磁共振弥散成像

在磁共振成像中,组织对比度不仅取决于每个像素内组织的T1和T2弛豫时间、质子密度,还与这个像素内存在的质子流动或弥散现象有关。弥散表示的是分子或质子的位移情况,与组织的弛豫时间无关。水分子的弥散现象是水分子随意热运动引起的,弥散的距离与方向将反映出水分子在弥散过程中所遇到的各种各样的“障碍”。水分子弥散现象对磁共振信号有一定的影响;在自旋回波脉冲中,它将加速组织的T2衰减。基于这一现象,设计出脉冲梯度磁场(pulsed magnetic field gradi-ent)自旋回波技术,即在自旋回波脉冲序列中的180°再聚焦脉冲前后各加一个弥散敏感梯度场,以检测水分子的弥散。 弥散成像使用两个强度相等、方向相反的弥散敏感梯度场,第一个梯度场使组织内质子失相位,第二个梯度场使失相位的质子再聚焦。弥散成像中,第一个梯度场使组织内质子失相位之后,弥散速度较快的质子,不断改变自己在磁场内位置,本身随机地产生去相位,第二个再聚焦脉冲梯度场因此不能使这些质子再聚焦,导致MR信号强度降低。也就是说在两个弥散敏感梯度脉冲之间发生的弥散现象使质子信号强度降低。弥散缓慢的质子在第二个再聚焦脉冲的作用下,大部分出现再聚焦,这样就在很大程度上维持了原有的信号强度(表现为相对的高信号)。弥散速度不同的