种植体支抗载荷部位对尖牙和磨牙应力分布的影响

目的利用有限元分析法,模拟Carrière Distalizer矫治器（CD矫治器）作用于上颌组牙。分析相同载力下,经不同部位的种植体支抗施力于CD矫治器时,上颌尖牙和磨牙的应力分布及位移变化。方法构建CD矫治器作用模式的三维有限元模型,设载荷力值为1.47 N（150 g）。载荷方向分别为尖牙和磨牙平面下夹角30°4、0°,平面上夹角15°,分别代表下颌远中、下颌近中、上颌3个部位的种植支抗。分析经不同部位的种植体支抗施力于CD矫治器时,上颌尖牙和磨牙的应力分布及位移情况。结果上颌种植支抗作用于磨牙的应力较小,但引起磨牙较大的位移;作用于尖牙的应力较大,但尖牙的位移却不明显。下颌近中种植支抗对尖牙的作用最为明显,使尖牙的应力分布最小,而位移却相对较大。结论经下颌远中、下颌近中、上颌3个不同位置的种植体支抗施力于CD矫治器,对磨牙和尖牙产生了不同影响,选择种植体支抗作为CD矫治器的支抗源时,位置选择应慎重。