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1 临床资料 患儿女,9个月。因发热1周,全身泛发丘疹,水疱5天,皮肤大面积破溃1天入院。患儿1周前出现发热,体温最高达39℃。5天前躯干部出现数个红色小丘疹,数小时后发展为绿豆至豌豆大小水疱,疱液清亮,皮疹渐增多并泛发全身, 相似文献
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数字化印模及图像处理技术在鼻赝复中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
应用自主研发的二维光学测量系统分别为1名鼻缺损患者和1名志愿者取制数字化面部印模.应用逆向工程图像处理软件,分别将两者数字化印模的原始数据进行删减和平滑后,利用软件拼合功能将志愿者的鼻提取,并存患者面部鼻缺损区进行拼接,从而完成鼻赝复体图像的三维重建.应用光学数字化印模技术能清晰的取得患者和志愿者面部三维图像模型,通过图像处理软件处理后,良好的重建了患者完整自然的面部三维模型,志愿者鼻形在患者面部贴合良好.提示光学数字化印模和图像处理技术能较好的进行患者面部形态二维重建,并将辅助颌面部赝复体的设计和制作. 相似文献
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目的 研究细胞外基质金属蛋白酶诱导因子EMMPRIN(basigin/CD147)在小鼠磨牙牙胚发育各阶段的表达,探讨其可能的生物学作用.方法 选择不同胎龄(E11、E13、E14、E15、E16、E18)和出生后1 d (P1)小鼠作为实验对象.Real-Time PCR定量检测小鼠牙胚发育各阶段下颌(E11和E13)及牙胚(E14、E15、E16、E18和P1)组织中EMMPRIN mRNA表达.原位杂交和免疫荧光染色观察EMMPRIN mRNA和蛋白在牙胚组织及相应发育阶段的颌面部发育器官中的定位表达.结果 Real-Time PCR结果显示,E13胎鼠下颌标本中EMMPRIN mRNA的表达约为E11胎鼠1.6倍(P〈0.01); P1小鼠牙胚组织中EMMPRIN mRNA表达约为E14胎鼠的2倍(P〈0.01);EMMPRIN mRNA表达随牙胚组织发育呈现递增趋势.原位杂交和免疫荧光染色观察显示,在E14胎鼠牙胚组织中EMMPRIN mRNA和蛋白表达定位一致,但E15、E16、E18胎鼠 EMMPRIN mRNA与蛋白表达定位有所不同;相应发育时段胎鼠下颌骨的Meckel软骨(E14)、视网膜(E15)、大脑血脑屏障(E15)及颚骨骨化中心(E16)中EMMPRIN 蛋白表达均呈现强荧光信号.结论 EMMPRIN的表达贯穿于早期牙胚发生和发育的多个阶段,但牙胚发育帽状期和钟状期阶段EMMPRIN mRNA与蛋白表达并不完全一致.EMMPRIN有可能以外分泌或旁分泌方式,通过调控上皮间质的相互作用参与牙胚发育及形态发生. 相似文献
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目前,国内医院对治疗半侧颌面萎缩类疾病中的耳、眼缺失仍然采用技师手工翻制蜡模的方法。本文从医工结合的角度,采用患者CT数据或激光扫描数据,将CAD/CAM技术与快速成形技术(Rapid prototyping,RP)结合用于患者半侧耳及眼缺失治疗,可通过RP模型直接生成硅橡胶赝复体。临床结果表明该方法成功地提高了赝复体的外形精度,并可使之与病人的缺损面周围组织完美衔接,对医工结合领域的发展具有重要的意义。 相似文献
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目的:对附着体应用于单侧上颌骨缺损修复进行三维有限元力学分析。方法:利用已有的单侧上颌骨缺损的三维有限元模型,在ANSYS程序中分别设计并建立附着体支架,修复两种不同上颌骨缺损情况的模型(附着体位于中切牙或尖牙近中面),进行三维有限元力学分析。结果:应力集中区均位于健侧腭部基托的近前牙区,健侧后牙受力均匀;附着体位于中切牙近中时,中切牙近中面应力值为1.306MPa,附着体与舌面导板的连接处应力较集中;附着体位于尖牙近中时,尖牙近中面应力值为0.797MPa,应力集中区位于舌面导板的前下方转角区。结论:附着体应用于单侧上颌骨缺损修复,符合生物力学要求,未增加基牙的负荷。对附着体支架的设计,应作进一步研究。 相似文献
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目的 研究舌向集中(牙合)与解剖(牙合)下颌种植覆盖义齿在正中、侧向及前伸(牙合)应力加载时其支持组织的应力分布情况.方法 应用三维光弹实验的方法,在CawoodV类无牙颌模型双侧侧切牙至尖牙区域内各植入1枚种植体后制作环氧树脂光弹模型,分别进行正中、侧向及前伸(牙合)垂直应力(1 kg)加载;应力冻结后,分析和比较舌向集中(牙合)与解剖(牙合)种植覆盖义齿周围支持组织的应力分布情况.结果 侧向(牙合)加载时,舌向集中(牙合)种植覆盖义齿工作侧与平衡侧的应力差小于解剖(牙合)种植覆盖义齿;侧向及前伸(牙合)加载时,舌向集中(牙合)种植覆盖义齿工作侧和平衡侧支持组织承受应力均小于解剖(牙合)种植覆盖义齿.结论 在使用2个种植体的球帽种植覆盖义齿时,舌向集中(牙合)对种植体周围骨质有一定保护作用,且在侧向运动时更稳定,可作为种植全口覆盖义齿的首选人工牙. 相似文献