不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷抛光效果的比较研究

目的 比较临床常用的几种玻璃陶瓷抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果,为临床抛光工具的选择提供依据。方法 制作60个陶瓷试件,随机分为6组（n=10）,进行不同的表面处理。G组：釉膏上釉;SF组：使用松风Porcelain Adjustment Kit+CeraMaster 组合抛光;3M组：使用3M Sof-Lex^TMDiscs套装抛光;Tob组：使用道邦玻璃陶瓷套装抛光;EVE组：使用EVE DIAPRO套装抛光;Ivo组：使用义获嘉伟瓦登特OptraFine^®套装抛光。测量各组试件表面粗糙度值Ra、Rz并作统计分析,通过扫描电子显微镜（SEM）观测试件并对其表面形态作定性分析。结果 G、3M、SF、Ivo、EVE、Tob组的抛光后Ra值分别为（0.069±0.008）、（0.073±0.009）、（0.223±0.025）、（0.229±0.022）、（0.491±0.093）、（0.763±0.067）µm,经统计学分析,Ra值从小到大依次为G和3M组P>0.05）,其余各组间差异均有统计学意义（P<0.05）。Rz值统计结果与Ra值一致。SEM观察结果与粗糙度值的统计结果一致。结论 不同抛光工具对CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,本实验条件下,Sof-Lex^TM Discs套装抛光表面最光滑,效果近似釉膏上釉。     

三种抛光套装对氧化锆全瓷冠抛光效果比较研究

目的　比较临床常用的3种抛光套装对氧化锆全瓷冠的抛光效果。方法　使用绿色砂石打磨大小相同的圆柱状氧化锆试件45块,随机均分为5组,分别命名如下。SHOFU组：采用Procelain Adjustment Kit PN0301抛光试件;EVE组：采用Rotary Grinding and Polishing Instruments HP321抛光试件;Kerr组：采用Occlubrush抛光刷抛光试件;上釉组：试件表面进行上釉处理;对照组：试件不做处理。测量各组试件表面粗糙度Ra值,在扫描电子显微镜（scanning electron microscope,SEM）下观察试件表面形貌。将牙龈卟啉单胞菌与上述试件混合培养,测定其表面细菌黏附量,并在SEM下观察细菌的黏附情况。结果　各组试件表面粗糙度Ra值及细菌黏附量总的比较,差异具有统计学意义（均P < 0.05）。SHOFU组、EVE组、Kerr组试件表面粗糙度Ra值和细菌黏附量均依次增大,且组间比较差异均有统计学意义（均P < 0.05）。SEM观察显示,SHOFU组、EVE组试件表面见浅细划痕;Kerr组、对照组试件表面见深划痕和密集的凹坑缺陷;上釉组试件表面光滑。细菌在SHOFU组、EVE组、Kerr组、对照组试件表面主要分布在划痕及缺陷周围,其中SHOFU组和EVE组细菌数量较少,Kerr组和对照组数量最多;细菌在上釉组试件表面散在分布,数量最少。结论　3种抛光套装中,Procelain Adjustment Kit PN0301的抛光效果最好。     

不同的表面处理对Sirona CEKEC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响

目的 比较不同表面处理对Sirona CEREC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响.方法 按照不同的表面处理方式将试件分为7组：对照组（A）、自身上釉组（B）、釉膏上釉组（C）、2组不同松风抛光方案组（D、E）,2组不同EVE抛光方案组（F、G）,测量试件表面处理后的粗糙度值,体视显微镜定性分析试件表面形貌.结果 各组粗糙度值依次为：A组（0.139±0.010）μ m、B组（0.129±0.006）μm、C组（0.090±0.029） μm、D组（0.145±0.009）μ m、E组（0.101±0.007）μ m、F组（0.172±0.016）μ m、G组（0.278±0.027）μ m;A组与C组、D组与E组、D组与G组、E组与F组、E组与G组及F组与G组之间均有显著性差异（P＜0.05）,A组与B组、C组与E组及D组与F组之间均无统计学差异（P＞0.05）：体视显微镜分析结果与粗糙度值分析结果一致.结论 釉膏上釉较其它表明处理方式效果好,不同的抛光工具对Sirona CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,其中松风抛光工具抛光效果堪比釉膏上釉的效果.     

不同抛光方向对全瓷部分贴面边缘形貌的影响

目的：评价不同抛光方向对全瓷部分贴面边缘表面粗糙度以及暴露树脂水门汀宽度的影响,为临床抛光提供参考。方法：在收集的离体牙中,挑选无龋坏,无磨耗且釉质光滑完整的前磨牙20颗,牙体预备后,制作IPS E. max Press部分贴面。部分贴面粘接完成后,用金刚砂车针进行边缘线的修整,然后使用EVE Diapol TWIST抛光工具,按照抛光方向从牙体组织到全瓷部分贴面方向和从全瓷部分贴面到牙体组织方向对同一部分贴面的两条边缘线进行抛光,标记为T-C组和C-T组。通过激光显微镜和扫描电镜及色散能谱,记录并分析全瓷部分贴面边缘的微观形貌、表面粗糙度及树脂水门汀暴露宽度。结果：T-C组的表面粗糙度值要小于C-T组的表面粗糙度值,T-C组的表面粗糙度值为（2.48±0.62）μm,C-T组的表面粗糙度值为（3.59±0.56）μm。T-C组的树脂水门汀条带的暴露量小于C-T组的树脂水门汀条带的暴露量,T-C组暴露树脂水门汀条带宽度为（98.10±29.64）μm,C-T组暴露树脂水门汀条带宽度为（145.00±30.50）μm。差异均有统计学意义。结论：不同抛光方向抛光全瓷部分贴面后,其表面粗糙度...     

振荡培养条件下氧化锆陶瓷和钛合金表面粗糙度与细菌黏附的比较

目的：振荡培养条件下比较氧化锆陶瓷和钛合金抛光后表面粗糙度的差异及变形链球菌在其表面的黏附能力。方法：制作氧化锆陶瓷和钛合金样本各6个。A组氧化锆陶瓷用EVE专用抛光轮高度抛光,B组钛合金原始铸件依次用粗砂纸、水砂纸（依次为200目、600目、800目、1000目、1200目、1500目、2000目）逐级磨光,再用抛光轮抛光。用表面粗糙度检测仪测量各组样本的表面粗糙度。将两组样本置于变形链球菌悬浮液中,37℃振荡培养条件下培养1h。荧光显微镜下计数黏附变形链球茵的数量,并通过扫描电子显微镜观察各样本的表面形貌。结果：A、B两组的表面粗糙度分别为（0．0548±0．027）μm、（0．0483±0．006）μm。变形链球菌在A、B两组样本表面的黏附数分别为4．2222±1．019、8．5417±2．208。经统计学分析,A、B两组表面粗糙度差异无显著性（P〉0．05）,A组与B组样本变形链球菌黏附数差异有显著性（P〈0．05）。扫描电镜显示,氧化锆陶瓷抛光组试件表面散在少量细小孔隙,而钛合金抛光组试件表面未见少量细小空隙,但有较多裂隙和凹陷。结论：氧化锆陶瓷和钛合金抛光后表面能达到同样光滑,但钛合金表面比氧化锆陶瓷表面更容易黏附变形链球茵。     

抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响

目的：比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法，对陶瓷表面平滑度产生的影响。方法：分别以SEM和粗糙度测试仪，对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析。试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法。结果：SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似。经粗糙度测试仪测得的Ra值，抛光组为0.412μm，自上釉组为0．417μg。两者比较未见显著性差异（P＞0．05），且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性。结论：采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面。     

3种抛光方法对6种复合树脂的抛光效果比较

目的：比较3种抛光方法对6种常用的复合树脂的抛光效果。方法：6种树脂分别为Venus、Solitaire 2、Te-Econom、Charisma、Composan LCM和Swiss TEC。使用统一的模具制作试件,每种树脂制作15个,随机分成3组,分别用松风Composite Polishing Kit CA0310、松风super-snap抛光系统、金刚砂抛光钻修形后再用橡皮杯蘸抛光膏抛光。使用表面粗糙度测量仪测试抛光面的表面粗糙度。结果：Composite Polishing Kit抛光组和super-snap系统抛光组的Ra、Rz和Ry值统计学上没有显著差异,平均Ra值都小于0.2μm;金刚砂抛光钻修形后再用橡皮杯蘸抛光膏抛光后的表面最粗糙,平均Ra值在0.442-0.548μm之间。所有6种树脂使用Composite PolishingKit和super-snap系统抛光后的表面粗糙度Ra、Rz和Ry值统计学上没有显著差异。结论：松风Composite Polis-hing Kit CA0310和松风super-snap抛光系统都可以获得理想的抛光效果。临床上常用的金刚砂钻修形后再用橡皮杯蘸抛光膏抛光的方法不够理想。本研究中的6种树脂具有近似的抛光性能。     

二氧化锆与钴铬合金修复体精细抛光后对天然牙磨耗的影响

［摘要］ 目的 研究临床上精细抛光对二氧化锆及钴铬合金修复体材料与天然牙间磨耗的影响。方法 使用表面粗糙度仪测量修复体材料抛光前后的粗糙度值（Ra）。在摩擦磨损测试机上,模拟口腔内的力学和化学环境,进行天然牙与不同处理的修复体材料间的摩擦磨损实验,测量两者间摩擦系数（μ）。测量实验前后各磨擦对象的自身质量损失（Δm）,扫描电镜观察实验后天然牙表面。结果 各实验组中表面Ra,不烧结饰瓷抛光组（0.933±0.186）μm小于不抛光组（2.350±0.327）μm（P=0.000）;烧结饰瓷组抛光组（2.300±0.189）μm小于不抛光组（4.200±0.871）μm（P=0.000）;钴铬合金抛光组（0.250±0.083）μm小于不抛光组（1.200±0.894）μm（P=0.000）,有统计学意义。对磨天然牙自身质量损失量（Δm）,不烧结饰瓷抛光组（6.067±0.921）mg小于不抛光组（16.690±2.113）mg（P=0.001）;烧结饰瓷抛光组（5.893±0.838）mg小于不抛光组（14.016±0.063）mg（P=0.000）;钴铬合金抛光组（4.573±1.954）mg小于不抛光组（11.433±1.087）mg（P=0.008）有统计学意义。各组修复材料自身质量损失量（Δm）不烧结饰瓷抛光组（0.300±0.010）mg小于不抛光组（0.800±0.010）mg（P=0.001）;烧结饰瓷抛光组（0.456±0.055）mg小于不抛光组（0.650±0.086）mg（P=0.031）;钴铬合金抛光组（10.236±0.357）mg小于不抛光组（14.300±0.526）mg（P=0.000）有统计学意义。抛光组的摩擦系数：不烧结饰瓷氧化锆0.068,烧结饰瓷热氧化锆0.095,钴铬合金0.063明显小于不抛光组不烧结饰瓷二氧化锆0.096,烧结饰瓷二氧化锆0.119,钴铬合金0.103,差异有统计学意义。结论 修复体表面精细抛光,可以有效降低其表面粗糙度,减小其与牙釉质间的摩擦系数,避免天然牙的过度磨耗。     

3种义齿基托材料抛光后表面粗糙度的比较研究

目的研究3种义齿基托材料抛光前后的表面粗糙度度。方法选择聚甲基丙烯酸基托树脂（PMMA）、弹性义齿材料和不碎胶等3种义齿基托材料,将材料制成12mm×12mm×2mm的标准试件,每种材料各20个,对试件进行打磨和抛光后,采用表面轮廓测量仪检测材料抛光前后的表面粗糙度,通过扫描电镜对材料表面形貌进行表面观察。结果PMMA、弹性义齿材料和不碎胶抛光后表面粗糙度分别为（0．160±0．018）μm、（0．110±0．011）μm和（0．141±0．017）μ。弹性义齿材料和不碎胶的表面粗糙度低于PMMA（P〈0．05）,表面划痕也少于PMMA。结论弹性义齿材料和不碎胶更能获得抛光效果,表面粗糙度优于PMMA。     

抛光材料的粒度对复合树脂表面粗糙度及润湿性的影响

目的：比较抛光材料的粒度对3种复合树脂粗糙度及表面润湿性的影响。方法选择3种复合树脂材料,分别为Filtek Z100（A组）,Charisma（B组）和Clearfil AP-X（C组）,采用不同粒度的抛光材料（Sof-LexTM Extra Thin抛光彩碟）,随机分组抛光,然后,检测表面粗糙度（Ra）及接触角,并进行统计学分析。结果随抛光彩碟粒度减小,3种材料的Ra值均逐渐减小,精细粒度抛光组的接触角显著低于3个较粗粒度抛光组（P〈0.05）;3种材料在相同抛光材料粒度处理后,Ra显著不同（P〈0.05）：A组＜B组＜C组,同时,A组的接触角明显高于B组和C组（P〈0.05）。结论复合树脂的表面粗糙度及润湿性与材料种类和抛光材料的粒度相关。     

不同磨光方法对弹性义齿基托表面粗糙度影响的实验研究

目的:研究不同磨光处理对弹性义齿基托表面粗糙度的影响,为临床选择合适的磨光方法提供参考。方法:常规制作弹性基托试件90个,随机分为3组,分别采用硅橡胶磨头(1#-3#),金刚砂磨头(001#、002#),砂纸卷(500目、1000目、1500目)粗磨,采用布轮沾水,布轮沾抛光蜡,布轮沾抛光蜡和亮托抛光浆细磨抛光,利用表面粗糙度检查仪测定其粗糙度,扫描电镜观察磨光后的表面形貌,然后对检测结果进行统计学分析。结果:表面粗糙度检查仪检测:不同粗磨方法样本组的表面粗糙度(Ra值)的平均值比较:砂纸组<硅橡胶磨头组<金刚砂组,统计学上存在显著性差异(P<0.001);各组抛光方法表面粗糙度(Ra值)的平均值比较:布轮沾抛光膏和亮托抛光浆组<布轮沾抛光膏组<布轮沾水组,统计学上存在显著性差异(P<0.001)。扫描电镜观察:经金刚砂粗磨,试件表面粗糙,划痕较多,较深;经硅橡胶磨头粗磨,试件表面较光滑,划痕较浅;经1500目砂纸粗磨,试件表面最光滑,划痕最浅。经布轮沾水抛光,试件表面粗糙,划痕较多,较深;经布轮沾抛光蜡抛光,试件表面较光滑,划痕较浅;经布轮沾抛光蜡和亮托抛光浆抛光,试件表面最平滑。结论:经砂纸;硅橡胶磨头;金刚砂处理弹性义齿试件,获得不同的表面粗糙度,经1500目砂纸和硅橡胶磨头处理的试件表面平滑。经布轮沾抛光蜡,布轮沾亮托抛光浆抛光弹性义齿试件表面,表面粗糙度得到显著降低,试件表面平滑。弹性义齿试件不同的粗磨和抛光方法之间存在交互作用,经1500目砂纸粗磨和布轮沾抛光蜡和亮托抛光浆处理后,可以获得较低的粗糙度值,试件表面最平滑。     

温度循环老化对复合树脂表面粗糙度的影响

目的 了解复合树脂经温度循环老化作用后表面粗糙度的变化,分析复合树脂组成成分和工艺对其表面粗糙度的影响,为临床选择和应用复合树脂材料提供指导.方法 选用复合树脂A(Clearfil AP-X,Kurary)、B(Filtek P60,3M ESPE)、C(Filtek P90,3M ESPE)和D(Clearfil MAJESTY,Kurary)制成试样,每组5个样本,在抛光即刻和经10000次及20000次温度循环(55℃和5℃,30s)处理后,用表面粗糙度仪检测试样,获得表面粗糙度Ra值,并进行统计学分析.结果 抛光即刻树脂A的Ra值[(0.16±0.03)μm]显著高于树脂B[(0.09±0.01)μm]、树脂C[(0.09±0.02)μm]和树脂D[(0.08±0.02)μm](P＜0.05),树脂B、C、D的Ra值差异无统计学意义(P＞0.05);4种树脂在温度循环10 000次后的Ra值均无变化(P ＞0.05);20 000次温度循环后,树脂A的Ra值显著增高[(0.20±0.02) μm]较抛光后即刻[(0.16±0.03)μm]和10000次温度循环后[(0.17±0.03) μm]显著增高(P＜0.05),其他3种树脂Ra值仍无显著变化(P＞0.05).结论 短期温度循环老化作用不会导致复合树脂表面粗糙度变化,延长老化时间后大颗粒玻璃填料树脂表面粗糙度增加;纳米工艺可显著改善树脂表面粗糙度;新型硅氧烷类树脂的表面粗糙性表现良好.     

抛光对直接修复用牙色材料粗糙度及表面能的影响

目的 评价表面抛光对3种直接修复用牙色材料粗糙度及表面能的影响,以期为临床提供参考.方法 选用3种直接修复用牙色材料,复合树脂(CR)( Fihek Z350,3M ESPE,America)、玻璃复合体(Giomer)(Beautifil Ⅱ,Shofu,Japan)和树脂改性玻璃离子(RMGIC)(FujiⅡLC,GC,Japan),分别放入预制模具中(8 mm×8 mm×2 mm),材料表面使用聚酯膜覆盖,每种材料制作试件14个,光照固化后,用抛光碟进行序列抛光(灰60μm→紫30μm→绿20 μm→红7μm).抛光前后检测表面粗糙度(Ra)及表面能(γSTOT),并对结果进行统计学分析.结果 抛光前CR和Giomer的Ra[分别为(0.098 ±0.019)、(0.093±0.020) μm]和γSTOT[分别为(31.78 ±2.14)、(32.63±2.12) mN·m-1]均显著低于RMGIC[Ra及γSTOT分别为(0.134±0.019) μm和(40.22±1.05) mN· m-1],P＜0.05.抛光后3种材料的Ra均增大,CR[ (0.141±0.018) μm]＜Giomer[ (0.185 ±0.013) μm]＜RMGIC[(0.494±0.075) μm],3种材料间差异有统计学意义(P＜0.05);3种材料γSTOT均降低,Giomer [(26.60±5.61) mN· m-1] ＜CR[ (29.16±5.73) mN· m-1] ＜RMGIC[ (32.30±3.83) mN· m-1],3种材料间差异有统计学意义(P＜0.05).结论 直接修复用牙色材料抛光后的表面粗糙度及表面能与材料种类密切相关.     

不同抛光及上釉方法对牙科陶瓷表面粗糙度的影响

目的 用多个参数评价不同表面粗糙度及上釉方法对陶瓷上釉后表面光洁度的影响,为临床修复体的制作提供可参考的依据.方法 制作盘状烤瓷试件100个,随机分为5组(A、B、C、D、E组),每组各20个,在注水条件下分别用碳化硅砂纸逐级打磨至220#、320#、600#、800#和1200#,各组再随机分为2亚组,每亚组10个,分别进行釉瓷上釉和自身上釉.上釉前、后分别测量表面粗糙度参数轮廓算术平均偏差(Ra)、轮廓的最大高度(Rz)、轮廓单元的平均宽度(RSm)以及粗糙度的最大峰值(Rp),并用扫描电镜定性分析表面形貌.结果 打磨至220#的陶瓷上釉后表面Ra最大[釉瓷上釉为(0.532 ± 0.109)μm、自身上釉(0.552 ± 0.123)μm],打磨至1200#的陶瓷上釉后表面Ra最小[釉瓷上釉为(0.201 ± 0.050)μm、自身上釉(0.126 ± 0.016)μm],两种上釉方法都能获得光滑的上釉表面.结论 上釉前的抛光处理以及不同上釉方法对上釉效果产生显著影响.     

多种抛光磨头对烤瓷表面粗糙度的影响

目的：比较釉瓷上釉和不同打磨抛光磨头处理后,烤瓷表面粗糙度的不同,为临床选择抛光方法提供实验依据。方法：制作圆盘状瓷片70片,随机分为7组（n ＝10）。以釉瓷上釉作对照为第1组,第2组至第7组均用松风氧化铝白砂石打磨,第2组打磨后不做处理;第3组打磨后使用松风 Ceramiste 烤瓷抛光套装磨头抛光;第4组在第3组的基础上加用松风Ceramaster 精细烤瓷抛光磨头抛光;第5组打磨后使用德国固美（Komer）烤瓷抛光套装磨头抛光;第6组打磨后使用固美氧化锆抛光磨头抛光;第7组打磨后使用德国 EVE 氧化锆抛光磨头抛光。对瓷片进行轮廓算术平均偏差（Ra）、轮廓的微观不平度十点高度（Rz）、最大轮廓峰高（Rp）的测量,使用 SPSS 16．0统计软件对测量值进行单因素方差分析,并采用扫描电镜对表面形态进行观察。结果：第2、3组的 Ra、Rp 值均大于第1组（P ＜0．05）;第4、5、6、7组的 Ra、Rp 值与第1组差异无显著性（P ＞0．05）;第2、3、4、5组的 Rz 值均大于第1组（P ＜0．05）;第6、7组的 Rz 值与第1组无显著性差异（P ＞0．05）。电镜下观察第6、7组与第1组瓷面平整度相似;第4、5组瓷面较平整,凹坑较少;第2、3组瓷面棱脊、凹坑较多。结论：使用打磨颗粒为微米级超细天然金刚砂的抛光磨头能达到类似上釉的效果。     

前磨牙邻面板固位全瓷粘接桥修复的应用研究

目的 探究IPS e.max Press玻璃基铸造陶瓷和WIELAND氧化锆陶瓷邻面板固位粘接桥修复下颌第二前磨牙缺失的抗折性能及模拟短期使用后的修复效果。方法 选取成人离体下颌第一前磨牙和第一磨牙各32颗,体外建立下颌第二前磨牙缺失模型。随机分为4组（n=8）,E0组:IPS e.max Press铸瓷粘接桥;E1组:IPS e.max Press铸瓷粘接桥+30万次机械循环加载;W0组:WIELAND氧化锆全瓷粘接桥;W1组:WIELAND氧化锆全瓷粘接桥+30万次机械循环加载。万能测试机测试各实验组的破坏载荷力值。结果 机械循环加载后试件均无松动或脱落,无明显裂纹。万能测试机测试结果:E0、E1、W0、W1组破坏载荷分别为（1 242.85±260.11）、（1 062.60±179.98）、（1 650.85±206.77）、（1 167.61±265.50） N,均大于下颌第二前磨牙所受最大力（360 N）,差异有统计学意义（P<0.001）。E0组破坏载荷小于W0组（P<0.05）。循环加载后,E1组和W1组间差异无统计学意义（P>0.05）。循环加载后,铸瓷组（E1、E0）破坏载荷变化不显著（P>0.05）,氧化锆组（W0、W1）明显降低（P<0.05）。结论 IPS e.max Press铸瓷和WIELAND氧化锆全瓷邻面板固位粘接桥修复下颌第二前磨牙缺失均能够获得良好的抗折性能,短期修复效果满意。     

微波和水浴聚合方法对树脂基托义齿硬度和表面粗糙度影响的研究

目的研究微波和水浴聚合方法对树脂基托义齿硬度和表面粗糙度的影响。方法用微波法和水浴法分别制作20mm×20mm×2.5mm的树脂试件各8个,用洛氏硬度计测量其硬度及表面粗糙度轮廓仪测量其表面粗糙度。结果采用微波法和水浴法制作的树脂试件,洛氏硬度分别为39.9±0.9和39.8±0.6,差别无统计学意义（P〉0.05）;表面粗糙度（Ra）分别为0.25±0.02μm和0.26±0.03μm,差别无统计学意义（P〉0.05）。结论微波法和水浴法制作的树脂试件硬度和表面粗糙度无显著性差异,但微波法聚合时间较水浴法显著缩短。     

饰面瓷表面粗糙度对全瓷修复体颜色及透射率的影响

目的：探讨不同饰面瓷表面粗糙度对全瓷修复体颜色及透射率的影响。方法：将Cercon氧化锆陶瓷材料和IPS e.max铸瓷材料分别制作成厚2.0 mm、直径15 mm的圆盘状试件,各分为4组,每组5个试件,试件表面分别用水砂纸打磨至400#、600#、800#、1000#,测量其表面粗糙度Ra值、L*a*b*颜色参数及透射率。结果：随着饰面瓷表面粗糙度的增加,Cercon氧化锆的明度L*值呈增大趋势,b*值呈减小趋势,IPS e.max热压铸瓷的L*、a*、b*值无明显变化趋势;可见光透射率呈上升趋势。结论：不同饰面瓷表面粗糙度对Cercon氧化锆和IPS e.max全瓷修复体的颜色及透射率有一定影响。     

两种抛光方法对纯钛和钴铬合金粗糙度的影响

目的：研究两种抛光方法对纯钛和钴铬合金表面粗糙度的影响。方法：将纯钛和钴铬合金各分为3组,除一个对照组外,其余两组分别进行机械法和化学法抛光。记录试件抛光后的减重率（wt%）,测量表面粗糙度Ra值,并用扫描电镜（SEM）观察试件表面形态变化。结果：同种金属经过不同抛光处理后,减重率和表面粗糙度Ra值都有显著差异（P〈0.01）,且纯钛和钴铬合金分别经过同种抛光处理后,减重率和表面粗糙度也均有显著差异（P〈0.01）。扫描电镜观察表明,化学抛光后钴铬合金表面更加光滑,均匀一致。结论：与纯钛相比,钴铬合金更容易抛光,且化学法比机械法更易于获得良好的金属表面。     

表面抛光和上釉对Y-TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

目的研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响。方法制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理。测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量。结果抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05)。被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。结论上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度。抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面。