|
|||||
|
|
| 低强度635 nm激光辐射致晶状体混浊观察分析 | |
| 作者姓名： | 叶瑞祺 彭建梅 彭旭 朱志良 董晓蕾 陈满连 马一欣 马争 |
| 摘 要： | 目的 研究长期反复接触低强度635 nm激光致眼晶状体混浊特征.方法 于2019年12月,采取整群抽样方法,选取2014年1月至2018年12月广东省某市生产激光水平仪车间812人作为研究对象,根据工作中接触激光情况分成对照组(不接触激光)、激光漫反射组和激光直视组进行晶状体损伤回顾性观察分析.调查各组岗位激光辐照强度... |
| 关 键 词： | 激光 辐射 晶状体混浊 激光水平仪 |