上颌磨牙近中颊根第二根管的检出率

目的 探讨上颌磨牙近中颊根第二根管(MB2)的临床检出率以及手术显微镜在提高上颌磨牙临床检出率中的作用.方法 选取进行常规根管治疗的63颗上颌第一磨牙.27颗上颌第二磨牙,以及进行显微根管治疗的55颗上颌第一磨牙,20颗上颌第二磨牙,2颗上颌第三磨牙,分别拍摄术前X线片,探查根管,记录根管数目.结果 进行常规根管治疗的上颌第一磨牙和上颌第二磨牙,MB2检出率分别为28.6%和3.7%;进行显微根管治疗的上颌第一磨牙和上颌第二磨牙,MB2检出率分别是61.8%和25%:对上颌第一磨牙常规根管治疗和显微根管治疗的MB2临床检出率进行卡方检验,X2=13.17,差异有统计学意义(P<0.001);对上颌第二磨牙常规根管治疗和显微根管治疗的MB2临床检出率进行Fisher确切概率值检测,单侧比较值为0.043,差异有统计学意义(P<0.05).结论 手术显微镜有助于提高上颌磨牙MB2的临床检出率,选择显微根管治疗有助于提升上颌磨牙根管治疗的成功率.     

上颌第二磨牙近中颊根第二根管的解剖定位

目的:观察髓室底的解剖形态和根管口的数目和位置,探寻近颊根第二根管(MB2)根管口的定位规律.方法:选择 (7|7)离体牙220 颗,利用耳鼻喉科内窥镜系统对髓室底进行观察,测量髓室底根管口之间的位置关系,统计MB2出现率,探寻MB2根管口定位规律. 结果:髓室底观察发现,MB2基本上发生在MB-P连线的近中舌侧,MB2的发生率为38.2%. MB2-MB的距离为(1.56±0.65) mm.MB-DB的距离为(2.34±0.78) mm, MB-P的距离为(5.05±1.26) mm.∠MB2-MB-P的角度为(22.21±10.35)°. 结论:MB2根管口多位于MB-P连线的近中舌侧,且在以MB为中心, MB-P为一边,向近中做角度为(22.21±10.35)°的扇形范围内基本上能找到MB2.     

上颌磨牙近中颊根第二根管的定位与扩通

目的　研究上颌磨牙近中颊根第二根管口 (secondmesiobuccalcanal,MB2 )与近中颊根管口 (mesiobuccalcanal,MB)、腭侧根管口 (palatal,P)的相对位置关系 ;探讨根管显微镜在上颌磨牙MB2治疗中的作用。方法　选取 1 1 3颗上颌磨牙 ,截去牙冠后肉眼寻找并扩通MB2根管 ,然后将未找到MB2或不能扩通的标本利用根管显微镜重复上述操作。对找到MB2根管的标本进行扫描 ,利用Image Proplus 4 .0图像分析软件分析MB2根管口与MB、P根管口的关系。结果　MB MB2距离为(1 47± 0 54)mm ,MB P距离为 (5 77± 0 66)mm ,MB2根管口与MB P连线的垂直距离为 (0 53±0 2 8)mm ,MB P连线与MB MB2连线的夹角 (α)为 2 3 0 7°± 1 3 0 8°。肉眼下有 70颗找到MB2根管口(61 9% ) ,其中 53颗通畅 (46 9% ) ;在根管显微镜下又有 6颗找到MB2 ,其中 4颗MB2根管通畅 ,MB2根管发现率提高 5 4% ;原MB2不通畅的根管又有 2颗通畅 ,MB2根管通畅率提高 5 4%。结论　MB2根管位于MB舌侧 2mm以内及MB P连线近中 1mm以内 ;上颌磨牙MB2发现率为 67 3 % ,其中52 2 %通畅 ;根管显微镜可以提高MB2的发现率及扩通率     

使用手术显微镜对上颌第一磨牙近中颊侧第二根管应用解剖的研究

目的：使用手术显微镜（operating microscope,OM）研究上颌第一磨牙近中颊侧第二根管口（MB2）形态和解剖位置关系，为根管治疗时寻找根管口提供解剖学依据。方法：采用UNIVERSA300/FS2012手术显微镜，观察110个上颌第一磨牙的MB2根管口形态及其发生率。结果：上颌第一磨牙的MB2出现率为38%；根管口的形态为圆形和卵圆形。结论：使用手术显微镜可以有效地发现MB2。     

上颌第二乳磨牙近中颊根第二根管的临床研究

探讨上颌第二乳磨牙近颊第二根管（MB2）的特征及临床治疗方法。选取患牙髓炎或根尖周炎的上颌第二乳磨牙95颗,拍摄术前及根充后 X 线片,采用耳鼻喉内窥镜观察测量髓室底各根管口位置关系;术中采用10号锉结合17％EDTA 凝胶探查根管,手动器械进行根管预备,螺旋输送器导入 Vitapex 糊剂充填根管。在95颗上颌第二乳磨牙中,有14颗存在 MB2,发现率为14．7％,MB2位于 MB-P 根管口之间假想连线的近中。     

上颌磨牙近中颊根第二根管口的解剖定位

目的　寻找上颌磨牙近中颊根第二根管 (MB2 )根管口的定位规律。方法　收集离体上颌第一、二磨牙共 5 5 0颗。根管显微镜 (DOM)下探查根管口 ,拍摄髓底图片 ,测量髓底一系列参数 ,分析MB2根管口定位规律。结果　DOM下MB2发现率在上颌第一磨牙和第二磨牙分别为 78.2 4 %和 4 1.32 %。MB2根管口位于MB P根管口连线的近中 ,与该连线的垂直距离在上颌第一磨牙和第二磨牙分别为 0 .6 6mm和 0 .6 3mm ;距近颊根主根管 (MB)根管口距离分别为 1.32mm和 1.2 1mm。结论　建议临床医生在探查上颌磨牙髓底时 ,可在MB P根管口假想连线的近中、距其 0 .5～ 1.0mm ,距MB根管口 1.0～ 2 .0mm ,使MB MB2根管口间假想的、微凸向近中的弧形连线与近中边缘嵴平行处寻找MB2根管口。     

上颌第二磨牙近中颊根第2根管的治疗体会

上颌磨牙根管形态及数目的多样性增加了根管治疗的复杂性,特别是上颌第二磨牙,更加重了完善根管治疗的困难。作者总结2004．9-2006．5期间对上颌第二磨牙近中颊根第二根管（MB2）的治疗,总结如下：     

根管显微镜在定位上颌磨牙近颊根第二根管中的作用

目的:评价改进开髓口和应用根管显微镜(DOM)定位离体上颌第一、二磨牙近颊根第二根管(MB2)的能力.方法:收集离体上颌第一、二磨牙共550颗.在肉眼、传统三角形开髓口(N.E-1),肉眼、改进开髓口(N.E-2)和根管显微镜辅助(DOM)三种不同条件下分别探查根管,记录MB2数目.结果:N.E-1、N.E-2和DOM三种不同条件下,MB2发现率在上颌第一磨牙分别为34.26%、51.85%和78.24%;第二磨牙分别为16.17%、23.65%和41.32%.改进开髓口和使用DOM可显著提高MB2发现率,与传统开髓口间的差别有统计学意义,P＜0.05.结论:建议将上颌磨牙开髓口由传统的三角形改为斜四边形,并使用合适的放大技术和增强照明,以提高MB2发现率和治疗率.     

上颌第一磨牙近颊第二根管的临床治疗

目的 探讨上颌第一磨牙近烦第二根管（second mesiobuccal canal，MB2）的特征及临床治疗方法。方法 选取患牙髓炎或根尖用炎的上颌第一磨牙95颗，拍摄术前X线片，术中采用小号K锉配合15％EDTA溶液探查根管，记录根管数目、形态和类型；采用机动镍钛器械Hero642进行根管预备，侧向加压充填技术充填根管。结果上颌第一磨牙MB2的发现率为81．1％，扩通的MB2占72．6％，多数MB2根管细小弯曲，需用小号锉配合使用EDTA进行疏通，机动镍钛器械预备根管无明显并发症。结论上颌第一磨牙MB2的发生率高，多数根管细小弯曲，小号K锉配合EDTA疏通根管，机动镍钛器械预备可获得良好的治疗效果。     

上颌磨牙近中颊根第二根管的研究现状

通过回顾上颌磨牙近中颊根第二根管发生率、分类、解剖特点及其定位和扩通的研究现状，为完善上颌磨牙根管治疗提供参考。     

上颌第二恒磨牙近中颊根第二根管的离体牙研究

目的研究上颌第二恒磨牙近中颊根第二根管（MB2）的发生情况,为提高上颌第二恒磨牙根管治疗的成功率提供解剖学基础。方法于山东地区收集离体上颌第二恒磨牙118颗,采用斜方型开髓洞型开髓,利用小号C型锉探查并疏通根管,记录MB2的发现率及扩通率;拍摄X线牙片,记录近中颊根的根管数目、形态和类型;在根管显微镜下观察并应用数显卡尺测量近中颊根主根管和MB2根管口之间的距离,确定根管口的位置;记录近中颊根的根尖孔数目,并测量解剖根尖孔至解剖根尖的距离。结果118颗上颌第二恒磨牙中,有58颗发现MB2,发现率为49.15%;其中48颗牙齿的MB2被扩通,扩通率为82.76%。108颗3根牙中,近中颊根的根管形态为Ⅰ型者有50颗,占46.30%;Ⅱ型及Ⅲ型者分别为14和34颗,占12.96%和31.48%。近中颊根主根管口与MB2根管口的平均距离为1.26 mm;近中颊根解剖根尖孔至解剖根尖的距离平均值为1.13 mm。结论山东地区上颌第二恒磨牙MB2的发现率较高,临床治疗中采用改良的斜方型开髓孔有利于发现MB2,用X线片确定工作长度时需要结合临床综合判断根尖孔的位置。     

上颌磨牙近中颊根的寻找和扩通

目的：寻找并尽量扩通上颌磨牙近中颊根第二根管，统计其发生率及通畅率。方法：离体上颌磨牙11颗，开髓、拔髓，寻找并尽量扩通近中颊根第二根管即MB2，根管预备、充填，拍片。统计其发生及发现率。临床上对146颗上颌磨牙开髓、拔髓，寻找并尽量扩通近中颊根第二根管即MB2，根管预备，充填，拍片。结果：离体牙10颗，上颌第一磨牙近中颊根第二根管发现率为60％，通畅率为50％。94颗上颌第一磨牙，近中颊根第二根管发现率为44.68％.通畅率为29.78％，52颗上颌第二磨牙，发现率为11.53％，通畅率为7.69％。结论：上颌第一磨牙近中颊根第二根管的发生率较高，其寻找、定位及扩通尽管有一定的困难，临床医生仍应注意寻找，以提高上颌磨牙根管治疗的成功率。     

上颌第一磨牙近中颊根第二根管肉眼发现率的临床研究

选择临床209例上颌第一磨牙,采用改良髓腔入路探查并治疗近中颊根第二根管(MB2),研究其临床发现率和影响因素。结果显示209例上颌第一磨牙MB2临床肉眼发现率为45.9%,年龄及再治疗对其发现率有显著影响。MB2在上颌第一磨牙中具有较高发生率,年轻患者及未经治疗病例在临床肉眼操作下更易发现MB2根管口。     

上颌磨牙近颊根根管类型及其临床意义

目的：运用透明标本法观察离体上颌第一、二磨牙近颊根根管形态，并进行分类和讨论其临床意义。方法：收集离体上颌第一、二磨牙共275颗，制成透明标本。根管显微镜下观察、记录近颊根的根管数目、走向、融合和分支情况，并进行分类。结果：①上颌磨牙近颊根管形态各异，可概括为八种类型，双根管中以2-1型和2-2型多见；双根管率在第一磨牙和第二磨牙分别为81．48％和49．7％。②近颊根主根管(MB)和近颊根第二根管(MB2)的尖1/3多弯向远中，MB2在近根管口1mm-3mm处有一斜向近中的弯曲点。结论：掌握上颌磨牙近颊根1-2型、2-1-2型和1-2-1型根管形态，是提高上颌磨牙根管治疗技巧和成功率的关键；有效去除根管近中壁部分突起的牙本质，以减小冠1/3处的弯曲度，可望提高MB2根管的探通率。     

上颌第一磨牙遗漏近颊第二根管的显微根管再治疗

目的：探讨运用根管显微镜对经治的上颌第一磨牙遗漏近颊第二根管（MB2）的诊治方法。方法：选择需行根管再治疗的上颌第一磨牙64个。依据x线片特征,牙冠与髓底的形态特点判断是否存在MB2。采用斜方形开髓入口,小号K锉探查,必要时使用根管手术显微镜定位MB2根管。镍钛机用根管锉冠向下法预备根管,1％NaOCL冲洗根管系统,冷牙胶侧方加压与热牙胶垂直加压充填根管。记录近颊根根管分型、根管预备过程中并发症的情况,评价疗效。结果：再治疗中共发现MB2根管55个（85．81％）,疏通45个（80％）。近颊根双根管以2—1型、2—2型较常见（76．56％）。治疗过程中未发生器械折断、管壁侧穿等并发症,治疗成功率为95．55％。结论：上颌第一磨牙MB2发生率高,通常狭窄、弯曲、隐蔽,是临床治疗的难点;临床医生有意识地寻找和在显微镜下的可视化操作能提高MB2根管的发现率和治疗的成功率。     

上颌第一磨牙近中颊侧第二根管的诊断及治疗

目的探讨上颌第一磨牙近中颊侧第二根管的临床发现及治疗效果。方法选择有近中颊侧第二根管的上颌第一磨牙根尖周炎、牙髓炎患者共20例，通过X线片及临床经验寻找并确诊近中颊侧第二根管。采用常规逐步后退法预备根管，侧方加压充填根管。结果20颗患牙经完善的根管治疗后6、12个月复诊，患者无主观症状，咀嚼功能良好，X线检查原有根尖阴影明显缩小，或未见新的根尖病变发生，临床疗效均为成功。结论术前、术中、术后的X线片对上颌第一磨牙近中颊侧第二根管的诊断及治疗有较大帮助。     

上颌磨牙近中颊根根管截面形态的研究

目的：研究国人离体上颌第一、二磨牙近中颊根根管的内径和截面形态，为临床进行上颌磨牙根管治疗提供理论参考。方法：收集离体上颌第一磨牙108个，上颌第二磨牙167个。自根管口水平截取近中颊根，包埋。自根尖面开始每隔1mm横切牙根至距根尖6mm处，第7个横切面平近中颊根的根管口水平面。根管显微镜（DOM）下观察、拍摄每个牙根的7个切片的冠面，记录每个冠面含有的根管数，测量各截面各根管的颊舌径和近远中径，并按标准记录根管截面形状。结果：上颌第一磨牙共截取756个切片，均见近中颊根主根管（MB），464个切片中可观察到近中颊根第二根管（MB2）；上颌第二磨牙共截取1169个切片，含MB共1169个，MB2共442个；含MB2的标本数在上颌第一磨牙和第二磨牙分别为96个和90个，占88．89％和53．89％。近中颊根主根管（MB）的颊舌径多大于近远中径，截面形状以扁形和椭圆形多见，但愈近根尖，两径间的差距愈小，即MB愈近根尖，愈趋向成圆形：近中颊根第二根管（MB2）的颊舌径和近远中径间的差距变化不大，截面形状以圆形最多，椭圆形次之，扁形最少。结论：上颌第一、二磨牙近中颊根的根管截面形态复杂，提示临床上需配合有效的清理和成形技术以提高该牙位的根管治疗成功率。     

上颌磨牙近中颊根第二根管出现率及临床意义

目的研究离体上颌磨牙近中颊根第二根管（second mesiobuccal canal，MB2）在上颌第一、第二磨牙的出现率。方法离体上颌第一磨牙62颗和第二磨牙70颗，采用髓室底探查法和透明牙标本法分别观察记数MB2。结果髓室底探查法中上颌第一、二磨牙MB2的出现率分别为80．65％和48．57％，上颌第一磨牙MB2的出现率高于第二磨牙，差异有统计学意义（χ2=14．62，P=0．00）。透明标本法中上颌第一、二磨牙MB2的出现率分别为77．42％和44．29％，上颌第一磨牙MB2的m现率仍高于第二磨牙，差异有统计学意义（χ2=15．02，P=0．02）。上颌磨牙MB2的出现率在髓室底探查法和透明标本法中分别为63．64％和59．85％，两方法间的差异无统计学意义（χ2=0．04，P=0．22）。结论上颌磨牙MB2的出现率高，且忙颌第一磨牙MB2的出现率高于第二磨牙．临床医生应努力探查该根管以提高上颌磨牙根管治疗的远期疗效。