用磁控溅射技术制备钛合金表面羟基磷灰石生物涂层

背景：射频磁控溅射是在陶瓷（金属）基体上制备金属（陶瓷）涂层的成熟技术，具有基体温升低、沉积速度快、涂层成分均匀、性能稳定、结合强度高等优点。 目的：探讨磁控溅射法制备的羟基磷灰石生物涂层组织结构以及涂层与基体的界面结合性能。 设计：单一样本观察。 单位：江苏大学材料科学与工程学院。 材料：试样基体为30mm&;#215;30mm&;#215;3mm Ti-6A1．4V板材；JGP500超高真空多靶磁控溅射仪。 方法：实验于2003-12／2004—09在江苏大学材料试验中心完成。利用射频磁控溅射技术在Ti-6Al-4V基体表面制备羟基磷灰石生物涂层，利用扫描电镜观察生物涂层表面形貌和断面形貌，利用X射线衍射仪分析涂层的相结构，利用能量分散谱仪分析涂层的Ca／P比，采用环氧树脂E-7对接法测定涂层与基体的界面结合强度。 主要观察指标：①羟基磷灰石生物涂层微观形貌。②羟基磷灰石生物涂层组成及后处理影响。③羟基磷灰石生物涂层与基体的界面结合状态及结合强度。 结果：①羟基磷灰石生物涂层表面扫描电镜观察，涂层表面较为粗糙，呈凹凸不平状，呈现出较多的孔隙和网状结构，其孔隙面积约占30％-40％。②溅射羟基磷灰石生物涂层的Ca／P比为1．7。后处理生物涂层主要成分为晶化程度高的羟基磷灰石，不存在其他钙磷杂质相。③羟基磷灰石涂层与基体的界面结合强度为51．2MPa。 结论：射频磁控溅射技术制备的羟基磷灰石生物涂层，表面形貌良好，涂层与基体的界面结合强度较高。     

婴幼儿腹股沟斜疝手术方式探讨

目的探讨婴幼儿腹股沟斜疝手术治疗的最佳方法。方法回顾我院采用3种不同手术方式治疗婴幼儿腹股沟斜疝186例，其中经腹股沟斜切口86例，经外环小切口53例，经内环横弧形切口47例。结果经腹股沟斜切口4例出现复发，复发率4．6%,1例出现阴囊血肿；外环小切口组5例复发，复发率约9．4％。2例出现阴囊血肿；内环横弧形切口组无复发，3例出现精索鞘膜积液。结论外环小切口术式创伤小，但复发率最高，内环横弧形切口术式具有切口美观、创伤小、术后复发率低的优点，值得推广应用。     

婴幼儿腹股沟斜疝手术方式探讨

目的探讨婴幼儿腹股沟斜疝手术治疗的最佳方法。方法回顾我院采用3种不同手术方式治疗婴幼儿腹股沟斜疝186例,其中经腹股沟斜切口86例,经外环小切口53例,经内环横弧形切口47例。结果经腹股沟斜切口4例出现复发,复发率4.6%,1例出现阴囊血肿;外环小切口组5例复发,复发率约9.4%,2例出现阴囊血肿;内环横弧形切口组无复发,3例出现精索鞘膜积液。结论外环小切口术式创伤小,但复发率最高,内环横弧形切口术式具有切口美观、创伤小、术后复发率低的优点,值得推广应用。     

用磁控溅射技术制备钛合金表面羟基磷灰石生物涂层

背景:射频磁控溅射是在陶瓷(金属)基体上制备金属(陶瓷)涂层的成熟技术,具有基体温升低、沉积速度快、涂层成分均匀、性能稳定、结合强度高等优点。目的:探讨磁控溅射法制备的羟基磷灰石生物涂层组织结构以及涂层与基体的界面结合性能。设计:单一样本观察。单位:江苏大学材料科学与工程学院。材料:试样基体为30mm×30mm×3mmTi-6Al-4V板材;JGP500超高真空多靶磁控溅射仪。方法:实验于2003-12/2004-09在江苏大学材料试验中心完成。利用射频磁控溅射技术在Ti-6Al-4V基体表面制备羟基磷灰石生物涂层,利用扫描电镜观察生物涂层表面形貌和断面形貌,利用X射线衍射仪分析涂层的相结构,利用能量分散谱仪分析涂层的Ca/P比,采用环氧树脂E-7对接法测定涂层与基体的界面结合强度。主要观察指标:①羟基磷灰石生物涂层微观形貌。②羟基磷灰石生物涂层组成及后处理影响。③羟基磷灰石生物涂层与基体的界面结合状态及结合强度。结果:①羟基磷灰石生物涂层表面扫描电镜观察,涂层表面较为粗糙,呈凹凸不平状,呈现出较多的孔隙和网状结构,其孔隙面积约占30%～40%。②溅射羟基磷灰石生物涂层的Ca/P比为1.7。后处理生物涂层主要成分为晶化程度高的羟基磷灰石,不存在其他钙磷杂质相。③羟基磷灰石涂层与基体的界面结合强度为51.2MPa。结论:射频磁控溅射技术制备的羟基磷灰石生物涂层,表面形貌良好,涂层与基体的界面结合强度较高。     

用磁控溅射技术制备钛合金表面HA生物涂层

目的探讨磁控溅射法制备的HA生物涂层组织结构以及涂层与基体的界面结合性能. 方法利用射频磁控溅射技术在Ti-6Al-4V基体表面制备HA生物涂层,利用扫描电镜(SEM)观察HA生物涂层表面形貌和断面形貌,利用X射线衍射仪(XRD)分析涂层的相结构,利用能量分散谱仪(EDS)分析涂层的Ca/P比,采用环氧树脂E-7对接法测定HA涂层与基体的界面结合强度. 结果溅射HA生物涂层的Ca/P比为1.7, 后处理生物涂层中不存在其它钙磷杂质相,HA的晶化程度高,HA涂层与基体的界面结合强度为51.2MPa. 结论射频磁控溅射技术制备的HA生物涂层,表面形貌良好,涂层与基体的界面结合强度较高.     

磁控溅射制备HA/Ti6Al4V复合材料种植体体外生物活性研究

研究了射频磁控溅射法制备的HA/Ti6Al4V复合材料种植体在模拟体液(Simulated body fluid,SBF)环境下的生物活性。利用扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)、红外光谱(FTIR)及X-射线衍射(XRD)分析了该种植体涂层在模拟体液中浸泡前后的表面形貌、界面结合状态、晶体结构和相组成的变化,结果表明:该种植体涂层在模拟体液中存在溶解和新生物质在其表面沉积相伴的过程。其中,HA涂层表面的新生物质是一种缺钙型且含有CO32-的类骨磷灰石,其n(Ca)/n(P)比值约为1.56,晶粒小,结晶度低,接近于非晶态,这与自然骨中无机相的结构成分相似,因此具有良好生物相容性和生物活性。     

用磁控溅射技术制备钛合金表面HA生物涂层

目的 探讨磁控溅射法制备的HA生物涂层组织结构以及涂层与基体的界面结合性能。方法 利用射频磁控溅射技术在Ti-6Al-4v基体表面制备HA生物涂层，利用扫描电镜(SEM)观察HA生物涂层表面形貌和断面形貌，利用X射线衍射仪(XRD)分析涂层的相结构，利用能量分散谱仪(EDS)分析涂层的Ca／P比，采用环氧树脂E-7对接法测定HA涂层与基体的界面结合强度。结果 溅射HA生物涂层的Ca／P比为1．7，后处理生物涂层中不存在其它钙磷杂质相，HA的晶化程度高，HA涂层与基体的界面结合强度为51．2MPa。结论 射频磁控溅射技术制备的HA生物涂层，表面形貌良好，涂层与基体的界面结合强度较高。