含氟纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损

背景：纳米氟磷灰石糊剂涂敷法可在人牙齿表面生长出类似牙釉质的柱状晶体。目的：观察1mg/L人体安全浓度的氟离子对纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损的影响。方法：将人工早期釉质缺损样本随机分成两组,分别在样本表面涂敷添加含氟的纳米氟磷灰石糊剂（实验组）与不加氟的纳米氟磷灰石糊剂（对照组）,置于37℃水浴孵箱中修复。反应前后对牙齿表面行扫描电镜观察,晶体结构分析,化学成分鉴定和韦氏显微硬度测试。结果与结论：经处理后,两组样品表面都可见有一层与牙釉质化学组成和晶体结构类似的晶体生成,但实验组牙釉质样品表面结晶度、韦氏显微硬度明显高于对照组样品（P〈0.05）,且实验组牙釉质样品表面更光滑。结果表明,人体安全浓度含氟纳米氟磷灰石糊剂可明显提高人工釉质龋显微硬度、结晶度和表面光滑度。     

含氟纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损

背景:纳米氟磷灰石糊剂涂敷法可在人牙齿表面生长出类似牙釉质的柱状晶体。目的:观察1mg/L人体安全浓度的氟离子对纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损的影响。方法:将人工早期釉质缺损样本随机分成两组,分别在样本表面涂敷添加含氟的纳米氟磷灰石糊剂(实验组)与不加氟的纳米氟磷灰石糊剂(对照组),置于37℃水浴孵箱中修复。反应前后对牙齿表面行扫描电镜观察,晶体结构分析,化学成分鉴定和韦氏显微硬度测试。结果与结论:经处理后,两组样品表面都可见有一层与牙釉质化学组成和晶体结构类似的晶体生成,但实验组牙釉质样品表面结晶度、韦氏显微硬度明显高于对照组样品(P<0.05),且实验组牙釉质样品表面更光滑。结果表明,人体安全浓度含氟纳米氟磷灰石糊剂可明显提高人工釉质龋显微硬度、结晶度和表面光滑度。     

含氟纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损

背景：纳米氟磷灰石糊剂涂敷法可在人牙齿表面生长出类似牙釉质的柱状晶体。 目的：观察1 mg/L人体安全浓度的氟离子对纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损的影响。 方法：将人工早期釉质缺损样本随机分成两组,分别在样本表面涂敷添加含氟的纳米氟磷灰石糊剂(实验组)与不加氟的纳米氟磷灰石糊剂(对照组),置于37 ℃水浴孵箱中修复。反应前后对牙齿表面行扫描电镜观察,晶体结构分析,化学成分鉴定和韦氏显微硬度测试。 结果与结论：经处理后,两组样品表面都可见有一层与牙釉质化学组成和晶体结构类似的晶体生成,但实验组牙釉质样品表面结晶度、韦氏显微硬度明显高于对照组样品(P < 0.05),且实验组牙釉质样品表面更光滑。结果表明,人体安全浓度含氟纳米氟磷灰石糊剂可明显提高人工釉质龋显微硬度、结晶度和表面光滑度。     

含氟纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损

背景：纳米氟磷灰石糊剂涂敷法可在人牙齿表面生长出类似牙釉质的柱状晶体。 目的：观察1 mg/L人体安全浓度的氟离子对纳米氟磷灰石糊剂修复人工釉质缺损的影响。 方法：将人工早期釉质缺损样本随机分成两组,分别在样本表面涂敷添加含氟的纳米氟磷灰石糊剂(实验组)与不加氟的纳米氟磷灰石糊剂(对照组),置于37 ℃水浴孵箱中修复。反应前后对牙齿表面行扫描电镜观察,晶体结构分析,化学成分鉴定和韦氏显微硬度测试。 结果与结论：经处理后,两组样品表面都可见有一层与牙釉质化学组成和晶体结构类似的晶体生成,但实验组牙釉质样品表面结晶度、韦氏显微硬度明显高于对照组样品(P < 0.05),且实验组牙釉质样品表面更光滑。结果表明,人体安全浓度含氟纳米氟磷灰石糊剂可明显提高人工釉质龋显微硬度、结晶度和表面光滑度。     

腭裂修复术对婴幼儿听力和中耳功能的短期影响

  目的  探讨单纯腭裂修复术对腭裂婴幼儿听力和中耳功能的短期影响。  方法  2013年1月至2014年11月在北京协和医院行手术治疗的先天性腭裂婴幼儿33例, 其中男22例, 女11例, 在腭裂修复术前、术后1~24个月对患儿进行畸变产物耳声发射(distortion product otoacoustic emission, DPOAE)、听性脑干反应(auditory brainstem response, ABR)和226 Hz鼓室声导抗图检测, 观察腭裂修复术后患儿听力和中耳功能的短期变化。  结果  33例(66耳)腭裂婴幼儿手术时平均年龄为17个月(8.5~25个月)。64耳接受术前DPOAE测试, 7耳(10.9%)通过; 56耳接受术后DPOAE测试, 19耳(33.9%)通过, 手术前后通过率比较差异具有统计学意义(P < 0.01);术前术后均接受DPOAE测试的54耳中, 16耳(29.6%)听力改善。63耳接受术前ABR检查, 其中Ⅴ波反应阈平均值为(43.73±13.65)dB nHL; 62耳接受术后ABR检查, 其中Ⅴ波反应阈平均值为(35.65±13.75)dB nHL, 手术前后反应阈值比较差异具有统计学意义(P < 0.01);术前术后均接受ABR检测的53耳中, 29耳(54.7%)术后V波反应阈降低, 听力改善。手术前后226 Hz鼓室声导抗图分型比较差异无统计学意义(P>0.05)。  结论  单纯腭裂修复术术后患儿短期听力得到改善, 但中耳功能改善不明显。     

ITI种植体在3．0TMRI检查中的伪影影响

的探索不同体积ITI种植体在3．0T磁共振成像（MRI）检态中的伪影影响。方法将同一直径不同长度的两枚TTI种植体分别固定在志愿者两侧下颌骨皮肤表面,做MRI测试。磁共振仪磁场强度为3．0T,采用TSE,EPI序列。结果两枚种植体都能在MRI检查中产生伪影,影响局部区域成像质量,其中体积较大的种植体产生的伪影更大。结论纯钛TTI种植体在MRI检查中,对其周嗣软组织成像有一定影响,并且伪影面积大小与种植体体积有关。     

两种种植系统和烤瓷冠在3.0T磁共振检查中的伪影影响

  目的  比较两种不同系统种植体和烤瓷冠在3.0T磁共振检查中的伪影影响。  方法  将ITI种植体和BLB种植体固定于健康志愿者下颌骨双侧第一磨牙对应的皮肤上, 行颅脑磁共振检查; 再分别将相同体积的金铂合金烤瓷冠和镍铬合金烤瓷冠黏固于ITI种植体和BLB种植体上行磁共振检查。磁共振仪磁场强度为3.0T, 采用TSE/EPI序列。观察并比较不同系统种植体和烤瓷冠在磁共振检查中产生的伪影。  结果  ITI种植体产生的伪影比BLB种植体产生的伪影小, 面积分别为2.7和4.0 cm²; 分别戴入金铂合金烤瓷冠和镍铬合金烤瓷冠后, 前者产生的伪影比后者小, 面积分别为4.9和7.3 cm²。  结论  与BLB种植体和镍铬合金烤瓷冠修复体相比, 纯钛ITI种植体和贵金属烤瓷冠修复体在磁共振检查中产生的伪影对图像质量影响较小。