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丝裂霉素C在高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术中的应用
作者姓名:韩有田  陈继红
作者单位:滁州市眼科医院,239000;滁州市眼科医院,239000
摘    要:目的观察丝裂霉素C在降低高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术术后角膜上皮下雾状混浊的临床效果。方法回顾性对比高度近视(-8.00D以上)患者,术中未用(对照组)和用0.02%丝裂霉素(实验组)各20例40只眼,分别于术后1个月、3个月、6个月随访结果,观察角膜雾状混浊的发生发展情况。结果实验组雾状混浊的发生明显低于对照组,差异具有统计学意义(P〈0.05)。结论丝裂霉素C在高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术术中的应用,可减轻术后雾状混浊的发生和发展。

关 键 词:高度近视  准分子激光上皮下角膜磨镶术  丝裂霉素C
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