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设置缓冲间隙对下颌种植覆盖总义齿应力分布的影响
引用本文:宋文植,尹万忠. 设置缓冲间隙对下颌种植覆盖总义齿应力分布的影响[J]. 中华口腔医学杂志, 2000, 35(4): 263-265,I020
作者姓名:宋文植  尹万忠
作者单位:1. 130041,长春,白求恩医科大学第三临床学院口腔科
2. 吉林省肿瘤医院头颈科
摘    要:目的 分析设置缓冲间隙对下颌种植覆盖总义齿应力分布的影响。方法 应用三维有限元方法模拟正中开闭口运动中下颌种植覆盖总义齿的受力状态,分析冲击载荷下缓冲间隙的设置对义齿应力分布的影响。结果 缓冲间隙的设置可以降低种植体内部、种植体软硬组织界面和义齿基托内应力的峰值,最易引起种植体侧方界面骨吸收的压应力峰值降低了约52%。结论 设置缓冲间隙有利于保护种植体界面软硬组织的健康,防止义齿基托折裂,提高种植

关 键 词:下颌种植覆盖总义齿 缓冲间隙 应力分布

The effects of relieving space to stress distribution of mandibular implant-supported overdenture
SONG Wenzhi,YIN Wanzhong. The effects of relieving space to stress distribution of mandibular implant-supported overdenture[J]. Chinese journal of stomatology, 2000, 35(4): 263-265,I020
Authors:SONG Wenzhi  YIN Wanzhong
Abstract:
Keywords:Implant supported overdenture  Three-dimentional finit element method  Stress analysis
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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