
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肿瘤相关基因Cap43在胰腺癌中的表达及意义 总被引:4,自引:0,他引:4
目的研究肿瘤相关基因Cap43在胰腺癌组织中的表达情况,探讨其对胰腺癌的诊断价值。方法收集1999年4月~2002年8月长海医院外科手术切除胰腺癌标本和癌旁正常组织33例,诊断均由病理证实。男性22例,女性11例,年龄30~73岁,平均58.1岁。所有组织标本按肿瘤、癌旁(正常)配对。采用RT-PCR和Northern杂交方法研究Cap43 mRNA表达情况。结果 RT-PCR结果显示,Cap43在肿瘤组织中表达显著上调,其在肿瘤组织和癌旁正常组织的扫描值分别为4 033±1 986和2 244±1 145,有显著差异(P<0.001)。Northern杂交亦显示Cap43在肿瘤组织中表达显著上调,相同病例的RT-PCR结果与Northern杂交的结果有较好的一致性,经回归分析,没有显著性差异(P>0.1)。结论 Cap43在胰腺癌组织中呈显著高表达,其有可能成为胰腺癌早期诊断的重要标志物。 相似文献
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Patrizia Lamberti Monica La Mura Vincenzo Tucci Erick Nkyalu Ali Khan Marina Yakovleva Nadzeya Valynets Alesia Paddubskaya Aleksandr Saushin Viatcheslav Vanyukov Marian Baah Andrzej Urbanowicz Yuri Svirko Polina Kuzhir 《Materials》2022,15(3)
We report the performance of a graphene-enhanced THz grating fabricated by depositing a gold layer on the femtosecond micromachined SiO2 substrate. The morphology of the gold plated patterned substrate was studied by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM), while the quality of the chemical vapor deposition (CVD) graphene was evaluated by Raman spectroscopy. The electromagnetic (EM) response of the metasurface comprising the graphene sheet and the gold plated substrate was studied by THz time domain spectroscopy in the 100 GHz–1 THz frequency range. We employed the finite elements method (FEM) to model the metasurface EM response by adjusting the ac conductivity of the gold layer covering the patterned SiO2 substrate to reproduce the measured transmission/reflection spectra. The results of the numerical simulation reveal the impact of the imperfectness of the gold layer on the performance of the THz metasurface. The experimental results are well described in terms of the Drude–Smith model of metal conductivity that takes into account the anisotropic scattering of the carriers in thin metal films. 相似文献