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目的:观察副扣带沟在国人人群中的出现率及侧别差异、扣带沟走行的连续性及各类型出现的概率。方法:在微型计算机上eFilm 1.5工作站中,选取30例头颅连续MRI矢状断层两侧旁正中矢状面,观察副扣带沟的出现率;扣带沟走行的连续性及各类型出现的概率。结果:左侧大脑半球副扣带沟的出现率为56.67%,右侧为26.67%;左侧扣带沟连续不分段的出现率为63.33%,右侧为50%;左侧出现副扣带沟时,同侧连续型扣带沟出现率为88.24%,右侧出现副扣带沟时,同侧连续型扣带沟出现率为71.43%。结论:副扣带沟的出现呈现明显的左偏趋势;副扣带沟的出现显著影响了扣带沟走行的连续性。 相似文献
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目的:明确距状沟在矢状断层MRI的形态规律,为横断层距状沟的识别提供参照。方法:30名健康成人志愿者头颅7 mm层间距矢状位T1MRI数据,在eFilm 1.5工作站内,基于典型形态、辅于连续结构追踪法和"3D-Cursor"技术3种方法对距状沟进行识别并分型;并与60侧尸脑内侧面距状沟后段分型结果相结合。结果:矢状断层MRI距状沟的位置、形态具有稳定性,旁正中矢状面距状沟可以分为弧型21.67%、单峰型40.00%、双峰型31.67%及三峰型6.67%共4种类型。结论:综合应用上述3种方法,能够准确客观地识别矢状断层MRI的距状沟,并可为横断层影像距状沟的识别提供准确参照。 相似文献
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成人大脑沟,回在MRI矢状图像上的定位研究 总被引:2,自引:0,他引:2
为给大脑占位性病变及脑功能的影像学研究提供断层解剖学依据。利用15例头部矢状断层标本及相应脑片,颅脑MRI矢状扫描图像研究了大脑沟、回在MRI矢状状图像上的定位。结果显示:扣带沟缘支和外侧沟后升支是识别中央沟的标志,若出现壁间回则更易识别中央沟;借外侧沟前水平支和前升支形成的“Y”或“V”形外观,可识别中央以及额下回的眶部、三角部和岛盖部,侧融沟居海马结构下方,其下方为枕聂内侧回。选了8个黄型矢状 相似文献
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目的 为临床MRI图像精确定位大脑角回的微小占位性病变,以及脑功能的影像学立体定位的研究提供断层解剖学依据。方法 选用成人的头颅标本15例,随机分为3组,每组5例,分别做横断面、矢状面和冠状面的MRI扫描后,再依据MRI扫描的层次,获得与MRI图像一致的断层标本。把标本与相应的MRI图像做对照观察、统计,以确定角回在横断面、矢状面和冠状面上的定位。结果与结论 在横断面、矢状面和冠状面3个方向上描述了角回的断面形态、位置和毗邻关系。(1)在冠状面上:①经窦汇的断面:顶内沟明显纵行,枕颞内、外侧回的出现,是角回出现的标志。②经胼胝体压部的断面:胼胝体压部和侧脑室三角区的出现,是角回消失的层面。(2)在横断面上:①经中央旁小叶的断面:扣带回和顶枕沟的出现,伴有扣带沟缘支的消失,是角回和缘上回出现的标志。②经室间孔的断面:在切及颞叶结构时,大脑外侧沟由“一”变为“人”字形时,是角回消失的标志。(3)在矢状面上:在外侧第一个层面上角回就已经出现,壳核和侧脑室三角区的出现是角回消失的标志。 相似文献
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目的:探讨中央前沟在MRI横、矢状断面图像上的形态学规律。方法:采集30名正常成人头颅连续MRI数据,应用e-film 2.1工作站和Adobe Photoshop CS8.0软件包,研究中央前沟在横、矢状断层面上的形态特征规律及其形态学类型。结果:中央前沟主要分为3种类型:一段型,横断面上为一形态欠规则的略曲线型,矢状断面上表现为从后上向前下走行、略呈"S"的单一线形,显示率为16.67%;二段型,由额中回与中央前回之间的连接部分隔所致,横断面显示为前后2条形态各异的短沟,矢状断面上为2条从后上向前下走行的"S"线形,显示率为63.33%;三段型,由中央前回中下部外侧面向前发出的一舌样小回将下中央前沟局部挤压变形所致,横断面为3条呈上下、前后关系的短沟,而矢状断面,下中央前沟则为从后上向前下走行、略似斜纵形的"Ω"形,显示率为20.00%。结论:中央前沟在MRI横、矢状断面图像上的形态学规律可为额叶后部病变的定位诊断以及手术入路的选择提供解剖学依据。 相似文献
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目的:探讨大脑侧副沟在MRI横断面及冠状面图像上的形态学规律。方法:在eFilm2.1工作站中,选取40名正常成人志愿者头颅连续MRI横断位及冠状位扫描数据,运用结构连续追踪法和3D-Cursor技术,对连续MRI横断面及冠状面图像上的侧副沟进行识别、观测,统计其形态学特征。结果:侧副沟分为三部分,即鼻嗅沟、中段侧副沟及枕部侧副沟;侧副沟在MRI冠状面图像上随着层面向后移而沟上移;枕部侧副沟在72.5%情况下出现分支,分为内、外侧支;侧副沟在冠状面映射长度=横断面层数×2 mm,其在横断面映射长度=冠状面层数×2 mm。结论:大脑侧副沟MRI横断面及冠状面图像上的形态学研究可为侧副沟及相邻脑区病变的识别和定位提供解剖学资料。 相似文献
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目的:通过测量经颞上沟-侧脑室颞角手术入路的相关数据,初步定位大脑背外侧面颞上沟进入侧脑室最短距离的点,寻找经颞上沟进入侧脑室颞角的最佳手术入路点。方法:选取120例成年人脑部MRI扫描标本,利用容量重建技术构建大脑三维立体模型,测得颞上沟的长度S1。沿垂直于颞叶长轴的方向以1.0 mm间距切割得到多个冠状切面,依次测量颞上沟到侧脑室颞角的距离并确定最短距离S2,同时测量颞上沟的深度S3,测量大脑颞上沟表面相对应的最短距离点到颞上沟前端起始部的距离S4,计算S4与S1的比值M,同时测量最短距离与正中矢状位方向之间的夹角α。所有样本进行双侧测量,对比两侧的测量结果。 结果:120例国人的S1左侧为(159.56±17.55)mm,右侧为(164.35±15.07)mm,左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05);S2左侧为(8.18±0.96)mm,右侧为(7.81±0.90)mm,左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05);S3左侧为(12.19±1.43)mm,右侧为(11.57±1.33)mm,左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05);S4左侧为(100.88±16.09)mm,右侧为(104.15±14.49)mm,左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05);M左侧为(0.63±0.07),右侧为(0.63±0.06),左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05);α左侧为(55.80±3.64)°,右侧为(56.46±4.17)°,左右两侧比较差异无统计学意义(P>0.05)。结论:颞上沟前端3/5处可能为理想的手术入路点,由该点进入侧脑室颞角距离最短,提示实施颞上沟-侧脑室颞角手术时该入路可减少对脑组织损伤。 相似文献