不同抛光及上釉方法对牙科陶瓷表面粗糙度的影响

目的 用多个参数评价不同表面粗糙度及上釉方法对陶瓷上釉后表面光洁度的影响,为临床修复体的制作提供可参考的依据.方法 制作盘状烤瓷试件100个,随机分为5组(A、B、C、D、E组),每组各20个,在注水条件下分别用碳化硅砂纸逐级打磨至220#、320#、600#、800#和1200#,各组再随机分为2亚组,每亚组10个,分别进行釉瓷上釉和自身上釉.上釉前、后分别测量表面粗糙度参数轮廓算术平均偏差(Ra)、轮廓的最大高度(Rz)、轮廓单元的平均宽度(RSm)以及粗糙度的最大峰值(Rp),并用扫描电镜定性分析表面形貌.结果 打磨至220#的陶瓷上釉后表面Ra最大[釉瓷上釉为(0.532 ± 0.109)μm、自身上釉(0.552 ± 0.123)μm],打磨至1200#的陶瓷上釉后表面Ra最小[釉瓷上釉为(0.201 ± 0.050)μm、自身上釉(0.126 ± 0.016)μm],两种上釉方法都能获得光滑的上釉表面.结论 上釉前的抛光处理以及不同上釉方法对上釉效果产生显著影响.     

牙科陶瓷调磨后不同的抛光上釉方法对其表面性状的影响

目的牙科陶瓷调磨后比较不同的抛光上釉方式其表面的光泽度。方法 用V intage瓷粉制作盘状试件24个,均匀调磨后按不同的处理方式随机分成四组,以粗糙度测试仪测量各组的粗糙度值并进行统计学分析,体视显微镜和电子显微镜观察试件表面形貌。结果抛光和上釉表面粗糙度值无显著性差异（P〉0.05）;镜下观察四组试件表面结构及光滑度无明显差别。结论牙科陶瓷调磨后抛光可以达到与自身上釉相近似的效果。     

抛光和上釉对陶瓷表面粗糙度、挠曲强度及磨损性能的影响

陶瓷以其逼真的颜色和理想的强度等特征一直作为口腔修复的重要材料。而冠、桥初戴通常需要进行咬合调整,使上釉的瓷表面遭到破坏,抛光和重新表面上釉是临床常用的表面处理方法。学者们对不同瓷的抛光效果及抛光和上釉对陶瓷的影响进行了大量的研究,本文就此作一综述。     

不同的表面处理对Sirona CEKEC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响

目的 比较不同表面处理对Sirona CEREC Blocs陶瓷表面粗糙度的影响.方法 按照不同的表面处理方式将试件分为7组：对照组（A）、自身上釉组（B）、釉膏上釉组（C）、2组不同松风抛光方案组（D、E）,2组不同EVE抛光方案组（F、G）,测量试件表面处理后的粗糙度值,体视显微镜定性分析试件表面形貌.结果 各组粗糙度值依次为：A组（0.139±0.010）μ m、B组（0.129±0.006）μm、C组（0.090±0.029） μm、D组（0.145±0.009）μ m、E组（0.101±0.007）μ m、F组（0.172±0.016）μ m、G组（0.278±0.027）μ m;A组与C组、D组与E组、D组与G组、E组与F组、E组与G组及F组与G组之间均有显著性差异（P＜0.05）,A组与B组、C组与E组及D组与F组之间均无统计学差异（P＞0.05）：体视显微镜分析结果与粗糙度值分析结果一致.结论 釉膏上釉较其它表明处理方式效果好,不同的抛光工具对Sirona CEREC Blocs陶瓷的抛光效果不同,其中松风抛光工具抛光效果堪比釉膏上釉的效果.     

5种抛光方法对钴铬烤瓷合金抗腐蚀性能的影响

目的 研究5种抛光方法对钴铬烤瓷合金抗腐蚀性能的影响.方法 制作30个钴铬烤瓷合金试样,随机分为5组,分别采用砂纸、金相布轮、橡皮轮、电解和化学方法进行抛光,测量试样的表面粗糙度.用浸泡实验检测试件在腐蚀液中浸泡后Co、Cr离子的析出量,并用扫描电镜观察试样浸泡前后的表面形貌.结果 电解抛光会破坏钴铬烤瓷合金试样,终止后续浸泡实验;化学抛光组表面粗糙度最大,为(0.35 ±0.09) μm,与其他组差异有统计学意义(P＜0.05).腐蚀液浸泡7d后,金相布轮抛光组试件Cr析出量最小,为(0.47 ±0.17) μg/cm2;化学抛光组试件Cr析出量最最多,为(2.34 ±0.76) μg/cm2,差异有统计学意义(P＜0.05).扫描电镜观察腐蚀液浸泡前的试件,金相布轮抛光和橡皮轮抛光可获得光滑表面,砂纸抛光和化学抛光后表面划痕明显;腐蚀液浸泡后各组表面划痕没有显著变化.结论 钴铬烤瓷合金采用金相布轮和橡皮轮抛光可获得较好的表面形貌和抗腐蚀性能,化学抛光对钴铬烤瓷合金表面形貌改善不大,其抗腐蚀性能最差.     

不同抛光方法对邻面去釉后牙釉质的影响

目的:研究不同抛光方法对离体牙邻面去釉区域釉质脱矿程度的影响.方法:选择20颗离体前磨牙作为实验对象,随机将牙的一个邻面作为对照组,另一邻面作为实验组.对照组邻面去釉后进行物理抛光,实验组邻面去釉后进行化学抛光.所有样本进行体外pH循环60d后,利用激光荧光诊断仪对样本实验区釉质脱矿程度进行定量测定,所得数据采用SPSS10.0软件包进行配对t检验.另选取试样通过扫描电镜观察釉质表面形态结构.结果:对照组釉质脱矿程度较实验组更重,两者差异有高度统计学意义(P＜0.01).扫描电镜观察发现,化学抛光后的釉质表面较物理抛光后更平滑.结论:对邻面去釉后的釉质进行化学抛光较物理抛光可提高釉质表面的光滑程度,降低釉质脱矿的风险.     

不同邻面抛光方法对牙釉质表面粗糙度及表面形貌的影响

目的：评价4种邻面抛光方法对邻面釉质表面粗糙度及显微形貌的影响,为邻面抛光方法的选择提供依据。方法：选择21颗离体牙前磨牙,沿颊舌面中线纵剖后获得邻面釉质试件42枚,再用自凝塑料包埋,暴露邻面釉质,用浮石粉抛光,并超声清洗。将42个试样均分为6组,分别作如下处理：A组空白对照,不做处理;B组：阴性对照,采用标准金刚砂车针切磨触点及其周围釉质,切磨后不抛光;其余4组为实验组,经标准金刚砂车针切磨后分别采用以下方法抛光：C组：极细粒度金刚砂车针抛光;D组：裂钻抛光;E组：矽粒子抛光;F组：彩虹抛光条抛光。之后用粗糙度仪测定釉面粗糙度,并进行扫描电镜观察。结果：标准金刚砂车针切磨后粗糙度大幅度增加（P〈0.05）,釉质表面发生明显条形凹陷性缺损;经4种方法抛光后,釉质表面粗糙度均有显著下降（P〈0.05）,显微形貌均较阴性组光滑,其中矽粒子抛光组可达到较空白对照组更为光滑的表面。结论：实验涉及的4种不同邻面抛光方法均有助于降低釉质切磨区域的表面粗糙度,但抛光效果存在差异;采用矽粒子抛光可完全抵消牙体预备时旋转器械对邻牙邻面的切磨作用,获得最为光滑的釉质表面。     

不同抛光方法对钴铬合金铸件表面质量及物理性能的影响

目的研究不同抛光方法对钴铬合金铸件表面质量及物理性能的影响。方法采用5种抛光方法抛光钴铬合金板试样,测量其表面粗糙度、硬度、弯曲强度、断裂强度和弹性模量,并对数据进行统计学分析。结果打磨后光整组试样表面粗糙度值最小(P<0.01);打磨后光整组试样的硬度较未抛光组要高(P<0.05);不同抛光方法抛光试样的弯曲强度,断裂强度与弹性模量无统计学差异。结论手工打磨后再进行光整的铸件表面粗糙度值最低,表面硬度增高;抛光方法对铸件物理性能无影响。     

不同抛光方法对钴铬合金铸造义齿表面粗糙度及精度的影响

目的研究不同抛光方法对钴铬合金铸造义齿表面粗糙度及精度的影响。方法(1)制作30个30mm×10mm×1.5mm钴铬合金试件,选择1组作为对照组,其余各组分别用5种方法抛光光整技术、电解、打磨、打磨后再电解、打磨后再光整,测量其表面粗糙度;(2)铸造钴铬合金基托30个,选择1组作为对照组,其余各组用5种方法抛光,在相当于上颌第二磨牙远中部位切断义齿基托与标准模型,测量基托组织面与标准模型间5个部位的间隙。用SPSS13.0软件对数据进行方差分析。结果(1)抛光前,试件表面粗糙度值最大(Ra3.38μm),手工打磨后再光整组粗糙度值最小(Ra0.19μm)。除光整组、电解组试件之间的差别无统计学意义外(P>0.05),其余各组差别均有极显著统计学意义(P<0.01)。(2)各组试件的精度值在抛光前、后无统计学差异(P>0.05)。结论手工打磨后再进行光整的铸件表面粗糙度最低,光整抛光方法对上颌铸造基托的精度无影响。     

不同排牙方法对全口义齿修复影响的临床研究

目的 探讨不同的排牙方法对无牙颌患者满意度和全口义齿咀嚼效能的影响.方法 采用上颌排牙法、下颌排牙法和综合排牙法为10例无牙颌患者分别制作3副全口义齿.戴用3个月后,测试无牙颌患者对3种全口义齿的满意度,同时通过吸光度法测定咀嚼效率及咀嚼次数,比较三种排牙方法的全口义齿咀嚼效能的异同.结果 无牙颌患者在戴用3个月后对下颌排牙法和综合排牙法全口义齿的满意度均好于上颌排牙法义齿.本实验3组全口义齿中下颌排牙法和综合排牙法全口义齿的咀嚼次数和咀嚼效能无显著差异,但均好于上颌排牙法义齿.结论 下颌排牙法和综合排牙法的全口义齿排列的人工牙有利于无牙颌患者在咀嚼过程中稳定地使用义齿,提高咀嚼效能,而且无牙颌患者对下颌排牙法和综合排牙法的全口义齿也更满意.     

表面抛光和上釉对Y-TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

目的研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响。方法制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理。测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量。结果抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05)。被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。结论上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度。抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面。     

烤瓷表面抛光和上釉对其表面粗糙度及细菌黏附的影响

目的比较不同抛光方法对烤瓷表面粗糙度的影响,以及不同粗糙度烤瓷表面对口腔变异链球菌黏附的影响。方法采用原子力显微镜测量不同抛光方法对瓷表面粗糙度的影响,并通过细菌实验观察不同粗糙度的瓷表面对细菌黏附的影响。结果用抛光膏抛光或者上釉后,瓷面平整且有光泽。无论是表面粗糙度还是表面黏附的细菌数,橡皮轮组都大于抛光膏组和上釉组（P<0.05）。结论建议调改过的瓷表面进行抛光膏抛光或上釉以恢复瓷表面的光滑度和减少口腔致龋菌的黏附。     

抛光与上釉对牙科纳米陶瓷表面粗糙度的影响

目的比较抛光与上釉对纳米陶瓷表面粗糙度的影响。方法用纳米陶瓷粉(IMAGINEREFLEX)制备盘状试件40个,随机分为A、B两组。A组抛光组用240#~1500#碳化硅砂纸依次逐级打磨,最后用金刚砂抛光膏完成抛光。B组上釉组重新表面上釉。以粗糙度测试仪测试两组试件表面分别经抛光和表面上釉后表面粗糙度值并进行统计学分析,扫描电镜观察和评估样本表面形貌。结果纳米陶瓷IMAGENEREFLEX抛光组和上釉组表面粗糙度值无显著性差异(P>0.05);扫描电镜结果显示抛光组和上釉组表面无明显差异,均较为光滑,抛光组表面散在少量细小孔隙。结论对于纳米陶瓷的表面处理,抛光可以获得和重新上釉相同的表面光滑度。     

Effects of glazing methods on the optical and surface properties of silicate ceramics

PurposeThis study aims to evaluate the effect of different glazing methods on translucency parameter (TP), contrast ratio (CR), opalescence parameter (OP), surface roughness (Ra) and topography of the silicate ceramics.MethodsSeventy specimens (10 × 10 × 1 mm) were fabricated from lithium disilicate (IPS e.max CAD, abbreviated as E) and zirconia-reinforced lithium silicate (Vita Suprinity, abbreviated as VS) ceramics and divided into 7 subgroups (n = 10) according to the polishing and glazing procedures: (1) mechanical polishing before-crystallization (m-BC), (2) mechanical polishing after-crystallization (m-AC), (3) glaze powder/liquid after-crystallization (pl-AC), (4) glaze-paste before-crystallization (gp-BC), (5) glaze-paste after-crystallization (gp-AC), (6) glaze-spray before-crystallization (gs-BC), (7) glaze-spray after-crystallization (gs-AC). Color and Ra measurements were performed. CIEL*a*b* and CIEXYZ parameters were recorded and TP, CR, and OP values were calculated. Data were analyzed using two-way ANOVA and Tukey HSD tests (α = 0.05).ResultsIn E groups, the highest Ra value was found in gs-AC (1.66 ± 0.14 μm) while the lowest value was found in pl-AC (0.68 ± 0.08 μm). In VS groups, the highest Ra value was found in gp-BC (1.64 ± 0.25 μm) while the lowest value was found in m-AC (0.77 ± 0.06 μm) (p < 0.05). The mean TP value of E (17.62 ± 0.73) was found to be higher than VS (15.37 ± 1.16). The CR (0.72±0.030) and OP (12.06 ± 0.74) values of VS were found higher than CR (0.57 ± 0.02) and OP (6.72 ± 0.40) values of E.ConclusionsZirconia-reinforced silicate ceramics have higher opalescence and lower translucency values than lithium disilicate ceramics. Increase in surface roughness reduces translucency. Glaze powder/liquid after-crystallization is the most effective way to reduce surface roughness of lithium disilicate ceramics while that is mechanical polishing after-crystallization for zirconia-reinforced silicate ceramics.     

Surface conditioning methods and polishing techniques effect on surface roughness of a feldspar ceramic

OBJECTIVE: To investigate the effects of three surface conditioning methods on shear bond strength (SBS) and on surface roughness (Ra) of a feldspathic ceramic, and to compare the efficiency of three polishing techniques. MATERIALS AND METHODS: A total of 106 feldspathic specimens were used. Thirty specimens were divided into three groups according to the surface conditioning methods: air-particle abrasion (APA) with 25-microm aluminum trioxide (Al(2)O(3)) (group A); hydrofluoric acid (HFA) (group H); APA and HFA (group AH). Metal brackets were bonded and subjected to SBS testing. Sixty-three specimens were divided into three groups according to the surface conditioning method. Ra was evaluated profilometrically. Then, each group was divided into three subgroups according to the polishing technique, ie, adjustment kit, diamond polishing paste, adjustment kit + diamond polishing paste. Following polishing, the second Ra values were obtained. RESULTS: The lowest SBS was obtained for group H. This value was significantly different from the values of groups A and AH (P < .05). The lowest Ra value was observed for group H (P < .001). There was no significant difference between groups A and AH (P > .05). No significant differences between the subgroups in which a polishing paste was used were observed (P > .05). There was no significant difference between the adjustment kit and the adjustment kit + a diamond polishing paste (P > .05). CONCLUSION: APA or APA + HFA created rougher porcelain surfaces than HFA alone. Both adjustment kit use and the adjustment kit + polishing paste application were effective to smooth the porcelain, but one was not found superior to the other.     

离子交换与常用陶瓷表面增强技术的对比研究

目的 对比单重离子交换增强技术与常用牙科陶瓷表面增强技术的增强效果。方法 制备Vita VMK95，Shofu Vintage标淮试件各30个，将标准试件随机分3组，A组涂布HX—I型增强剂处理，B组进行自身上釉，C组进行表面抛光，分别测定三点弯曲强度。结果经统计学分析，对比不同处理方法的增强效果。结果 A组三点弯曲强度值高于B组，B组高于C组，结果具有统计学意义(p＜0.05)。结论 陶瓷表面离子交换表面增强效果好于自身上釉和表面抛光。     

3种抛光方法对树脂表面粗糙度影响的比较

目的通过定性与定量分析比较3种抛光方法对3种不同树脂表面粗糙度的影响。方法将3种不同类型的树脂制作成15个直径为5mm,厚度为3mm的圆柱本样本,随机分为3组：Sof—Lex抛光碟组．Brilliant Gloss橡皮抛光尖组,One Gloss橡皮抛光尖组。抛光后用轮廓测定仪在样本测试面中心区测表面粗糙度（Ra）,然后每个小组中随机选取1个样本,采用原子力显微镜观察其表面微观形貌。结果Sof-Lex、One Gloss抛光后,3种不同树脂的Ra均值差异有统计学意义（P〈0．05）、单因素方差分析结果显示材料组之间、抛光方法组之间Ra均值差异均有统计学意义（P〈0．05）,且组内两两比较结果显示同种树脂3种抛光方法之间Ra均值差异有统计学意义（P〈0．05）：多因素方差分析结果显示材料类型和抛光方法均会影响树脂表面粗糙度,二者具有明显交互作用（P〈0．01）原子力显微镜观察结果显示Sof-Lex和BrilliantGloss抛光后树脂表面相对均一,OneGloss抛光后树脂表面有划痕、空穴、填料颗粒突出等结构。结论3种树脂之间、3种不同抛光方法之间Ra均值差异均存在统计学患义,抛光效果具有材料依赖性。