不同支抗形式受力后上颌第一磨牙牙周膜应力分布的三维有限元分析 |
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作者姓名: | 孙茂军 陈凤山 |
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作者单位: | 同济大学附属口腔医院正畸科,上海,200072 |
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摘 要: | 目的通过三维有限元方法,建立不同支抗形式的三维有限元模型并模拟牙齿的受力移动,从而比较不同支抗形式下上颌第一磨牙的牙周膜的应力分布。方法建立含有不同支抗形式的4个三维有限元模型,模型Ⅰ以上颌第二前磨牙和第一磨牙为支抗;模型Ⅱ以上颌第二前磨牙、第一、二磨牙共同作为支抗;模型Ⅲ以通过横腭杆连接的两侧上颌第一磨牙作为支抗;模型Ⅳ以植入上颌第一、二磨牙牙槽间隔颊侧的微螺钉种植体作为支抗。通过分析4种不同支抗形式在受到1N近中向力后上颌第一磨牙牙周膜的Von mises应力,来比较4种不同支抗形式对控制上颌第一磨牙近中移动的效果。结果模型Ⅰ中上颌第一磨牙最大应力为6.29×10-2Mpa;模型Ⅱ中上颌第一磨牙最大应力为3.11×10-4Mpa,应力较模型Ⅰ较少了99.5%;模型Ⅲ中上颌第一磨牙最大应力为5.93×10-2Mpa,应力较模型Ⅰ仅减少了5.7%;模型Ⅳ中上颌第一磨牙最大应力为4.99×10-4Mpa,应力较模型Ⅰ减少了99.2%。结论把第二磨牙纳入支抗系统或使用微螺钉种植体都可以显著减少第一磨牙的近中移动,而横腭杆对抑制第一磨牙的近中移动基本没有作用。
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关 键 词: | 支抗 牙周膜应力 三维有限元 |
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