腭侧与颊侧微种植体支抗远移上颌磨牙的临床疗效及对侧貌美学效果的影响研究

目的：探讨腭侧与颊侧微种植体支抗远移上颌磨牙的临床疗效及对侧貌美学效果的影响。方法：选取2018年1月-2020年12月诊治的非拔牙不完全Ⅱ类关系错(牙合)畸形患者98例，将患者随机分为腭侧组与颊侧组，每组49例，两组分别采取腭侧与颊侧植入微种植体支抗行正畸治疗，观察患者植入成功率，治疗前和治疗后6个月时上颌磨牙远移效果及侧貌美学标志点变化。结果：腭侧组共植入116枚微种植钉，种植成功率为89.66%，颊侧组共植入108枚微种植钉，植入成功率为79.66%，两组植入成功率比较差异有统计学意义（P<0.05）；两组治疗后翼上颌-上第一恒磨牙(Ptm-6)值较治疗前明显改善（P<0.05），且治疗后腭侧组Ptm-6值改善程度优于颊侧组（P<0.05）；两组患者治疗后较治疗前鼻唇角、面型角、上唇突度明显改善，差异比较有统计学意义（P<0.05），下唇突度治疗前后测量值比较差异无统计学意义（P>0.05）。结论：使用微种植体支抗远移磨牙时采取腭侧入路植入较颊侧颊侧入路植入成功率高，远移效果更好，软组织侧貌美学均较治疗前得到改善。     

自攻型微螺钉种植体支抗推磨牙向后的临床应用研究

目的：评价自攻型微螺钉种植体作为强支抗推上颌磨牙向远中移动的有效性。方法：选择3例安氏Ⅱ类,上颌拥挤量5～7mm,采用自攻型微螺钉种植体作为支抗,推磨牙向远中移动的临床病例。通过X线头影测量分析比较矫治前后上颌第一磨牙和中切牙的变化情况。结果：所有病例均达到了预期矫治效果。治疗前后头影测量分析比较上颌第一磨牙和腭平面的夹角（6／ANS—PNS）、上颌第一磨牙牙冠到过翼上颌裂点作眶耳平面的垂线之间的距离（6-coronal／PTV）、上颌第一磨牙根尖到PTV的距离（6-apical／PTV）、上颌第一磨牙釉牙骨质界到PTV的距离（6-CEJ／PTV）等指标有显著统计学意义。治疗过程中种植体均保持了稳定,种植体周围软组织健康。结论：利用自攻型微螺钉种植体作为强支抗推磨牙向远中移动,是不拔牙矫治上颌牙齿前突,解除轻、中度拥挤的有效方法之一,简便、有效且不受患者依从性的影响。     

应用微种植体支抗不拔牙矫治重度牙列拥挤

目的：探讨采用微种植体非拔牙矫治重度牙列拥挤的临床效果及特点。方法：患者12例,均为安氏II类错,面型基本正常,上牙弓拥挤度〉8mm,在上颌颊侧牙槽骨共植入24枚微种植体,将Ni-Ti螺旋推簧置于上颌第二前磨牙与上颌第一磨牙之间,推磨牙远移,术前后行X线头影测量和模型分析。结果：12例重度拥挤患者治疗后均达到满意效果,牙列整齐,咬合关系正常,面型良好,治疗前后SNA、SNB、U1-NA未见明显变化（P〉0.05）,上颌第一磨牙平均远中移动距离5.48mm（P〈0.01）,其颊向移动距离及旋转角度无统计学意义。结论：应用微种植体推磨牙向远中能成功的非拔牙矫治重度牙列拥挤,种植体支抗在磨牙远移过程中,发挥了绝对强支抗作用。     

种植钉远移Ⅱ类高角病例上牙列的临床研究

目的:评价采用微螺钉种植体作为强支抗的Ⅱ类高角病例中远中移动上颌全牙列治疗方法的有效性。方法:选择15例安氏Ⅱ类成人高角病例,双侧上颌磨牙区植入自攻型微螺钉种植体作为支抗,实现上颌全牙列远移。通过对比头颅侧位片来分析矫治前后侧貌以及上颌磨牙和中切牙的变化情况。结果:头影测量分析比较上颌第一磨牙和第二磨牙明显远中移动同时伴有冠远中倾斜和少量压入,参与研究病例的正畸效果都达到预期。治疗中,种植体周围组织健康,种植体稳定。结论:设计远中移动上颌牙列的成人Ⅱ类高角病例,配合微螺钉种植体作为强支抗,治疗结果良好,是不拔牙解除Ⅱ类关系,矫治上颌牙齿前突,轻度拥挤的有效方法之一。     

微种植体支抗联合自制式滑动杆单侧推磨牙向后的临床应用

目的：探讨运用微种植体支抗联合自制式滑动杆单侧推磨牙向后的应用要点。方法：选择安氏Ⅱ类亚类错牙合7例(男2例,女5例),年龄15～30岁,平均18.7岁。轻中度拥挤,拥挤度平均4～5mm,或伴上中线偏移,或侧貌较突者。采用单侧植入微种植体支抗钉联合自制式滑动杆推磨牙向后,恢复上下磨牙的中性关系,保持上颌磨牙两侧对称,推力250g。疗程3～5个月,平均4个月。通过临床评价和矫治前后的照片和模型分析其治疗的有效性。结果：7例患者有效地应用微种植体支抗联合自制式滑动杆单侧推磨牙向后,矫正了单侧磨牙Ⅱ类远中关系、轻中度拥挤、中线偏移或恢复上颌磨牙两侧对称,取得较好的临床疗效。远移侧上颌第一磨牙远中平均移动4.2mm,平均移动速度1.05mm/月。结论：微种植体支抗联合自制式滑动杆单侧推磨牙向后,发挥了绝对强支抗作用,有效地远中移动上颌磨牙,容易取得患者配合,取材容易制作简便,有临床推广价值。     

两种方法腭向移动上颌第二磨牙效果比较

目的：研究安氏Ⅰ类错患者中,分别采用微型种植体作支抗与口内支抗腭向移动上颌第二磨牙进行比较,以评价两种方法各自的特点。方法：将20例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法腭向移动上颌磨牙。测量上颌第二磨牙在移动速度和颊舌向、垂直方向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变。结果：种植体作支抗组上颌第二磨牙平均腭向移动3.8mm,疗程4.4个月,平均移动速度0.86mm/月,磨牙垂直向压低0.45mm。对照组上颌第二磨牙平均腭向移动4.0mm,疗程6.2个月,平均移动速度0.65mm/月,磨牙垂直向伸长1.86mm。结论：两种方法比较,种植体的支抗更强,磨牙移动速度更快。二者磨牙的移动方式有所区别。     

种植体与钟摆矫治器远移上颌磨牙效果比较

目的：研究安氏Ⅱ类错牙合患者中,采用微型种植体作支抗与钟摆矫治器远移上颌磨牙进行比较,以评价两种方法的各自特点。方法：将28例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法远移上颌磨牙。测量上颌第一磨牙在近远中方向、颊舌向、垂直向的位置变化以及水平向的扭转变化,以衡量磨牙的位置改变。并通过上中切牙的位置变化,评价支抗强弱。结果：种植体作支抗组上颌第一磨牙平均远中移动5.2mm,疗程4.4个月,平均移动速度1.2mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度4.6°;磨牙颊向移位1.6mm;磨牙发生远中舌向水平旋转约4.9°;上颌中切牙位置基本无改变。钟摆矫治器组上颌第一磨牙平均远中移动3.5mm,疗程4.2个月,平均移动速度0.8mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度12.6°;磨牙颊向移位0.5mm;磨牙发生远中舌向水平旋转约2.8°;上颌中切牙切端向远中移动0.5mm。结论：两种方法比较,种植体的支抗更强,未见前牙支抗丧失,且二者磨牙的移动方式有所区别。     

微型种植体支抗在青少年减数正畸治疗中的应用效果

目的 研究微型种植体支抗技术在青少年减数正畸治疗中的应用效果。方法 选取2019年 7月-2022年7月我院口腔科收治的50例行减数双侧上颌第一前磨牙的青少年减数正畸患者为研究对 象，按照支抗控制方式分为研究组与对照组，每组25例。研究组选择微型种植体支抗作为磨牙支抗控 制方式，对照组选择Nance弓作为磨牙支抗控制方式，比较两组治疗前后头影测量数据（SNA、FH-MP、U1-SN、U1-NA°、U1-NAmm）以及治疗前后垂直向（6u-PP）和矢状向（6u-PV）的变 化。结果 两组患者治疗后SNA、U1-SN、U1-NA°、U1-NAmm低于治疗前，6u-PV高于治疗前， 差异有统计学意义（P＜0.05）；研究组治疗后U1-SN、U1-NAmm、6u-PV低于对照组，差异有统 计学意义（P＜0.05）；两组FH-MP和6u-PP比较，差异无统计学意义（P＞0.05）。结论 微型种植 体支抗和Nance弓都能在青少年减数正畸治疗中起到良好的支抗作用，且微型种植体支抗作为绝对支抗较 Nance弓效果前牙内收效果更为确切，并产生更小的磨牙移位     

改良钟摆式矫治器远移上颌磨牙的初步研究

观察改良钟摆式矫冶器在远移上颌磨牙方面的咋用及效果。方法：挑选23名患者，其中男10名、女13名一平均年龄12．6岁．患者均为牙源性安氏Ⅱ类错(牙合)，恒牙列且下颔牙弓排列较好。政良钟摆式矫治器是新近研制的一种远移上颌磨牙的装置，它焊接于两侧第一磨牙和第一前磨牙的带环上，其支抗是腭侧的Nance腭托。本研究采用l50g力的Ni-Ti螺旋椎簧远移上颌第一磨牙，于活疗前与磨牙连到安氏I类关系后用头影测量分析测量上颌磨牙的远移效果。结果：上领磨牙平均整体远移5．1mm，平均远移时间为3～6个月，前牙覆(牙合)减少2．9mm，覆盖增加3．4mm；远移完成后，为防止远中移动的上领磨牙向近中移动而造成复发，用Kance腭托将纠正后的安氏I类(牙合)关系保持3个月。结论：改良钟摆式矫浩器可以在较少的支抗丧失情况下有效的远中整体移动上颌磨牙。     

种植体与口外弓作支抗推上颌磨牙远移的比较研究

目的:探讨分别以微小种植体作支抗和利用颅部作支抗,推上颌第一磨牙向远中,比较其临床效果及矫治特点。方法:患者16例,其中8例采用口外唇弓推磨牙,为对照组,8例采用种植体作支抗推磨牙,为实验组,共植入16枚微小种植体位于上颌第二前磨牙与第一磨牙之间颊侧牙槽骨内。将Ni-Ti螺旋弹簧压缩后置于上颌第一前磨牙与上颌第一磨牙之间,推磨牙远移。测量上颌第一磨牙的移动速度和距离,在近远中方向、水平方向的位置变化及上切牙的位置变化,衡量磨牙的移动方式和特点,评价支抗强弱。并进行统计学分析,比较两种方法的异同。结果:对照组:上颌第一磨牙平均移动距离3.9mm,疗程6.5个月,平均移动速度0.6mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度为0.5°;磨牙发生远中舌向水平旋转约1.5°;磨牙颊向移位0.8mm;上颌中切牙长轴角度基本无改变。实验组:上颌第一磨牙平均移动距离4.5mm,疗程4.5个月,平均移动速度1.0mm/月;磨牙长轴向远中倾斜角度为0.9°;磨牙发生远中舌向水平旋转约5.5°;磨牙颊向移位0.9mm;上颌中切牙长轴角度基本无改变。结论:两种方法在推上颌磨牙远移的过程中,都发挥了强支抗的作用,未见前牙支抗丧失。但种植体支抗更强。并且对患者的依赖性降低,大大缩短疗程。     

应用CBCT评估隐形矫治技术远移上颌磨牙的临床疗效

目的：通过口腔锥形束计算机断层扫描系统(Cone-beam computed tomography,CBCT)对隐形矫治技术远移磨牙的疗效进行评估。方法：收集15例Invisalign隐形矫治技术远移上颌磨牙的病例,患者平均年龄27岁,均配合Ⅱ类颌间牵引。在治疗前及第一磨牙远移到位时拍摄CBCT影像,运用Dolphin软件生成CBCT转化头颅侧位片,分别测量治疗前后左右两侧上颌第一磨牙、第二磨牙和中切牙在矢状向和垂直向的移动情况,以及上下颌骨和软组织侧貌在矢状向和垂直向的变化情况,采用SPSS18.0软件进行相关统计学分析,评价磨牙远中移动效率和整体移动效率。结果：①隐形矫治远移磨牙使上颌第一磨牙牙冠远中移动(2.03±1.01) mm,牙根远中移动(1.13±1.02) mm,根尖平均压低0.35 mm,上颌第二磨牙牙冠远中移动(2.54±1.34) mm,牙根远中移动(1.66±0.82) mm,根尖平均压低0.80 mm。测量结果表明治疗前后磨牙矢状向远移、垂直向压低、远中倾斜差异均具有统计学意义(P<0.05);②治疗前后上颌中切牙的矢状向、垂直向移动距离,转矩角的差异均...     

利用微种植钉支抗远移上颌全牙列的临床研究

目的:探讨利用微种植钉支抗远移上颌全牙列治疗安氏II类错牙合畸形的临床治疗效果。方法:选取2014年10月-2016年10月笔者科室确诊收治的上颌轻中度前突的18例患者作为研究对象,采取非拔牙矫治,用微种植钉作为支抗体植入上颌颧牙槽嵴区,利用镍钛拉簧施加牵引力拉上颌全牙列整体向远中移动。对患者治疗前后头影测量及模型进行对比研究。结果:18例患者均获得较理想的治疗效果,磨牙关系变为中性关系,前牙达到正常覆牙合覆盖,患者侧貌得以改善;18例患者共计植入36颗微型种植钉,其中有2颗发生松动,其余34颗保持稳定而无松动,种植体周围软组织健康;治疗后,经过头颅侧位片进行测量,患者上颌双侧第一磨牙牙冠和牙根分别平均远中移动了3.17mm、2.77mm。上颌切牙牙冠和牙根分别平均远中移动了3.29mm、0.73mm,以上数值变化均有统计学意义(P0.05);患者硬组织测量项目中MP-SN平均增大了1.22°,OP-SN平均增大了1.52°,两者数值变化均有统计学意义(P0.05),其余的SNA、SNB、ANB、PP-SN、A-FHP变化均无统计学意义(P0.05)。结论:运用微种植钉支抗远移上颌全牙列而矫治上颌轻中度前突的II类患者过程中,上牙列通过整体远移获得了有效的远中移动量,前牙覆牙合覆盖、后牙咬合关系恢复正常,患者侧貌有了明显的改善,收到了满意的治疗效果,但远期疗效还需要进一步观察。     

远移磨牙矫治对面部垂直向的影响

目的:研究微种植体为支抗远移磨牙后,牙颌面结构垂直向位置的变化。方法:选择以微种植体为支抗远移磨牙错牙合患者21例(男8例,女13例),21例拔除4颗前磨牙病例作对照。两组病例治疗前后拍摄数码头颅侧位片,并测量分析几项相关项目,以评估存在的正畸治疗后垂直向变化。结果:磨牙远移组比拔牙组矫治后ANS-Me(mm)显著增高。统计学分析表明,拔牙组治疗前后PP/OP(°)变化具有显著差异,然而其他项目治疗前后差异没有统计学意义。结论:磨牙远移组与拔牙组矫治后面部垂直高度均增加,但下颌骨的生长方向可以部分地抵消这种作用。     

正畸治疗中两种内收上前牙方式对牙齿及下颌骨垂直向位置的影响

目的：探讨成人骨性Ⅱ类错(牙合)在拔牙矫治中以微种植体支抗及Ⅱ类牵引内收上前牙对切牙、磨牙及下颌骨垂直向位置的影响。方法：本研究回顾了57例成人正畸治疗患者资料，其中治疗组（29例）以微种植体压低内收上前牙，对照组（28例）使用Ⅱ类牵引。对治疗前后头颅侧位片进行重叠分析比较。结果：治疗后，治疗组上切牙出现压低，上磨牙垂直向位置无明显变化，下磨牙出现伸长。对照组中上切牙及上下磨牙均伸长。对照组中FH-MP增加和PogH减小，治疗组正好相反；提示对照组治疗后下颌出现顺时针旋转，而治疗组无明显旋转。结论：上颌微种植体支抗对上颌切牙及磨牙垂直向控制有一定的帮助，可以避免下颌骨顺时针旋转，有利于骨性Ⅱ类侧貌的改善。     

腭部微螺钉种植支抗在安氏Ⅱ类错牙合矫治中的应用

目的:评价腭部微螺钉种植支抗+改良腭弓在安氏Ⅱ类错牙合畸形矫治中推上颌磨牙远移的临床效果。方法:30例安氏Ⅱ类错牙合患者,采用在上颌双侧第二前磨牙和第一磨牙间腭侧植入微螺钉种植支抗,配合改良腭弓推上颌磨牙远移,上下颌直丝弓固定矫治,改善磨牙关系,解除前牙拥挤和前突,矫治前后拍摄口腔全景片和头颅侧位片、取研究模型,进行头影测量和模型分析,并做统计学分析。矫治结束后对患者进行问卷调查,通过综合分析评价矫治效果。结果:30例患者均顺利完成矫治,推磨牙远移时间平均为4~6个月,磨牙远移量平均为(4.23±1.08)mm/侧,LU6-b(°)倾斜度平均为(0.13±1.16)°,RU6-b(°)倾斜度平均为(0.18±0.79)°,矫治时间平均为20个月,矫治后面型良好,咬合关系正常,头影测量分析UI-NA角度平均减少(10±2.04)°,UI-NA距离平均减少(3±0.78)mm,UI-SN角度平均减少(9.5±3.01)°,患者满意度100%。经t检验:SNA(°)、SNB(°)、ANB(°)、MP-SN、UL6-b(°)、UR6-b(°)治疗前后值无明显差异(P0.05),UI-NA(°)、UI-NA、UI-SN(°)、U6-a治疗前后值差异明显(P0.05)。结论:微螺钉种植支抗+改良腭弓推上颌磨牙远移是一种有效的矫治方法,不完全依赖于患者的依从性,磨牙整体远移,减少正常牙列中牙齿的拔除,患者满意度高,值得临床推广应用。     

自攻型微螺钉支抗远移上下后牙的临床研究

目的:探讨自攻型微螺钉作为强支抗远移上下后牙的有效性。方法:选择成人牙列拥挤患者25例,在上颌颧牙槽嵴区和(或)下颌磨牙后区或颊棚区植入自攻型微螺钉作为支抗远中移动上下后牙,通过临床评价、X线头影测量分析,比较矫治前后上下后牙矢状向移动距离、远中倾斜度、腭平面、牙合平面以及下颌平面的变化情况。结果:所有病例治疗后均达到预期效果,微螺钉治疗过程中均保持稳定。治疗前后X线头影测量分析显示上下颌第一磨牙分别平均远中移动距离(4.12±0.66)mm、(3.22±0.25)mm(P0.01),差异具有统计学意义,而上下第一磨牙远中倾斜、腭平面、牙合平面、下颌平面变化无统计学意义(P0.05)。结论:自攻型微螺钉能发挥绝对强支抗作用,可有效地远中移动上下后牙,解除牙列拥挤。     

自攻型微螺钉种植体内收上前牙的临床研究

目的：评价自攻型微螺钉种植体作为正畸支抗内收上前牙的有效性。方法：从临床病例中选择30例矫治设计拔除4颗第一双尖牙、上颌强支抗的双颌前突患者,均采用自攻型微螺钉种植体作为支抗手段,植入部位选择在上颌第二双尖牙和第一磨牙牙根间的颊侧牙槽骨,植入4周后施加350g以内矫治力,观察微螺钉种植体的稳定性,并对30例患者治疗前后X线头颅侧位片进行测量,评价治疗效果。结果：微螺钉种植体5个月内的成功率为93.3%,稳定性高。30例双颌前突患者上前牙内收效果明显,获得了磨牙强支抗的效果。结论：微螺钉种植体能作为稳定的正畸支抗,能有效地内收上前牙,起到了加强磨牙支抗的效果。     

微种植体支抗不同植入部位推上颌磨牙远移的稳定性及对软组织侧貌美学的影响

目的：探讨微种植体支抗(Microimplant anchorage,MIA)不同植入部位推上颌磨牙远移的稳定性及对软组织侧貌美学的影响。方法：选择2018年1月-2020年12月笔者医院收治的90例非拔牙不完全Ⅱ类磨牙关系患者，按照随机数字表法分为腭侧组和颊侧组，每组45例。腭侧组患者于上颌双侧第一磨牙与第二前磨牙之间腭侧处各植入1枚微种植钉，颊侧组患者于上颌双侧第一、二磨牙之间颊侧处各植入1枚微种植钉。植入6个月后，比较两组第一磨牙远移距离、种植钉松动率及软组织侧貌美学参数(面型角、鼻唇角、上唇突度及下唇突度)。结果：腭侧组第一磨牙远移距离[(3.54±0.76)mmvs(2.60±0.61)mm]明显高于颊侧组，腭侧组的种植钉松动率(15.56%vs23.33%)明显低于颊侧组，差异均有统计学意义(P<0.05)。植入6个月后，两组下唇突度无明显变化(P>0.05)；两组的面型角、上唇突度较植入前明显降低(P<0.05)，两组比较差异无统计学意义(P>0.05)；两组鼻唇角较植入前明显增高，腭侧组[(86.57±2.84)°vs(81.72±2.06)°]...     

微种植体支抗结合选择性上颌第一磨牙拔除应用于二次正畸治疗错殆畸形的疗效分析

目的探讨使用微种植体支抗对二次正畸病例拔除上颌第l磨牙矫正错牙合畸形的临床疗效。方法对在外院矫治失败后病例24例,采用拔除上颌双侧第1磨牙,以及运用微种植体从颊部牙槽嵴置入上颌骨,以此作为支抗矫正错黯畸形。拍摄所有患者治疗前后的头颅侧位x线片,口内和面部像片,比较治疗前后的覆黯、覆盖、磨牙关系和前牙内收程度。结果除2例患者因3枚种植体松动再次手术置人外,其他病例均一次性种置成功。所有病例均获得了磨牙强支抗;建立r正常的前牙覆船、覆盖关系,面型得到了明显改善。结论微种植体支抗及选择性拔除上颌第1磨牙以矫正正畸失败后病例,在减数拔牙条件不宽的情况下,采用：诈常规拔牙方式,支抗位置稳定,患者易于接受,疗效肯定,是正畸失败后二次矫正的理想选择。     

口内支抗与微型种植体支抗近中移动下颌磨牙效果比较

目的：研究安氏I类错（牙合）患者中,分别采用微型种植体作支抗与口内前牙作支抗近移下颌磨牙进行比较,以评价两种方法的各自特点。方法：将24例成人患者随机分成两组,分别采用两种方法近移下颌磨牙。测量下颌第二磨牙在移动速度和近远中方向、垂直方向的位置变化,以衡量磨牙的位置改变,并通过下颌中切牙的位置变化,评价支抗强弱。结果：种植体作支抗组下颌第二磨牙平均近中移动8.5mm,疗程10.4个月,平均移动速度0.82mm/月,磨牙长轴向近中倾斜2.5°,磨牙垂直向压低0.28mm,下颌中切牙位置无改变。对照组下颌第二磨牙平均近中移动7.8mm,疗程10.2个月,平均移动速度0.76mm/月,磨牙长轴向近中倾斜角度7.5°,磨牙垂直向压低0.06mm,下颌中切牙发生舌向倾斜9.5°。下颌中切牙切端向舌侧移动了3.0mm。结论：两种方法比较,种植体的支抗更强,未见前牙支抗丧失。二者磨牙的移动方式有所区别。