支抗种植体长度对骨界面应力分布的影响

目的：研究不同长度支抗种植体对骨界面应力分布的影响，以供临床筛选合适的种植体。方法：用三维有限元方法给种植体施加150g近远中方向的载荷，分别对长度为7mm、10mm、15mm的支抗种植体-骨界面进行应力分析。结果：三种长度种植体颈部的Von-Mises应力值分别为0．5450MPa、0．5330MPa、0．5320MPa；位移值分别为0．1690μm、0．1630μm、0．1610μm。结论：在种植体承受侧向力载荷时，增加种植体长度可提高其承载能力，临床上在选择正畸支抗种植体时，应尽量选择长种植体作正畸支抗体。     

支抗种植体外形对骨界面应力分布的影响

目的：探讨三种圆柱状支抗种植体外形差异对骨界面应力分布的影响，以筛选最佳支抗种植体。方法：用三维有限元方法给种植体施加150g近远中方向的载荷，分别对刃状螺纹型、矩形螺纹型及光滑型支抗种植体-骨界面进行应力和位移分析。结果：三种种植体颈部的Von-Mises应力值分别为0．5330MPa、1．1600MPa、0．8900MPa；位移分别为0．1630μm、0．1690μm、0．1460μm。结论：刃状螺纹种植体做支抗时，其颈部应力值最低，而三种种植体颈部的齿槽骨位移差异不显著，敌刃状螺纹型种植体比较适合做支抗种植体。     

皮质骨厚度对支抗种植体-骨界面应力分布的影响

目的：研究皮质骨厚度改变对支抗种植体-骨界面应力分布的影响，供临床参考。方法：用三维有限元方法，对分别种植于皮质骨厚度为0．5mm、1．0mm、2．0mm颌骨模型中的种植体施加150g近远中方向的载荷，分析支抗种植体-骨界面应力分布情况：结果：三者种植体颈部的Von-Mises应力值分别为0．6040MPa、0．5330MPa、0．5380MPa；位移值分别为0．2110μm、0．1630μm、0．1250μm：结论：皮质骨在一定厚度内，植入体颈部皮质骨越薄，骨界面应力值就越大：但皮质骨超过一定厚度后，骨界面应力并不随其厚度的增加而做相应递减。皮质骨的厚度与界面骨的位移成反比.     

支抗种植体不同螺纹顶角对骨界面应力分布的影响

目的 研究刃状螺纹型支抗种植体的螺纹顶角改变对骨界面应力分布的影响,以供临床筛选合适的支抗种植体。方法 用三维有限元方法给种植体施加150g近远中方向的载荷,分别对螺纹顶角为60°、75°、120°的三种支抗种植体-骨界面进行应力分析。结果 三种螺纹顶角种植体颈部的Von-Mises应力值分别为0.533 0 MPa、0.632 0 Mpa、0.591 0 Mpa;位移值分别为0.1630μm、0.1590μm、0.1520μm。结论 螺纹顶角为60°的种植体适合作正畸支抗体。     

牙种植体即刻负载骨界面应力分布的三维有限元分析

目的：用三维有限元法分析牙种植体即刻负载骨界面的力学特性。方法：采用CT扫描和自主开发的USIS软件建立螺纹种植体即刻负载的三维有限元下颌骨模型，用ANSYS计算垂直加载、颊舌向450及近远中向45°加载150N力时种植体骨界面的Yon Mises应力、应变值。结果：垂直加载时骨界面的Yon Mises应力集中于颈部舌侧骨皮质，应变分布均匀，以颈部骨皮质、底部颊侧骨松质及颊侧螺纹接触部位的松质骨较为集中：颊舌向加载时骨界面的Yon Mises应力也集中于颈部舌侧骨皮质，但最大值是垂直加载时的4．15倍，应变分布不均匀，主要集中于颈部舌侧骨皮质，最大值是垂直加载时的3．98倍；近远中斜向加载时骨界面的Yon Mises应力集中于颈部远中侧骨皮质，最大值是垂直加载时的3．72倍，应变集中于底部近中侧骨松质，最大值是垂直加载时的1．51倍。结论：即刻垂直加载时，种植体周围骨质应力及应变无明显集中，分布较均匀，颊舌向及近远中向加载时应力、应变明显增大，分布不均匀。     

支抗种植体直径对骨界面应力分布的影响

目的 :研究不同直径支抗种植体对骨界面应力分布的影响 ,以供临床筛选合适的种植体。方法 :用三维有限元方法给种植体施加 1.47N(150 g)近远中方向的载荷 ,分别对直径为 3 .0、3 .75、5.0mm的支抗种植体 骨界面进行应力分析。结果 :3种直径种植体颈部的Von Mises应力值分别为 0 .80 7、0 .53 3、1.0 80 ;位移值分别为 0 .2 3 2、0 .163、0 .111μm。结论 :在选择正畸支抗种植体时 ,直径为 3 .75mm的种植体较适宜作正畸支抗体     

集中载荷下下颌后牙区种植体直线排列与成角排列的应力分析

目的研究集中载荷下下颌后牙区种植体直线排列与成角排列的应力分布。方法选择一具765牙体缺失的成人离体下颌骨标本，CT扫描建立二维坐标，根据坐标画点再用曲线连点形成下颌骨轮廓。采用三维有限元的方法研究集中载荷下种植体-骨界面应力分布特点和变化规律。结果垂直载荷下，粗直径种植体直线排列时应力峰值减低（最低为3．70MPa），标准直径种植体成角排列时应力峰值略增高（最高为8．32MPa）；颊侧向舌侧斜向载荷下，粗直径种植体直线排列时应力峰值减低（最低为12．29MPa），标准直径种植体颊侧成角排列时应力峰值减低（最低为15．48MPa），舌侧成角排列时应力峰值增高（最高为23．60MPa）。结论下颌后牙区牙槽骨嵴颊舌径大时，采用直径≥4mm种植体的直线排列应力值明显减小，有利于应力分布。     

上颌改良杆卡式种植覆盖义齿的应力分布：———垂直载荷与斜向 …

采用三维各向异性有限元法分析全下颌改良杆卡式种植覆盖义齿垂直载荷与斜向载荷子的应力分布。结果显示，种植体的最大应力出现在种植体有外段的近、远中面；种植体界面骨细胞的最大应力位于种植体颈部周围的骨质界面；斜向载荷下种植体及其骨组织界面的应力值高于垂直载荷时，且垂直载荷下种植体骨界面的应力分布更均匀；近远中向斜向加载时种植体及其骨组织界面的最大应力值高于舌颊向加载时。     

腭部种植体在加强后牙支抗的三维有限元分析

目的 利用含腭部种植体的上颌骨三维有限元模型，探讨腭部种植体在加强后牙支抗时的位移及应力分布情况。方法 采用螺旋CT扫描、计算机图像处理及CAD术，建立含腭部种植体的上颌骨三维有限元模型。结果 在受力状态下，支抗种植体总体上是一种近中移动和垂直压低的复合运动；上颌第一恒磨牙的近中颊尖的腭向位移最大，远中舌尖的颊向位移最大，整体上表现为腭向倾斜及近中舌向扭转的运动趋势。结论 种植体骨界面应力最大处在种植体颈部；上颌第一恒磨牙出现复杂的三维空间内的运动。     

Ⅱ类牵引对下颌支抗磨牙的不利影响

目的 研究Ⅱ类牵引时下颌支抗磨牙的受力情况；分析对支抗磨牙的不利影响，探讨支抗磨牙颊舌向失控的原因和防止失控的措施。方法 将64名正畸患者分成4个实验组：①任选21名使用Ⅱ类牵引进行正畸治疗的病例；②选择13例患者使用0．016”NiTi直丝制作下颌弓丝，再加上Ⅱ类牵引100g；③选择14例患者使用0．016”不锈钢丝制作下颌弓丝，弓丝后端比磨牙间距宽5mm左右；再加上Ⅱ类牵引力80g；④选择16例患者使用0．016”不锈钢丝，按常规制作弓丝，9例患者增加80gⅡ类牵引力；另7例患者Ⅱ类牵引力为150g作为第5组。测量Ⅱ类牵引实验前后，下颌两侧磨牙近中舌尖和两侧远中舌尖间的距离，并进行统计分析。结果 实验第1组支抗磨牙的舌向倾斜较严重，磨牙近中牙尖舌向倾斜比远中舌尖更多（P＜0．01）。第2组支抗磨牙无论近中舌尖或远中舌尖间距均缩窄（P＜0．01或0．001）第3组支抗磨牙仅近中舌尖间距有轻度变窄。第4、5组支抗磨牙近远中舌尖间距均变窄。所有以上4个实验组，实验前后下颌磨牙近远中舌尖间距变化都有显著性差异。结论 ①Ⅱ类牵引力均可导致下颌支抗磨牙的颊舌向失控，以NiTi丝加上Ⅱ类牵引导致磨牙失控最为严重。②牵引力实际上起到三维方向上的合力作用。这种合力作物的结果，导致了下颌磨牙向近中、He向、舌向的综合旋转。③临床上牵引力的方向决定了对支抗磨牙影响的方向。④针对Ⅱ类牵引力对支抗磨牙可能出现的不利影响，以及支抗磨牙本身的薄弱环节，作者建议可以采用一些具体办法防止磨牙间距变窄。     

����������֧���Ŀ������ٴ�Ӧ��

Proffi[1]将正畸支抗定义为"对不希望发生的牙齿移动的抵抗".正畸移动牙齿过程也就是支抗控制过程,正畸支抗的设计和控制对于矫治成功是至关重要的因素之一.     

���Ϣ���1���ಡ��������΢��ֲ��֧����Ӧ��11������

目的探讨应用微种植体支抗治疗安氏Ⅱ类1分类错畸形临床疗效及治疗方法临床要点。方法对2005—2008年在山东省济宁口腔医院就诊的安氏Ⅱ类1分类上颌前突或伴轻微下颌后缩的正畸患者11例,采用MBT(滑动)直丝弓矫治技术,进行减数双尖牙矫治。黏结矫治器之前在上颌双侧第二双尖牙和第一磨牙之间的颊侧分别植入微种植体,在治疗早期应用自攻型微种植体进行尖牙向远中牵引,并在更换至稳定弓丝后利用微种植体整体内收前牙,牵引力值为1.5～2.0N,平均治疗时间为19个月,治疗结束观察1年。于治疗前后拍摄头颅侧位片,进行头影测量分析。结果11例患者除1例种植体松动脱落,其余患者第一磨牙在前后向和垂直向均未发生显著性移动,患者的颜面侧貌得到明显改善,取得较为满意的治疗效果。与治疗前相比,治疗后SNA、ANB、FHtoU1、IMPA角明显减小,差异均具有统计学意义;SNB角略有增大,FMA略有减小,但差异无统计学意义。结论微种植体支抗能够有效治疗安氏Ⅱ类1分类患者,并达到磨牙强支抗的效果。     

微种植体和传统支抗治疗错(牙合)畸形的效果比较

目的:比较微种植体和传统支抗在错(牙合)畸形治疗中的应用效果.方法:选取2015年1月-2016年1月收治的20例错(牙合)畸形患者,随机分为对照组(10例)与实验组(10例),对照组采取传统支抗,实验组采取微种植体支抗,对比2组临床应用效果.应用SPSS 17.0软件包对数据进行统计学分析.结果:2组U1-NA、L1-NB、U1-APg、U6-PtPNS有显著差异(P＜0.05).实验组未发现不良反应,对照组不良反应发生率为8.00％,2组有显著差异(P＜0.05).结论:微种植体支抗能改善双(牙合)前突以及前牙覆(牙合)、覆盖关系,正畸疗效理想,作为有效的支抗控制,值得在临床上应用.     

正畸支抗之“惑”

与医学其他学科一样,口腔正畸学也不乏用模糊概念来取代精确测量的习惯做法,正畸支抗控制便是其中之一。随着循证医学的发展,正畸医师越来越重视临床证据的准确性,于是,以往对于正畸支抗控制的经验性描述逐渐显露出其弊端。本文根据笔者近年来对支抗的系列研究结果,阐述了最大支抗传统概念的模糊性、定量测量支抗丧失时常被忽略的问题及解决方法,并讨论了最大支抗的限度问题。     

微型钛钉种植支抗在矫治单侧后牙正锁中的应用

目的介绍微型种植体支抗（MIA）在固定矫治中的应用。方法在83例应用钛钉MIA作为绝对支抗的错牙合畸形患者中，选择4例单侧后牙正锁牙合患者为研究对象，使用MIA压低伸长的上颌后牙，牵引舌侧倾斜的下颌后牙以矫正单侧后牙正锁牙合。MIA植入部位为上颌后牙颊侧和腭侧根尖区，以及下颌后牙颊侧根尖牙槽间隔；上颌磨牙的压入力约0.833 N，下颌舌向倾斜牙的颊向牵引力约0.559 N。观察植入术后钛钉周围组织的反应；植入术后和钛钉取出前拍摄全景曲面断层X线片，测量磨牙压入情况。结果采用多部位植入钛钉MIA、上下颌同时牵引的方法可有效矫正单侧后牙正锁牙合，钛钉在治疗过程中保持稳定，其周围仅有轻微炎症。结论作为骨性绝对支抗，MIA能有效压低上颌后牙，扶正舌倾的下颌后牙，矫正单侧后牙正锁牙合。     

应用微钛钉支抗矫治上颌前牙严重拥挤

目的研究应用微钛钉支抗治疗前牙严重拥挤畸形牙齿的治疗变化,介绍该治疗方法的临床要点。材料方法本研究包括8名正畸患者,年龄范围14.5—40.5岁,平均年龄25,7±7.7岁。8名患者的上牙列前牙区牙齿拥挤在Ⅱ度以上,拥挤平均在9.2毫米。粘结矫治器之前在上颌双侧第一磨牙和第二前磨牙之间或双侧第一、第二磨牙间的颊侧分别植入微钛钉种植体。治疗早期应用自攻型微钛钉进行尖牙向远中结扎,并在更换至稳定弓丝后利用微钛钉分期移动尖牙和侧切牙,牵引力值100克力。前牙排齐治疗前后拍摄头颅侧位片,并测量切牙和磨牙的治疗变化。结果 8名应用微钛钉支抗治疗上前牙拥挤组,牙列排齐后中切牙和第一磨牙在前后向和垂直向均未发生显著性移动。结论微钛钉支抗能够有效治疗严重牙列拥挤,可以避免前牙的往复运动,并达到磨牙强支抗的效果。     

微钛板支抗的临床应用和研究进展

在正畸治疗中,支抗的正确设计和对支抗的良好控制是正畸病例治疗成败的关键。传统支抗控制方法中很难提供绝对稳定的支抗,支抗不足是限制正畸治疗的重要因素之一。近年来,各种有别于传统支抗模式的种植体支抗的开发和临床应用,使支抗得到了更加有效地控制,一些传统正畸治疗中的疑难复杂病例也可以获得理想的矫治效果。作为种植体支抗的一个主要类别,微钛板支抗也在近年来得到了充分的应用,本文主要就微钛板支抗的临床应用和研究进展作一综述。     

微螺钉种植体支抗压低磨牙矫治前牙开（牙合）

近些年来各种骨性支抗系统被开发并应用于临床,来完成牙齿各种类型的运动.微型种植体用于垂直支抗控制方面比传统方法有着更多的优势.本文病例通过应用自攻型微钛钉种植体支抗压低上下颌后部牙齿槽,治疗严重的骨性前牙开（牙合）畸形,证明自攻型微钛钉种植体提供垂直支抗控制的能力.本文也提示通过简单有效的骨性支抗手段,可以提供一种治疗较复杂骨性开（牙合）畸形的全新方法.     

微钛板支抗在远中移动磨牙中的临床应用

目的介绍微钛板支抗在远中移动磨牙中的临床效果及特点。方法选择7名应用微钛板矫治患者,分析其治疗前后头颅侧位片、模型等临床资料,测量磨牙远中移动量。结果 1)利用微钛板远中移动磨牙效果明显,最多可达3.5mm。2)中轻度牙列拥挤患者利用微钛板远中移动磨牙获得间隙排齐整平牙列,不需拔除双尖牙便可达到较理想的治疗效果。结论微钛板作为一种绝对支抗,远中移动磨牙有效而稳定,同时可避免常规拔牙矫治,维持上下颌第二磨牙间的全部牙齿和牙弓的连续性。     

��ֲ��֧����ĥ���������ٴ�Ӧ��

目前对磨牙问题的关注和研究使得正畸医生对错机制的认识和矫治设计的理念正在发生某些改变。而针对主要由磨牙问题形成的错畸形进行的磨牙矫治,无论是在设计思想还是矫治手段上,都是一类棘手的难题。近年来,微型种植体支抗技术得到快速发展,有助于在解决这类难题时提供崭新的思路。本文概述种植支抗和磨牙矫治的结合带给正畸设计和治疗理念上的变化。