种植体支抗结合片段弓矫治成人下颌牙列拥挤的临床应用研究

目的:研究安氏I类错牙合患者中,采用种植体支抗结合片段弓技术,矫治成人下颌牙列拥挤的临床效果及其作用特点。方法:选择12例成人患者,将24枚微型种植体植于下颌第一磨牙与下颌第二前磨牙之间的颊侧牙槽骨内,Ni-Ti螺旋弹簧拉长后分别连接于种植体与下颌侧切牙远中的牵引钩,来内收下前牙关闭间隙。测量下颌中切牙的颊舌向的位置变化、压低量、近远中倾斜度以及移动的速度,并通过治疗前后的X线片对比以观察切牙牙根有无吸收,牙周膜腔的变化情况。通过测量下颌第一磨牙的位置变化来衡量支抗强弱。结果:下颌中切牙向舌侧移动1.6mm,舌侧倾斜4.5°,平均压低0.5mm,无近远中倾斜,疗程3.2个月,平均向舌侧移动速度0.67mm/月;切牙牙根没有吸收,牙周膜腔宽度没有改变。下颌第一磨牙的位置没有改变。结论:所有下颌牙列的拥挤得到了解除,下颌磨牙位置没有改变,后牙咬合关系无变化。     

微型种植体支抗近移磨牙过程中的强支抗效应

背景:在正畸治疗中,移动下颌磨牙需要强大的支抗控制,这也成为临床正畸所遇到的一个难题.目的:采用微型种植体作支抗,观察近移安氏Ⅰ类错牙合患者下颌磨牙的临床效果及其作用特点.方法:选择15例下颌第一磨牙缺失成人患者,将24枚微型种植体植于下颌第二前磨牙与第一前磨牙之间颊侧牙槽骨内,Ni-Ti螺旋弹簧拉长后置于下颌第二磨牙与微型种植体之间,拉磨牙近中移动.通过测量下颌第二磨牙在近远中方向、垂直向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变.并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱.结果与结论:疗程10.4个月,下颌第二磨牙平均移动速度为0.8 mm/月;平均近中移动8.5 mm,垂直向没有变化;磨牙长轴向远中倾斜角度为2.5°,下颌中切牙位置无改变.提示所有下颌第二磨牙均被近移到了恰当的位置,未见前牙支抗丧失.种植体作为支抗在拉下颌磨牙近移的过程中,发挥了强支抗的作用.     

26腭根双根管1例

病人男,35岁,因左侧上颌后牙原充填材料脱落就诊,要求重新治疗.检查:26近中原充填材料脱落,牙体大面积缺损,髓腔暴露,叩(+),探(-),冷刺激(-),患牙无松动,牙周黏膜无红肿.     

种植体与钟摆矫治器远移上颌磨牙效果比较

目的：研究安氏Ⅱ类错牙合患者中,采用微型种植体作支抗与钟摆矫治器远移上颌磨牙进行比较,以评价两种方法的各自特点。方法：将28例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法远移上颌磨牙。测量上颌第一磨牙在近远中方向、颊舌向、垂直向的位置变化以及水平向的扭转变化,以衡量磨牙的位置改变。并通过上中切牙的位置变化,评价支抗强弱。结果：种植体作支抗组上颌第一磨牙平均远中移动5.2mm,疗程4.4个月,平均移动速度1.2mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度4.6°;磨牙颊向移位1.6mm;磨牙发生远中舌向水平旋转约4.9°;上颌中切牙位置基本无改变。钟摆矫治器组上颌第一磨牙平均远中移动3.5mm,疗程4.2个月,平均移动速度0.8mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度12.6°;磨牙颊向移位0.5mm;磨牙发生远中舌向水平旋转约2.8°;上颌中切牙切端向远中移动0.5mm。结论：两种方法比较,种植体的支抗更强,未见前牙支抗丧失,且二者磨牙的移动方式有所区别。     

纤连蛋白通过激活 FAK 促进口腔鳞癌细胞迁移的实验研究

目的：探讨粘着斑激酶（FAK ）信号通路在纤连蛋白（ FN）调节口腔鳞癌细胞迁移中的作用。方法采用Tran-swell方法检测不同浓度FN（0,0．1,1,10和50μg ／ml）对口腔鳞癌细胞迁移能力的影响,并检测FAK磷酸化抑制剂（ PF-04554878）对FN促进口腔鳞癌细胞迁移能力的影响。采用Western blot法检测FN最佳浓度下的FAK活性变化。结果 FN能够促进口腔鳞癌细胞的迁移,且在浓度10μg ／ml时作用最大;FN促进口腔鳞癌细胞迁移过程中 FAK被激活,PF-04554878可阻断FN对口腔鳞癌细胞迁移的促进作用。结论 FN通过激活FAK促进口腔鳞癌细胞迁移。     

低强度脉冲超声波提高骨质疏松患者种植牙成功率的展望

种植牙(dental implant)是口腔医学领域近年来发展较快的一种修复牙列缺失的方法,外科植入种植牙技术也在日趋完善.成功的种植修复牙依赖于良好的种植体-骨结合状态和足够承受咀嚼力量的颌骨组织.     

微型种植体支抗近移磨牙过程中的强支抗效应

背景：在正畸治疗中,移动下颌磨牙需要强大的支抗控制,这也成为临床正畸所遇到的一个难题。 目的：采用微型种植体作支抗,观察近移安氏Ⅰ类错牙合患者下颌磨牙的临床效果及其作用特点。 方法：选择15例下颌第一磨牙缺失成人患者,将24枚微型种植体植于下颌第二前磨牙与第一前磨牙之间颊侧牙槽骨内,Ni-Ti螺旋弹簧拉长后置于下颌第二磨牙与微型种植体之间,拉磨牙近中移动。通过测量下颌第二磨牙在近远中方向、垂直向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变。并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱。 结果与结论：疗程10.4个月,下颌第二磨牙平均移动速度为0.8 mm/月;平均近中移动8.5 mm,垂直向没有变化;磨牙长轴向远中倾斜角度为2.5°,下颌中切牙位置无改变。提示所有下颌第二磨牙均被近移到了恰当的位置,未见前牙支抗丧失。种植体作为支抗在拉下颌磨牙近移的过程中,发挥了强支抗的作用。