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头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极上的电化学行为及其痕量测定
引用本文:顾海鹰,孙登明,俞爱民,陈洪渊.头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极上的电化学行为及其痕量测定[J].南通医学院学报,1996(4).
作者姓名:顾海鹰  孙登明  俞爱民  陈洪渊
作者单位:淮北煤炭师范学院化学系,南京大学化学系
基金项目:国家自然科学和教委博士点基金
摘    要:应用循环伏安法(CV)和示差脉冲吸附阴极溶出伏安法(DPAdCSV),研究头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极(HCADME)上的电化学行为及电极反应机理,发现头孢唑啉钠与Cu(Ⅱ)形成配比为1∶1的配合物,并吸附在HCADME上,反应电子数为2。并建立了示差脉冲吸附阴极溶出伏安法(DPAdCSV)测定痕量头孢唑啉钠的灵敏方法。其测定的线性范围为6×10 ̄(-1)~1×10 ̄(-9)mol/L;检测限约为4×10 ̄(-10)mol/L(t_(ac)=120s)。本法用于注射剂中该物质的测定,结果满意。用本法直接测定尿中头孢唑啉钠是可能的。

关 键 词:悬铜汞齐微电极(HCADME)  头孢唑啉钠  示差脉冲吸附阴极溶出伏安法(DPAdCSV)

ELECTROCHEMICAL BEHAVIOR OF CEFAZOLIN SODIUM AT HANGING COPPER AMALGAM DROPPING MICROELECTRODE AND ITS TRACE DETERMINATION
Gu Haiying,Sun Dengming,Yu Aimin,Chen Hongyuan.ELECTROCHEMICAL BEHAVIOR OF CEFAZOLIN SODIUM AT HANGING COPPER AMALGAM DROPPING MICROELECTRODE AND ITS TRACE DETERMINATION[J].ACTA Academiae Medicinae Nantong,1996(4).
Authors:Gu Haiying  Sun Dengming  Yu Aimin  Chen Hongyuan
Abstract:
Keywords:Hanging copper amalgam dropping microelectrode(HCADME)  Cefazolin sodium  Differential pulse adsorption cathodic stripping voltammetry(DPAdCSV)
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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