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| 缺陷型及非缺陷型精神分裂症脑白质异常—基于体素的脑形态学研究 | |
| 引用本文： | 王湘,王晓晟,颜莉蓉,谭长连,李亚军,司徒卫军,姚树桥. 缺陷型及非缺陷型精神分裂症脑白质异常—基于体素的脑形态学研究[J]. 中国临床心理学杂志, 2009, 17(4) |
| 作者姓名： | 王湘 王晓晟 颜莉蓉 谭长连 李亚军 司徒卫军 姚树桥 |
| 作者单位： | 1. 中南大学湘雅二医院医学心理研究中心,湖南,长沙,410011 2. 中南大学湘雅医学院人体解剖学与神经生物学系,湖南,长沙,410013 3. 广州军区武汉总医院信息科 4. 中南大学湘雅二医院放射科,湖南,长沙,410011 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金青年基金，教育部高等学校博士学科点专项科研基金新教师基金 |
| 摘 要： | 目的:应用基于体素的脑形态测量学方法,比较缺陷型与非缺陷型精神分裂症患者大脑白质结构损害的差异.方法:采用GE 1.5T MRI成像系统,对缺陷型精神分裂症(n=10)、非缺陷型精神分裂症(n=11)及正常对照(n=15)进行全脑扫描,获取脑解剖结构MR T1图像.随后在SPM2平台上使用VBM工具箱逐例进行全自动数据分析,再进行成组t检验.结果:与正常对照相比,缺陷型患者的白质密度降低区域主要是左侧额叶回下,而非缺陷型患者为左侧额叶回下、右颞中回、右枕叶舌回以及胼胝体.两型患者的比较显示,缺陷型患者双侧额上回以及右侧顶叶的白质密度低于非缺陷型组,而左侧额内侧回的白质密度高于非缺陷型组.结论:这是第一项运用VBM法考察缺陷型与非缺陷型患者之间脑白质损害不同的形态学研究.研究结果为缺陷型患者额一顶环路受损的假说提供了新的证据. |
| 关 键 词： | 精神分裂症 缺陷型 磁共振成像 基于体素的形态学分析 白质 |
White Matter Volume Differences in Deficit and Nondeficit Schizophrenia: A Voxel-based Morphometric Study |
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| WANG Xiang,WANG Xiao-sheng,YAN Li-rong,TAN Chang-lian,LI Ya-jun,SITU Wei-jun,YAO Shu-qiao. White Matter Volume Differences in Deficit and Nondeficit Schizophrenia: A Voxel-based Morphometric Study[J]. Chinese Journal of Clinical Psychology, 2009, 17(4) | |
| Authors: | WANG Xiang WANG Xiao-sheng YAN Li-rong TAN Chang-lian LI Ya-jun SITU Wei-jun YAO Shu-qiao |
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